一种硼扩散设备及其使用方法与流程

1.本发明属于光伏电池制造技术领域，尤其涉及一种硼扩散设备及其使用方法。


背景技术：

2.太阳能光伏技术是一种利用太阳能光子的能量来产生电能的技术。它通过将太阳能辐射转换成电能，使用太阳能电池板或光伏板来捕获太阳光子并将其转化为电能，并利用电池来将转化的电能进行储存。在电池制备过程的诸多工艺中，硼扩散过程为工艺的难点。
3.硼扩散是n型光伏电池中制备pn结的步骤，pn结质量是影响n型电池效率的直接因素。硼扩散是通过高温将硼源中的硼原子以三氧化二硼的形式沉积在硅片表面，其中的硼原子扩散进含磷太阳能硅片中，形成pn结。
4.当前行业内普遍使用三氯化硼气态硼源低压扩散炉进行硼扩散过程，由于运行压力较低（100mbar），同时三氧化二硼沸点较高，在炉管内以微小液滴的形式存在，导致炉管内的硼扩散均匀性较差。此外，目前现有的扩散炉进气系统一般采用单路进气，但是单路进气会导致气流分布不均匀，进一步导致硼扩散不均匀。
5.综上，目前需要一种能够有效提高硼扩散过程均匀度的扩散装置。


技术实现要素：

6.本发明目的是提供一种硼扩散设备，及其使用方法，本发明的硼扩散设备在控制硼扩散整体进气量不变的情况下，将常规的单路进气改为双路进气，即增加一路额外的进气管路，且该管路的出口处在炉管中部，炉管中部的进气管路具有水平方向的两个出气口，水平设置的出气口一方面均匀了炉体内部硼扩散均匀性，另一方面避免了硼源直接喷到硅片上。
7.本发明解决上述问题采用的技术方案是：一种硼扩散炉，应用于太阳能光伏技术中的电池制备过程，包括：炉体，用于提供扩散剂输送到硅片表面的场所；进气系统，位于所述炉体进气方向，并用于将所述扩散剂和惰性气体输送到所述炉体中；排气系统，位于所述炉体出气方向，并用于将扩散过程中产生的废气排出所述炉体；其中，所述进气系统包括至少部分设置在所述炉体内的前部进气管以及中部进气管，所述中部进气管位于所述炉体中部的部分的设有出气口，所述出气口的开口朝向水平。
8.其中，炉体是扩散炉光伏电池制造中进行硅片掺杂的主体设备，炉体的结构具体包括：1. 炉膛：炉体的炉膛是炉体的外壳部分，用于保护炉体内部的管体以及加热元件，同时也起到了隔热和保温的作用。炉膛通常由不锈钢、铝合金等材料制成，其内部涂覆
有高温绝缘材料，如陶瓷纤维、氧化铝等。
9.2. 加热元件：扩散炉的加热元件是实现炉管温度升高的关键部件，通常采用电阻丝、电磁线圈、辐射管等方式进行加热。加热元件的数量和位置根据炉管的长度和直径来确定，通常位于炉膛的内部。
10.3.温控系统：扩散炉的温控系统是实现温度控制的核心部分，通常包括温度控制器和程序控制器。温度控制器可以实时监测炉管内的温度，并根据设定值和反馈信号来控制加热元件的加热功率。程序控制器可以根据扩散过程的需要，自动调整温度控制器的参数和工作模式，从而实现温度的升降和稳定。此外还包括实现温度测量的传感器，通常采用热电偶、红外线传感器、光纤传感器等方式进行测量。传感器可以实时监测炉管内的温度分布和变化，并将测量值传输给控制器进行处理和调整。
11.4.冷却系统：扩散炉的冷却系统是实现温度降低和炉管保护的关键部分，通常由水冷壳、水管、水泵等组成。水冷系统可以通过循环水来降低炉管的温度，从而保护炉管和加热元件，同时也可以控制炉体的温度分布和稳定性。
12.此外，进气系统是将扩散剂和惰性气体引入炉体，实现扩散过程的关键部分。扩散炉的出气系统是将扩散剂和废气排出炉体，实现气氛控制和废气处理的关键部分。此外，在进气系统与出气系统上，还各自设置了控制进气和排气的比例和流速的气氛控制系统以及气体流动控制系统。
13.此外，本技术中，进气系统包括前部进气管和中部进气管的组合，具有以下优点：1. 均匀分布气体：采用前部进气管和中部进气管的组合，可以实现气体在炉体内的均匀分布。前部进气管和中部进气管可以分别向炉体的前部和中部喷气，从而使气体分布更加均匀，避免了气体流动不均匀带来的问题。
14.2. 控制气氛：采用前部进气管和中部进气管的组合，可以实现气氛的精确控制。前部进气管和中部进气管可以控制不同气氛的比例和流速，从而实现对炉内气氛的精确控制。
15.3. 方便维护：采用前部进气管和中部进气管的组合，可以方便维护。前部进气管和中部进气管可以分别进行维护和更换，不会影响整个进气系统的正常运行。同时，可以根据需要对进气管的数量和位置进行调整，以满足不同的扩散需求。
16.此外，中部进气管位于所述炉体中部的部分的设有出气口，且出气口的开口朝向水平，这样既可以将沿炉体轴向进行传递的气流转为径向，避免了气体直接从炉体近端传递到远端，实现均匀分布气体，另一方面也能够通过调节出气口的开口大小来调节气体的流速和流量，从而实现对气氛的精确控制。并且水平设置的出气口，能够有效避免气体直接喷到硅片上，避免硅片上硼扩散不均匀。
17.进一步优选的技术方案在于：所述中部进气管包括输送管，以及设置在所述输送管远端的端头管，所述出气口设置在所述端头管侧壁上。
18.进一步优选的技术方案在于：所述端头管远端设有弧形封头，所述弧形封头（202b2）为弧形薄壁壳体。
19.进一步优选的技术方案在于：所述输送管远端设有安装槽，所述端头管近端设有用于配合所述安装槽的安装凸起。
20.进一步优选的技术方案在于：所述安装槽与所述安装凸起上设有互相配合的安装
螺纹。
21.进一步优选的技术方案在于：所述输送管远端还设有锥形端，所述锥形端向远端轴向逐渐收缩以形成用于导向气流的锥形口。
22.进一步优选的技术方案在于：所述锥形端尖端面与所述出气口轴线位于同一平面。
23.进一步优选的技术方案在于：所述锥形端远端面上设有阻滞凹槽。
24.所述硼扩散炉的使用方法，包括如下步骤：s01. 装载硅片：将清洗好的硅片装入所述炉体中；在装载之前，需要将待处理的硅片进行清洗和检验，确保表面干净无尘，并检查硅片表面是否有裂纹或缺损等缺陷。
25.装载时，打开扩散炉的炉门，将装有硅片的硅片舟放入炉膛中。在放入硅片舟时，要注意硅片舟与炉膛之间的间隙应该尽可能小，以避免气体流动不均匀。
26.放置时，硅片舟放置在扩散炉中的适当位置，通常是放置在炉膛中心位置。同时还需将硅片舟与进气口之间的距离进行调整，以保证气体能够均匀地流过硅片表面。
27.s02. 设定参数：在所述炉体控制系统中输入扩散过程所需的参数；其中，参数包括进气量、进气比例、温度等参数，具体为：进气量的控制：进气量是指扩散炉中进入气体的总量，通常用标准升数（slm）或标准立方米（sccm）表示。进气量的控制需要根据硅片的尺寸、扩散材料、气氛要求等因素进行调整。通常情况下，进气量与扩散时间成正比，进气量越大，扩散时间越短。进气量的控制可以通过扩散炉上的流量计进行调节。
28.进气比例的控制：进气比例是指不同气体在扩散炉中的比例，通常用体积分数或摩尔分数表示。不同的气氛要求不同的进气比例，进气比例的控制可以通过扩散炉上的流量计和比例阀进行调节。
29.温度的控制：温度是扩散过程中最重要的参数之一，需要根据不同的扩散材料和工艺要求进行调节。温度的控制可以通过扩散炉上的温度控制器进行调节。在扩散过程中，温度会随着时间的推移而发生变化，需要根据具体的扩散方案和工艺要求进行调整。
30.扩散时间的控制：扩散时间是指扩散过程的持续时间，通常以分钟或小时计量。扩散时间的控制需要根据扩散材料、硅片尺寸、进气量等因素进行调节。扩散时间一般在几分钟到几小时之间，需要根据具体的扩散方案和工艺要求进行调整。
31.s03. 启动炉体：启动所述炉体的加热元件和所述进气系统以及所述排气系统；s04. 输送扩散剂：将扩散剂和惰性气体的混合气体从所述进气系统输送到扩散炉中，其中所述混合气体在前部进气管与中部进气管进气量体积比例为1：（0.2-0.5）；其中，中部进气管进气量要稍微少于前部进气管，这是因为来自前部进气管的气体会逐渐扩散到整个炉体中，而中部进气管的气体由于气流流动的方向，基本只能流动到炉体尾部，很难扩散到炉体前端，中部进气管的作用主要为弥补炉体尾部气体扩散的不足，所以当中部进气管进气量要稍微少于前部进气管时，能够有效的提高炉体内气体扩散的均匀性。
32.s05. 停止扩散：在设定的时间后，停止扩散剂的输送和加热元件的加热，等待所述炉体冷却；
s06. 取出硅片：将扩散好的硅片从所述炉体中取出。
33.此外，在硅片从炉体中取出，还需要进行后续处理，包括关闭炉门、冷却炉体、清洗硅片、检查硅片等，通过检查硅片的质量也能够判断出炉内气体扩散的均匀程度。
34.进一步优选的技术方案在于：s04中，所述混合气体先向所述中部进气管内通气，然后再向所述前部进气管内通气，二次通气之间间隔为30-50s。
35.在硅片扩散过程中，先向中部进气管通气，再向前部进气管通气，这样设计的好处主要在于，先向中部进气管通气可以先将气体均匀地分布到硅片的中央区域，然后再向前部进气管通气，使气体从硅片的中央向两端扩散，从而提高了扩散的均匀性。并且从中部进气管通气开始，气体可以迅速地在硅片上扩散，从而可以缩短扩散的时间，提高生产效率。此外，从中部进气管开始通气，能够更有效的弥补炉体尾端硼源浓度不足的问题。
36.所述硼扩散炉的应用方法，主要用于n型光伏电池中制备pn结的步骤。
37.pn结的制备通常采用硼扩散的方法，即在n型硅片表面加入少量的硼元素，形成p型区域，从而在n型硅片和p型硅片之间形成pn结。扩散过程中炉体运行压力较低（100mbar左右），扩散过程较慢，且扩散不均匀，采用本技术的扩散炉进行扩散过程，能够更有效地提高扩散速度，以及扩散的均匀程度。
38.综上，本发明的有益之处主要包括以下几点：1.采用前部进气管和中部进气管的组合，可以实现气体在炉体内的均匀分布。前部进气管和中部进气管可以分别向炉体的前部和中部喷气，从而使气体分布更加均匀；2.当气体通过进气管进入锥形口时，由于锥形口的设计，气体通过较小的扩散炉口直径时，将会被挤压，从而使气体的流速增大，以保证气体的流量不变。锥形口的设计使得低压气体流动速度更快，更容易从出气口排出，进而提高气体分布的均匀程度；3.锥形端通过远端面将气流导向至出气口，即沿着出气口开口方向流出，避免了气流淤积。
附图说明
39.图1为本发明中硼扩散炉的结构示意图。
40.图2为图1正面视角的示意图。
41.图3为图1近端侧面视角的示意图。
42.图4为图2沿竖向平面剖面的示意图。
43.图5为中部进气管远端部分的结构示意图。
44.图6为图5中输送管与端头管分离的示意图。
45.图7为图6中逆时针旋转视角的示意图。
46.图8为输送管远端设置锥形端的示意图。
47.图9为图5沿径向剖面的示意图。
48.图10为图8沿径向剖面的示意图。
49.图11为输送管与端头管内气体流动方向的示意图。
50.图12为锥形端远端面上设置阻滞凹槽的示意图。
51.附图中，各标号所代表的部件如下：炉体1，进气系统2，排气系统3，前部进气管201，中部进气管202，输送管202a，端头管202b，安装槽202a1，锥形端202a2，阻滞凹槽
202a3，出气口202b1，弧形封头202b2，安装凸起202b3，远端面11，近端面12,导向管202a4。
具体实施方式
52.《定义》“远端”和“近端”：根据气流在炉体中流动的方向，靠近气流流入的方向为近端，靠近气流流出的方向为远端。
53.以下结合附图对本发明作进一步详细说明。
54.本具体实施例仅仅是对本发明的解释，其并不是对本发明的限制，本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造性贡献的修改，但只要在本发明的权利要求范围内都受到专利法的保护。
55.实施例一：在本实施例中，硼扩散炉包括：炉体1，进气系统2，排气系统3，其中：进气系统2包括前部进气管201，中部进气管202；中部进气管202包括输送管202a，端头管202b；输送管202a包括安装槽202a1，锥形端202a2，阻滞凹槽202a3；端头管202b包括出气口202b1，弧形封头202b2，安装凸起202b3。
56.参考图1，展示了硼扩散炉的结构示意图。可见本实施例中的扩散炉为一个封闭的圆柱形箱体，外壳由不锈钢等金属制备而成，在其近端设置了进气系统2。
57.参考图2，展示了图1正面视角的示意图。可见在炉体1的远端还设置了排气系统3。
58.参考图3，展示了图1近端侧面视角的示意图。近端侧面进一步展示了进气系统2的排布，所述进气系统2包括至少部分设置在所述炉体1内的前部进气管201以及中部进气管202，其中中部进气管202位于前部进气管201的上方。
59.参考图4，展示了图2沿竖向平面剖面的示意图。可见中部进气管202内端向炉体1内延伸至炉体1的中部位置，前部进气管201的内端仅延伸至炉体1的近端位置。
60.参考图5，展示了中部进气管远端部分的结构示意图。可见在中部进气管202的远端处设置了对称的出气口202b1，出气口202b1设置在端头管202b侧壁上，并且在端头管202b的近端侧连接有输送管202a，用于将混合气体从输送管202a输送到端头管202b，在经由出气口202b1排出。
61.参考图6，展示了图5中输送管与端头管分离的示意图。可见在端头管202b与输送管202a连接处设有一个环形的安装凸起202b3，以用于将端头管202b安装在输送管202a上。
62.参考图7，展示了输送管远端设置锥形端的示意图。可见在输送管202a与端头管202b连接处设有与安装凸起202b3对应的一个环形的安装槽202a1，当安装凸起202b3插入安装槽202a1后，即可完成端头管202b安装在输送管202a上的目的。此外，安装槽202a1与安装凸起202b3上也可以设有互相配合的安装螺纹，通过螺接的方式将端头管202b安装在输送管202a上。
63.参考图8-图9，展示了图5沿径向剖面的示意图。所述输送管202a远端还设有锥形端202a2，所述锥形端202a2向远端轴向逐渐收缩以形成用于导向气流的锥形口。根据速度连续性原理，当气体通过进气管进入锥形口时，由于锥形口的设计，气体通过较小的扩散炉
口直径时，将会被挤压，从而使气体的流速增大，以保证气体的流量不变。锥形口的设计使得低压气体流动速度更快，更容易从出气口202b1排出，进而提高气体分布的均匀程度。
64.参考图10，展示了图8沿径向剖面的示意图。图中能够更加清晰的观察到锥形端202a2的具体结构，相对设置的两个出气口202b1，以及位于弧形封头202b2近端侧的弧形薄壁壳体具体结构。
65.参考图11，展示了输送管与端头管内气体流动方向的示意图。剪头方向展示了气体的流动方向，其中气体从输送管202a向锥形端202a2流动时，先接触到近端面12，然后气流向锥形端202a2的锥形口处汇集，接着向远端流动并接触到弧形封头202b2近端的弧形薄壁壳体，气流向两侧180
°
转弯并形成回流，随后接触到锥形端202a2的远端面11之后气流方向发生90
°
的转弯，并最终从出气口202b1流出。
66.特别的，锥形端202a2在以上过程中起到了两个作用：1.通过近端面12汇聚气流，使得气流速度更快，以便后续从出气口202b1流出；2. 通过远端面11将气流导向至出气口202b1。
67.参考图12，展示了锥形端202a2远端面上设置阻滞凹槽的示意图。可见在近端面12上排布了若干个具有弧形内槽的阻滞凹槽202a3，其作用在于减缓气流的速度，使其以正常的速度逸出，从而避免气流直接喷射到硅片上，造成不均匀的现象。
68.实施例二：在本实施例中，硼扩散炉的结构与实施例一基本相同，不同之处在于，不包括锥形端202a2。
69.实施例三：在本实施例中，硼扩散炉的结构与实施例一基本相同，不同之处在于，锥形端202a2上还设有导向管202a4。
70.再次参考图12，锥形端202a2远端还设置了与锥形口开口大小相同的导向管202a4，导向管202a4的作用在于，避免正向气流与逆向气流发生交汇而导致气体流速下降，而淤积在管体内部。
71.对比例一：在本对比例中，硼扩散炉的结构与实施例一基本相同，不同之处在于，进气系统2不包括中部进气管202及其包括的各个部件。
72.对比例二：在本对比例中，硼扩散炉的结构与实施例一基本相同，不同之处在于，中部进气管202的出气口202b1朝远端方向。
73.实施例四：在本实施例中，硼扩散炉的使用方法包括如下步骤：s01. 装载硅片：将清洗好的硅片装入所述炉体1中；s02. 设定参数：在所述炉体1控制系统中输入扩散过程所需的参数；s03. 启动炉体：启动所述炉体1的加热元件和所述进气系统2以及所述排气系统3；s04. 输送扩散剂：将扩散剂和惰性气体的混合气体从所述进气系统2输送到扩散炉中，其中所述混合气体在前部进气管201与中部进气管202进气量体积比例为1： 0.5；所
述混合气体先向所述中部进气管202内通气，然后再向所述前部进气管201内通气，二次通气之间间隔为50s。
74.s05. 停止扩散：在设定的时间后，停止扩散剂的输送和加热元件的加热，等待所述炉体1冷却；s06. 取出硅片：将扩散好的硅片从所述炉体1中取出。
75.为了验证以上实施例的有益效果，本发明还进行了实际试验，相关测试内容和结果如下：试验例一：方块电阻法方块电阻法是一种常用的测试扩散炉中硼浓度分布的方法。该方法通过测量扩散硅片的电阻值来反映扩散硅片表面硼浓度的分布情况。具体步骤如下：1.制备扩散硅片：首先需要制备扩散硅片，并在硅片表面生长一层氧化层，作为扩散源和探测器。在硅片的不同区域上刻蚀出方块形状，每个方块的大小为几毫米到十几毫米不等，厚度约为几微米到几十微米不等；2.扩散硼源：将硅片放置在扩散炉中，将硼源扩散到硅片表面，形成硼掺杂层。在扩散过程中，需要控制扩散时间、温度和气氛等参数，以控制硼源的扩散深度和浓度。
76.3.测量电阻值：在扩散硅片的不同区域上，测量方块电阻的电阻值。电阻值与硅片表面硼浓度成反比，即电阻值越小，硼浓度越高。
77.4.计算硼浓度：根据电阻值和硅片的几何尺寸，可以计算出扩散硅片表面的硼浓度分布情况。通常需要结合现有技术中计算机模拟等方法，对测试数据进行处理和分析，以获得更准确的硼浓度分布数据。
78.采用实施例四所记载的制备方法，并通过试验例一所记载的测试方法，对实施例一、二、三以及对比例一、二的硼扩散炉进行测试，结果如下表所示：表1由表中可知，实施例一、二、三的扩散炉，炉内硼源的分布都较为均匀，而对比例一、二的扩散炉，炉内硼源的分布均匀性明显不如实施例一、二、三。
79.此外，对比实施例一与对比例一的结果，可见设置中部进气管202，对提高硼源分布的均匀度有极大的帮助，参考图11-12，也能明显看到二者内部硼源分布的均匀度的差别，可见对比例一种，硼源靠近炉口的浓度很高，但是在炉尾却很低，反观实施例一种，基本实现了炉口至炉尾均具有相近的硼源浓度；对比实施例一与对比例二的结果，可见在出气口202b1水平设置时，其对均匀度的提升明显优于轴向设置的出气口。
80.此外，对比实施例一与实施例二的结果，可见设置锥形端202a2能够一定程度上改善硼源分布的均匀度。对比实施例一与实施例三的结果，可见锥形端202a2上设置导向管
202a4，也能够一定程度上改善硼源分布的均匀度。
81.实施例五：在本实施例中，所采用的方法与实施例四基本相同，不同之处在于，s04中，前部进气管201与中部进气管202进气量体积比例为1： 0.2，二次通气之间间隔为30s。
82.对比例三：在本对比例中，所采用的方法与实施例四基本相同，不同之处在于，s04中，同时对前部进气管201与中部进气管202进行通气。
83.对比例四：在本对比例中，所采用的方法与实施例四基本相同，不同之处在于，s04中，前部进气管201与中部进气管202进气量体积比例为1：1。
84.采用实施例一的硼扩散炉，并通过试验例一所记载的测试方法，对对比例三、四的使用方法进行测试，结果与实施例四、五的方法进行对比，结果如下表所示：表2由表中数据可知，在前部进气管201与中部进气管202未设置通气间隔时间时，炉中硼源扩散的均匀度有所下降。当前部进气管201与中部进气管202相等时，炉中硼源扩散的均匀度大幅下降。
85.此外，附图和描述中尽可能使用相同或类似的元件符号来指代相同或相似部分或步骤。附图是以简化形式呈现并且没有按精确比例绘制。仅为了方便和清楚起见，可以对附图使用诸如顶部、底部、左侧、右侧、向上、上方、上面、下面、下方、后面和前面的方向术语。这些和类似方向术语不应被解释为以任何方式限制本公开的范围。

技术特征：
1.一种硼扩散炉，应用于太阳能光伏技术中的电池制备过程，其特征在于，包括：炉体（1），用于提供扩散剂输送到硅片表面的场所；进气系统（2），位于所述炉体（1）进气方向，并用于将所述扩散剂和惰性气体输送到所述炉体（1）中；排气系统（3），位于所述炉体（1）出气方向，并用于将扩散过程中产生的废气排出所述炉体（1）；其中，所述进气系统（2）包括至少部分设置在所述炉体（1）内的前部进气管（201）以及中部进气管（202），所述中部进气管（202）位于所述炉体中部的部分的设有出气口（202b1），所述出气口（202b1）的开口朝向水平；所述中部进气管（202）包括输送管（202a），以及设置在所述输送管（202a）远端的端头管（202b），所述出气口（202b1）设置在所述端头管（202b）侧壁上；所述端头管（202b）远端设有弧形封头（202b2），所述弧形封头（202b2）为弧形薄壁壳体；所述输送管（202a）远端还设有锥形端（202a2），所述锥形端（202a2）向远端轴向逐渐收缩以形成用于导向气流的锥形口；所述锥形端（202a2）尖端面与所述出气口（202b1）轴线位于同一平面；所述锥形端（202a2）上还设有导向管（202a4）。2.根据权利要求1所述的一种硼扩散炉，其特征在于，所述输送管（202a）远端设有安装槽（202a1），所述端头管（202b）近端设有用于配合所述安装槽（202a1）的安装凸起（202b3）。3.根据权利要求2所述的一种硼扩散炉，其特征在于，所述安装槽（202a1）与所述安装凸起（202b3）上设有互相配合的安装螺纹。4.根据权利要求1所述的一种硼扩散炉，其特征在于，所述锥形端（202a2）的远端面（11）上设有阻滞凹槽（202a3）。5.一种如权利要求1-4任一项所述的硼扩散炉的使用方法，其特征在于，包括如下步骤：s01. 装载硅片：将清洗好的硅片装入所述炉体（1）中；s02. 设定参数：在所述炉体（1）控制系统中输入扩散过程所需的参数；s03. 启动炉体：启动所述炉体（1）的加热元件和所述进气系统（2）以及所述排气系统（3）；s04. 输送扩散剂：将扩散剂和惰性气体的混合气体从所述进气系统（2）输送到扩散炉中，其中所述混合气体在前部进气管（201）与中部进气管（202）进气量体积比例为1：（0.2-0.5）；s05. 停止扩散：在设定的时间后，停止扩散剂的输送和加热元件的加热，等待所述炉体（1）冷却；s06. 取出硅片：将扩散好的硅片从所述炉体（1）中取出。6.根据权利要求5所述的硼扩散炉的使用方法，其特征在于，s04中，所述混合气体先向所述中部进气管（202）内通气，然后再向所述前部进气管（201）内通气，二次通气之间间隔为30-50s。

技术总结
本发明属于光伏电池制造技术领域，尤其涉及一种硼扩散设备及其使用方法。本发明硼扩散炉包括：炉体，用于提供扩散剂输送到硅片表面的场所；进气系统；排气系统；其中，所述进气系统包括至少部分设置在所述炉体内的前部进气管以及中部进气管，所述中部进气管位于所述炉体中部的部分的设有出气口，所述出气口的开口朝向接近水平。本发明的硼扩散设备在控制硼扩散整体进气量不变的情况下，将常规的单路进气改为双路进气，即增加一路额外的进气管路，且该管路的出口处在炉管中部，炉管中部的进气管路具有水平方向的两个出气口，水平设置的出气口一方面均匀了炉体内部硼扩散均匀性，另一方面避免了硼源直接喷到硅片上。面避免了硼源直接喷到硅片上。面避免了硼源直接喷到硅片上。


技术研发人员：陈庆敏 卓倩武 俞玉松 张旭冉 贾建英
受保护的技术使用者：无锡松煜科技有限公司
技术研发日：2023.06.28
技术公布日：2023/8/1