参数优化方法、记录介质和基板处理装置与流程

1.本说明书中公开的主题涉及一种参数优化方法、记录介质和基板处理装置。


背景技术：

2.如专利文献1所示，在将从喷嘴喷出的处理液涂布于基板时，对处理液施加的喷出压力对涂布于基板的处理液的厚度有很大影响。因此，在专利文献1中，目的是优化与喷出压力相关的参数。
3.具体而言，专利文献1的优化手法中具有：向基板以外喷出处理液的模拟喷出工序；测量模拟喷出工序中的处理液的喷出特性的喷出特性测量工序；导出测量的喷出特性与目标特性的偏差的状态量的状态量导出工序；对随参数的变更而变化的状态量进行机器学习来构建学习模型的学习工序。另外，在状态量超过规定容许范围的期间，在基于学习模型变更参数的基础上，反复执行模拟喷出工序、喷出特性测量工序、状态量导出工序和学习工序。当状态量落入容许范围时，将最后变更的参数设定为处理液供给工序中喷出处理液时的参数。
4.现有技术文献
5.专利文献
6.专利文献1：日本特开2020-040046号公报。
7.根据专利文献1的优化手法，由于通过活用机器学习能够使参数的调整作业自动化，因此能够减少技术人员的工作量。但是，机器学习模型的学习通常需要大量的学习数据或重复试验数量。因此，在只是简单地将参数的优化作业自动化的情况中，与具有知识和经验的技术人员实施参数调整作业的情况相比，存在优化所需时间或伴随模拟喷出的处理液的消耗量增大的风险。


技术实现要素：

8.本发明的目的是提供一种能够在喷出处理液的装置中适当且有效地实施参数优化的技术。
9.为解决上述课题，第一方案是在向基板供给从喷嘴喷出的处理液的基板处理装置中，优化用于控制所述处理液喷出的参数的参数优化方法，其中，包含a)通过全局搜索优化第一参数的第一优化工序和b)通过局部搜索优化第二参数的第二优化工序，所述第一参数包含将来自所述喷嘴的所述处理液的喷出速度提高到稳定喷出速度的上升期间所对应的参数，所述第二参数包含所述喷出速度保持在所述稳定喷出速度的稳定喷出期间所对应的参数。
10.第二方案是在第一方案的参数优化方法中，所述工序b)在所述工序a)后执行。
11.第三方案是在第一方案的参数优化方法中，所述第一优化工序包含通过贝叶斯优化来优化所述第一参数的工序。
12.第四方案是在第一方案～第三方案中任一个参数优化方法中，所述参数是控制向
所述喷嘴给送所述处理液的泵的工作的控制量。
13.第五方案是在第一方案～第四方案中任一个参数优化方法中，所述工序a)中，包含基于从所述处理液自所述喷嘴喷出时的喷出特性的特征量导出的成本值，来优化所述第一参数的工序。
14.第六方案是在第一方案～第五方案中任一个参数优化方法中，所述工序b)中，包含基于所述稳定喷出期间开始时的喷出速度与所述稳定喷出期间结束时的喷出速度的比，来优化所述第二参数的工序。
15.第七方案是记录有程序的计算机能读取的记录介质，所述程序用于使计算机执行用于控制处理液从喷嘴的喷出的参数的优化，所述程序使所述计算机执行a)通过全局搜索优化第一参数的第一优化工序和b)通过局部搜索优化第二参数的第二优化工序，所述第一参数包含将来自所述喷嘴的所述处理液的喷出速度提高到稳定喷出速度的上升期间所对应的参数，所述第二参数包含所述喷出速度保持在所述稳定喷出速度的稳定喷出期间所对应的参数。
16.第八方案是向基板供给从喷嘴喷出的处理液的基板处理装置，具备喷出控制部，基于包括第一参数和第二参数的多个参数，控制所述处理液从所述喷嘴的喷出；喷出特性测量部，测量所述喷嘴喷出所述处理液时的喷出特性；第一优化部，基于所述喷出特性，通过全局搜索优化所述第一参数；以及第二优化部，基于所述喷出特性，通过局部搜索优化所述第二参数，所述第一参数包含将来自所述喷嘴的所述处理液的喷出速度提高到稳定喷出速度的上升期间所对应的参数，所述第二参数包含所述喷出速度保持在所述稳定喷出速度的稳定喷出期间所对应的参数。
17.根据第一方案～第六方案的参数优化方法，由于通过局部搜索来优化相对容易优化的稳定喷出速度所对应的参数，与通过全局搜索来优化全部参数的情况相比，能够减少运算量。因此，能够适当且有效地进行对应处理液的喷出的参数的优化。
18.根据第二方案的参数优化方法，能够基于被优化的第一参数来优化第二参数。
19.根据第三方案的参数优化方法，能够通过贝叶斯优化来优化第一参数。
20.根据第五方案的参数优化方法，能够基于成本值来优化第一参数。
21.根据第六方案的参数优化方法，由于基于稳定喷出期间的开始时和结束时的喷出速度的比来优化第二参数，因此能够优化第二参数以使稳定喷出期间的喷出速度恒定在稳定喷出速度。
附图说明
22.图1是示意性示出实施方式的涂布装置的整体构成的图。
23.图2是示出涂布液供给机构的构成的图。
24.图3是示出图2所示的泵的工作盘部的移动模式的图。
25.图4是示出喷出特性的图。
26.图5是示出控制单元的构成例的框图。
27.图6是示出涂布装置中执行的参数优化处理的流程图。
28.图7是示出图6所示的第一优化工序的细节的流程图。
29.图8是示出图6所示的第二优化工序的细节的流程图。
30.图9是示出参数被第一优化工序优化后的压力波形的图。
31.图10是示出对特征量fv进行线性回归的结果的图。
32.图11是用于说明压力波形的各期间的图。
33.图12是示意性示出成本值导出部对压力波形执行的运算的一个例子的图。
34.图13是用于说明基于特征量fv1评价喷出压力的时间变化的评价项目的图。
35.图14是用于说明基于特征量fv2评价喷出压力的时间变化的评价项目的图。
36.图15是用于说明基于特征量fv3评价喷出压力的时间变化的评价项目的图。
37.图16是用于说明特征量fv4的图。
38.图17是用于说明特征量fv5的图。
39.图18是用于说明基于特征量fv6评价喷出压力的时间变化的评价项目的图。
40.图19是用于说明基于特征量fv7评价喷出压力的时间变化的评价项目的图。
41.图20是用于说明基于特征量fv8评价喷出压力的时间变化的评价项目的图。
42.图21是用于说明基于特征量fv9评价喷出压力的时间变化的评价项目的图。
43.图22是用于说明基于特征量fv10评价喷出压力的时间变化的评价项目的图。
具体实施方式
44.以下，参照附图说明本发明的实施方式。需要说明的是，这些实施方式中记载的构成要素仅仅是示例，没有将本发明的范围仅限定于此的意图。在附图中，为了便于理解，存在根据需要夸大或简化各部的尺寸和数量并图示的情况。
45.图1是示意性示出实施方式的涂布装置1的整体构成的图。涂布装置1是向基板s的上表面sf涂布涂布液的基板处理装置。例如，基板s是液晶显示装置用玻璃基板。需要说明的是，基板s可以是半导体晶片、光掩模用玻璃基板、等离子体显示器用玻璃基板、磁/光盘用玻璃或陶瓷基板、有机el用玻璃基板、太阳能电池用玻璃基板或硅基板、其他柔性基板和印刷基板等用于电子设备的各种被处理基板。例如，涂布装置1是狭缝涂布机。
46.在图1中，为了说明涂布装置1各要素的配置关系，定义xyz坐标系。基板s的搬送方向为“x方向”。将x方向中基板s前进的方向(朝向搬送方向下游的方向)记作+x方向，其反方向(朝向搬送方向上游的方向)记作-x方向。另外，与x方向正交的方向为y方向，与x方向和y方向正交的方向为z方向。在以下说明中，以z方向为铅垂方向，以x方向和y方向为水平方向。在z方向中，将+z方向记作上方向，将-z方向记作下方向。
47.在涂布装置1中，沿+x方向按顺序具备输入输送机100、输入移载部2、浮起载物台部3、输出移载部4和输出输送机110。输入输送机100、输入移载部2、浮起载物台部3、输出移载部4和输出输送机110形成基板s通过的搬送路径。另外，涂布装置1还具备基板搬送部5、涂布机构7、涂布液供给机构8和控制单元9。
48.从上游侧向输入输送机100搬送基板s。输入输送机100具备滚轮输送机101和旋转驱动机构102。旋转驱动机构102使滚轮输送机101的各滚轮旋转。通过滚轮输送机101的各滚轮的旋转，使基板s以水平姿势被搬送到下游(+x方向)。“水平姿势”是指基板s的主面(面积最大的面)与水平面(xy平面)平行的状态。
49.输入移载部2具备滚轮输送机21和旋转-升降驱动机构22。旋转-升降驱动机构22在使滚轮输送机21的各滚轮旋转的同时，使滚轮输送机21升降。通过滚轮输送机21的旋转，
使基板s以水平姿势被搬送到下游(+x方向)。另外，通过升降滚轮输送机21，变更基板s在z方向的位置。基板s从输入输送机100经由输入移载部2向浮起载物台部3转移。
50.如图1所示，浮起载物台部3为大致平板状。浮起载物台部3沿x方向被分割成三份。在浮起载物台部3中，沿+x方向按顺序具备入口浮起载物台31、涂布载物台32和出口浮起载物台33。入口浮起载物台31的上表面、涂布载物台32的上表面和出口浮起载物台33的上表面在同一平面上。浮起载物台部3还具备升降销驱动机构34、浮起控制机构35和升降驱动机构36。升降销驱动机构34使配置于入口浮起载物台31的几个升降销升降。浮起控制机构35向入口浮起载物台31、涂布载物台32和出口浮起载物台33供给使基板s浮起的压缩空气。升降驱动机构36使出口浮起载物台33升降。
51.在入口浮起载物台31的上表面和出口浮起载物台33的上表面，以矩阵状配置用于喷出从浮起控制机构35供给的压缩空气的大量的喷出孔。从各喷出孔喷出压缩空气时，基板s浮起在浮起载物台部3的上方。于是，基板s在下表面sb与浮起载物台部3的上表面分离的状态下，以水平姿势被支撑。在基板s处于浮起状态时，基板s的下表面sb与浮起载物台部3的上表面之间的距离(浮起量)，例如，为10μm以上且500μm以下。
52.在涂布载物台32的上表面，在x方向和y方向上交替配置用于喷出从浮起控制机构35供给的压缩空气的喷出孔和吸入气体的吸入孔。浮起控制机构35控制来自喷出孔的压缩空气的喷出量和来自吸入孔的空气的吸入量。由此，精密地控制基板s相对于涂布载物台32的浮起量，以使通过涂布载物台32上方的基板s的上表面sf在z方向上的位置为规定值。需要说明的是，基于后述传感器61或传感器62的检测结果，由控制单元9算出基板s相对于涂布载物台32的浮起量。另外，基板s相对于涂布载物台32的浮起量优选能通过气流控制高精度地调整。
53.被搬入浮起载物台部3的基板s，由滚轮输送机21赋予+x方向的推动力，并被搬送到入口浮起载物台31上。入口浮起载物台31、涂布载物台32和出口浮起载物台33将基板s以浮起状态支撑。作为浮起载物台部3，例如，可以采用日本专利第5346643号中记载的构成。
54.基板搬送部5配置于浮起载物台部3的下方。基板搬送部5具备卡盘机构51和吸附-运行控制机构52。卡盘机构51具备设置于吸附构件的吸附垫(省略图示)。卡盘机构51通过使吸附垫与基板s的下表面sb的周缘部抵接，从下侧支撑基板s。吸附-运行控制机构52通过对吸附垫赋予负压，使基板s吸附于吸附垫。另外，吸附-运行控制机构52使基板搬送部5在x方向上往复运行。
55.卡盘机构51使基板s保持在基板s的下表面sb位于比浮起载物台部3的上表面高的位置的状态。基板s在被卡盘机构51保持周缘部的状态下，由浮起载物台部3赋予的浮力保持水平姿势。
56.如图1所示，涂布装置1具备板厚测定用的传感器61。传感器61配置于滚轮输送机21附近。传感器61检测保持在卡盘机构51的基板s的上表面sf在z方向的位置。另外，通过使处于没有保持基板s的状态的卡盘(省略图示)位于传感器61的正下方，传感器61能检测吸附构件的上表面即吸附面的铅垂方向z的位置。
57.卡盘机构51一边保持被搬入浮起载物台部3的基板s，一边向+x方向移动。由此，基板s从入口浮起载物台31的上方经由涂布载物台32的上方被搬送到出口浮起载物台33的上方。进而，基板s从出口浮起载物台33被移动到输出移载部4。
58.输出移载部4使基板s从出口浮起载物台33的上方的位置向输出输送机110移动。输出移载部4具备滚轮输送机41和旋转-升降驱动机构42。旋转-升降驱动机构42旋转驱动滚轮输送机41，并使滚轮输送机41沿z方向升降。通过旋转滚轮输送机41的各滚轮，基板s向+x方向移动。另外，通过滚轮输送机41升降，基板s在z方向位移。
59.输出输送机110具备滚轮输送机111和旋转驱动机构112。输出输送机110通过旋转滚轮输送机111的各滚轮使基板s向+x方向搬送，并将基板s推出到涂布装置1外。需要说明的是，输入输送机100和输出输送机110是涂布装置1的一部分。但是，输入输送机100和输出输送机110可以组装入与涂布装置1不同的装置中。
60.涂布机构7在基板s的上表面sf涂布涂布液。涂布机构7配置于基板s的搬送路径的上方。涂布机构7具有喷嘴71。喷嘴71是下表面具有狭缝状的喷出口的狭缝喷嘴。喷嘴71与定位机构(不图示)连接。定位机构使喷嘴71在涂布载物台32上方的涂布位置(图1中，实线所示的位置)与后述的维护位置之间移动。涂布液供给机构8与喷嘴71连接。涂布液供给机构8通过向喷嘴71供给涂布液，从配置于喷嘴71的下表面的喷出口喷出涂布液。
61.图2是示出涂布液供给机构8的构成的图。涂布液供给机构8具备泵81、配管82、涂布液补充单元83、配管84、开闭阀85、压力计86和驱动部87。泵81是用于向喷嘴71输送涂布液的输送源，通过体积变化来输送涂布液。例如，泵81可以采用日本特开平10-61558号公报中记载的波纹管类型的泵。如图2所示，泵81具有在径向自由弹性膨胀收缩的挠性管811。挠性管811的一端经由配管82与涂布液补充单元83连接。挠性管811的另一端经由配管84与喷嘴71连接。
62.泵81具有在轴向自由弹性形变的波纹管812。波纹管812具有小型波纹管部813、大型波纹管部814、泵室815和工作盘部816。泵室815配置于挠性管811与波纹管812之间。泵室815中装入非压缩性介质。工作盘部816与驱动部87连接。
63.涂布液补充单元83具有贮留涂布液的贮留罐831。贮留罐831经由配管82与泵81连接。配管82上插有开闭阀833。开闭阀833根据来自控制单元9的指令开闭。当打开开闭阀833时，能从贮留罐831向泵81的挠性管811补给涂布液。另外，当关闭开闭阀833时，限制从贮留罐831向泵81的挠性管811补充涂布液。
64.配管84与泵81的输出侧连接。开闭阀85被插在配管84上。开闭阀85根据来自控制单元9的指令开闭。通过开闭开闭阀85，来切换涂布液向喷嘴71送液和停止送液。压力计86配置于配管84。压力计86检测向喷嘴71送液的涂布液的压力(喷出压力)，并向控制单元9输出表示检测的压力值的信号。
65.图3是示出图2所示的泵81的工作盘部816的移动模式的图。图3中，横轴表示时刻，纵轴表示工作盘部816的移动速度。驱动部87根据来自控制单元9的指令，按照图3所示的移动模式(表示工作盘部816的速度随时间经过而变化的模式)使工作盘部816在轴向位移。根据工作盘部816的位移，使波纹管812内侧的容积变化。由此，挠性管13在径向膨胀收缩以执行泵的工作，从涂布液补充单元83补给的涂布液被输送到喷嘴71。由于工作盘部816的移动模式与从喷嘴71喷出的涂布液的喷出特性密切相关，因此根据移动模式，可获得图4所示的喷出特性(表示喷出压力的时间变化的压力波形)。
66.图4是示出喷出特性的图。图4的(a)是表示作为优选的喷出特性的目标特性的图。图4的(b)是实际测定的喷出特性的一个例子。在图4中，横轴表示时刻，纵轴表示压力值(或
喷出速度)。
67.在本实施方式中，通过调整规定工作盘部816的移动的各种参数(加速时间、稳定速度、稳定速度时间、减速时间等)，适当进行使从喷嘴71喷出的涂布液的喷出特性(具体而言，喷出速度(喷出压力)的时间变化)与所期望的目标特性(图4的(a)所示的图)一致或近似的优化处理。关于这一方面，详见后述。
68.如图1和图2所示，从涂布液供给机构8供给涂布液的喷嘴71上配置有传感器62。传感器62以非接触的方式检测基板s在z方向上的高度。传感器62与控制单元9电连接。基于传感器62的检测结果，控制单元9测定浮起的基板s与涂布载物台32的上表面之间的距离(分离距离)。另外，控制单元9基于测定出的分离距离，通过定位机构调整喷嘴71的涂布位置。需要说明的是，作为传感器62，能够应用光学式传感器或超声波传感器。
69.涂布机构7具备喷嘴清洗待机单元72。喷嘴清洗待机单元72对配置于维护位置的喷嘴71进行规定的维护。喷嘴清洗待机单元72具有辊721、清洗部722和辊架723。喷嘴清洗待机单元72通过对喷嘴71进行清洗并形成积液，将喷嘴71的喷出口调整成适合涂布处理的状态。另外，在涂布装置1中，为了评价对涂布液施加的喷出压力，在喷嘴71配置于维护位置的状态下，执行从喷嘴71喷出涂布液的模拟喷出。
70.图5是示出控制单元9的构成例的框图。控制单元9控制涂布装置1各要素的工作。控制单元9为计算机，具备运算部91、存储部93和用户界面95。运算部91是由cpu(中央处理器，central processing unit)或gpu(图形处理器，graphics processing unit)等构成的处理器。存储部93由ram(随机存储器，random access memory)等瞬时存储装置，以及hdd(硬盘驱动器，hard disk drive)和sdd(固态驱动器，solid state drive)等非瞬时辅助存储装置构成。
71.用户界面95具有向用户显示信息的显示器和接受用户输入操作的输入设备。作为控制单元9，例如能够使用台上型、膝上型或平板型计算机。
72.存储部93存储程序931。程序931由记录介质m提供。即，记录介质m以作为计算机的控制单元9能够读取的方式记录程序931。记录介质m，例如，是usb(通用串行总线，universal serial bus)存储器、dvd(数字多功能光盘，digital versatile disc)等光盘、磁盘等。
73.运算部91通过执行程序931，作为喷出控制部910、喷出特性测量部911、成本值导出部913、第一优化部915和第二优化部917发挥作用。
74.喷出控制部910基于预先设定的参数控制向喷嘴71输送涂布液的泵81的工作(给送工作)。
75.喷出特性测量部911测量喷出特性。具体而言，喷出特性测量部911基于模拟喷出中从压力计86输出的喷出压力(涂布液的压力值)，测量压力波形。即，喷出特性测量部911周期性获取压力计86按照规定的采样周期测定出的喷出压力。由此，获取在从喷嘴71喷出涂布液的期间对涂布液施加的喷出压力，作为喷出压力测定数据存储在存储部93。喷出压力测定数据是表示时刻和在该时刻测定的喷出压力的数据。
76.成本值导出部913由喷出特性测量部911测量的喷出特性(压力波形)，基于规定的成本函数导出成本值。成本值在第一优化部915进行优化运算时使用。第一优化部915通过全局搜索法优化参数。作为全局搜索的优化，本例中进行贝叶斯优化。需要说明的是，全局
搜索法不限定于贝叶斯优化，也可以采用遗传算法。第二优化部917通过局部搜索法优化参数。局部搜索的优化见后述。
77.在涂布装置1中，为了将从喷嘴71喷出的涂布液以均匀的膜厚涂布在基板s的上表面sf，调整从喷嘴71喷出时的涂布液的喷出速度即喷出特性是重要的。例如，通过按照图4的(a)所示的目标特性从喷嘴71喷出涂布液，能够提高膜厚的均匀性。因此，以使喷出特性接近目标特性的方式，优化与喷出特性密切相关的参数是重要的。在本实施方式中，如图3所示，将已经确定工作盘部816的移动的以下16个泵控制用的设定值作为优化对象的参数。
78.·
稳定速度v1。
79.·
加速时间t1：从停止状态加速至稳定速度v1的时间。
80.·
稳定速度时间t2：持续稳定速度v1的时间。
81.·
稳定速度v2。
82.·
加速时间t3：从稳定速度v1减速至稳定速度v2的时间。
83.·
稳定速度时间t4：持续稳定速度v2的时间。
84.·
稳定速度v3。
85.·
加速时间t5：从稳定速度v2加速至稳定速度v3的时间。
86.·
稳定速度时间t6：持续稳定速度v3的时间。
87.·
稳定速度v4。
88.·
加速时间t7：从稳定速度v3减速至稳定速度v4的时间。
89.·
稳定速度时间t8：持续稳定速度v4的时间。
90.·
稳定速度v5。
91.·
加速时间t9：从稳定速度v4加速至稳定速度v5的时间。
92.·
稳定速度时间t10：持续稳定速度v5的时间。
93.·
减速时间t11：从稳定速度v5减速至停止状态的时间。
94.上述参数相当于用于控制向喷嘴71输送涂布液的泵81的工作(给送工作)的控制量。需要说明的是，参数的种类和个数没有特别的限制，只要是控制泵81的给送工作的控制量，就能够任意地设定。
95.上述参数的调整，例如，根据涂布处理的种类变更方法。另外，也存在基于用户经由输入设备输入的指示，进行参数调整的情况。上述16个参数中，关于v5，大多能以稳定速度v4的值为中心，通过稍微变更来调整。因此，v5优化的难易度相对较低。另一方面，关于v5以外的参数(v1～v4、t1～t11)，由于需要在不断试错每种涂布液以把握喷出特性的同时进行调整，因此优化的难易度相对较高。
96.因此，在本实施方式中，对于v5以外的参数(第一参数)的优化，应用通用且能全局搜索的贝叶斯优化。另一方面，对于v5(第二参数)的优化，在通过上述贝叶斯优化调整后，应用后述局部的搜索手法。
97.图6是示出涂布装置1中执行的参数优化处理的流程图。当开始参数优化处理时，首先，执行喷嘴移动工序s1。在喷嘴移动工序s1中，喷嘴71被移动到上述维护位置。通过喷嘴移动工序s1，能在涂布装置1中执行模拟喷出。
98.当喷嘴移动工序s1完成时，执行第一优化工序s2。在第一优化工序s2中，由第一优化部915优化v5以外的参数(v1～v4、t1～t11)。需要说明的是，在第一优化工序s2中，参数
v5被固定为规定值。然后，在第一优化工序s2后，进行第二优化工序s3。在第二优化工序s3中，优化v5。
99.如图3所示，工作盘部816的移动速度保持在v5的区间对应图4的(b)所示的“稳定喷出期间”。“稳定喷出期间”是来自喷嘴71的涂布液的喷出速度(喷出压力)保持几乎恒定的速度(稳定喷出速度)的区间。即，优化v5的第二优化工序s3相当于优化对应于稳定喷出期间的参数的工序。
100.另外，在v5以外的参数中，v1～v4和t1～t9是对应图4的(b)所示的“上升期间”的参数。“上升期间”是喷出速度从零提高到稳定喷出速度的区间。优化参数v1～v4、t1～t9的第一优化工序s2相当于优化对应于上升期间的参数的工序。
101.＜第一优化(通过全局搜索进行优化)＞
102.图7是示出图6所示的第一优化工序s2的细节的流程图。如图7所示，在第一优化工序s2中，首先，设定上述16个参数(步骤s21)。参数的初始值，例如是从随机数生成的值或用户指定的值。在步骤s21后，喷出特性测量部911测量作为喷出特性的压力波形(步骤s22)。在步骤s22后，成本值导出部913从测量的压力波形导出成本值(步骤s23)。
103.成本值以数值表示压力波形的评价结果。如后述，成本值导出部913基于以压力波形为输入并以成本值为输出的成本函数，导出成本值。在本实施方式中，成本函数被设定为压力波形(图4的(b))与作为目标的压力波形(图4的(a))越不同，成本值就越大。
104.在步骤s23后，判定成本值是否小于规定的阈值(步骤s24)。在判定成本值为规定的阈值以上的情况(步骤s24中为否)下，第一优化部915基于当前设定的参数和由步骤s23导出的成本值，获取下一搜索点(即，新参数)(步骤s25)。另外，在步骤s25后，再次执行步骤s21。由此，通过基于作为下一搜索点的新参数进行模拟喷出，再次执行压力波形的测量(步骤s22)。
105.另一方面，在步骤s24中，在判定成本值小于规定的阈值的情况(步骤s24中为是)下，视作参数已被优化，第一优化部915结束第一优化工序s2。
106.＜第二优化工序(通过局部搜索进行优化)＞
107.图8是示出图6所示的第二优化工序s3的细节的流程图。当开始第二优化工序s3时，首先，第二优化部917根据参数被第一优化工序s2优化后的压力波形，算出特征量fv(步骤s31)。参照图9说明算出特征量fv的步骤。
108.图9是示出参数被第一优化工序s2优化后的压力波形的图。第二优化部917为了算出特征量fv，提取压力波形中的稳定喷出期间的数据。另外，第二优化部917对稳定喷出期间的数据进行线性回归。通过该线性回归，获取图9所示的回归直线l1。另外，第二优化部917基于回归直线l1，分别获取稳定喷出期间的开始时刻的压力ps和稳定喷出期间的结束时刻的压力pe。此外，第二优化部917将压力ps相对于压力pe的比的值(＝ps/pe)作为特征量fv算出。压力ps对应稳定喷出期间开始时的喷出速度。压力pe对应稳定喷出期间结束时的喷出速度。
109.返回图8，在步骤s31后，第二优化部917更新v5(步骤s32)。具体而言，第二优化部917将当前的v5乘以特征量fv而获得的值作为新的v5。
110.在步骤s32后，在进行模拟喷出的同时，喷出特性测量部911测量压力波形(步骤s33)。然后，第二优化部917算出由步骤s33获取的压力波形的特征量fv(步骤s34)。步骤s34
进行与步骤s31相同的步骤。
111.在步骤s34后，第二优化部917判定特征量fv是否在1
±
α的范围内(步骤s35)。在此，“α”是任意设定的小数。如上所述，由于稳定喷出期间是以恒定速度喷出涂布液的区间，因此开始时的压力ps与结束时的压力pe本应一致。因此，在步骤s35中，通过判定特征量fv是否在1
±
α的范围内，来判定当前的v5是否合适。
112.在步骤s35中，在判定特征量fv在1
±
α的范围内的情况(步骤s35中为是)下，第二优化部917认为v5已被优化，结束第二优化工序s3。另一方面，在步骤s35中，在判定特征量fv在1
±
α的范围外的情况(步骤s35中为否)下，第二优化部917对步骤s31和步骤s34中获取的特征量fv执行线性回归(步骤s36)。
113.图10是示出对特征量fv进行线性回归的结果的图。在图10中，横轴表示v5，纵轴表示特征量fv。图10所示的多个(三个)点，表示步骤s31或步骤s34中获取的特征量fv。如图10所示，通过对特征量fv执行线性回归，获取回归直线l2。
114.返回图8，在步骤s36后，第二优化部917更新v5(步骤s37)。具体而言，第二优化部917基于由步骤s36获取的回归直线l2，算出fv为1的v5的值(＝v5
′
)。然后，第二优化部917将v5更新为算出的值。接着，基于更新的v5，再次执行步骤s33。如此地，在第二优化工序s3中，反复执行步骤s33～步骤s37直至特征量fv在1
±
α的范围内。
115.如上所述，在涂布装置1中，在与涂布液的喷出相关的全部参数中，对于优化相对容易的参数v5，应用通过局部搜索进行的优化。由此，与对全部参数应用贝叶斯优化等通过全局搜索进行的优化的情况相比较，能够减少运算量。因此，在喷出涂布液的涂布装置1中，能够适当且有效地实施参数的优化。另外，由于能够减少模拟喷出的试验次数，因此能够抑制涂布液的消耗量。
116.需要说明的是，对参数v5以外的参数，也可以应用通过局部搜索进行的优化。
117.＜成本值的算出方法＞
118.接着，说明第一优化工序s2中用于优化的成本值的算出方法。通过从压力波形算出每个规定的评价项目的特征量，将各特征量fv1～fv10相加而求出成本值。以下，说明各评价项目的特征量fv1～fv10。
119.图11是用于说明压力波形的各期间的图。图11中，横轴表示时刻，纵轴表示喷出压力。需要说明的是，在图11之后的各图中也是横轴表示时刻，纵轴表示喷出压力。
120.如图11所示，开始从喷嘴71喷出涂布液的时刻ta的喷出压力和从喷嘴71喷出涂布液结束的时刻te的喷出压力是初始压力pi。但是，喷出开始时和结束时各自的压力不一定一直与初始压力pi一致。
121.如图11所示，喷出期间tt被分割为上升期间ta、转变期间tb、稳定期间tc和下降期间td。上升期间ta是从涂布液供给机构8开始从喷嘴71喷出涂布液的时刻ta(即，涂布液供给机构8开始移动工作盘部816的时刻ta)到喷出压力到达目标压力pt的时刻tb为止的期间。即，在时刻ta开始从喷嘴71喷出涂布液时，在从时刻ta到时刻tb期间，喷出压力从初始压力pi增加至目标压力pt。
122.转变期间tb是从时刻tb经过规定的振动衰减期间到时刻tc的期间。该振动衰减期间是喷出压力在时间变化上稳定所需的时间，例如用户通过对用户界面95进行输入操作预先设定，并存储于存储部93。
123.稳定期间tc是从时刻tc到涂布液供给机构8开始减少喷出压力的时刻td(即，涂布液供给机构8开始使工作盘部816从目标速度减速的时刻td)为止的期间。即，涂布液供给机构8在从时刻tc到时刻td的期间，以等速(上述v5)移动工作盘部816，在时刻td开始使工作盘部816减速。需要说明的是，在稳定期间tc中，喷出压力基本上稳定在目标压力pt。但是，即使在稳定期间tc中，喷出压力的时间变化也包含微小的振动。因此，在稳定期间tc中，喷出压力会大于或小于目标压力pt。
124.转变期间tb和稳定期间tc构成定压期间tbc。即，定压期间tbc是从时刻tb到时刻td的期间。
125.下降期间td是从时刻td到涂布液供给机构8结束从喷嘴71喷出涂布液的时刻te(即，涂布液供给机构8使工作盘部816停止的时刻te)为止的期间。即，从时刻td到时刻te期间，喷出压力减少至初始压力pi，在时刻te中，停止从喷嘴71喷出涂布液。
126.图12是示意性示出成本值导出部913对压力波形执行的运算的一个例子的图。如图12所示，成本值导出部913通过对压力波形进行时间微分，算出压力波形的一阶微分d1。进而，成本值导出部913通过以时间对喷出压力的时间变化的一阶微分d1进行微分，算出喷出压力的时间变化的二阶微分d2。另外，成本值导出部913基于以下各式，算出平均绝对误差mae和均方根误差rmse。
127.mae(α、β)＝(1/n)
·
(σ|α-β|)
128.rmse(α、β)＝((1/n)
·
(σ(α-β)2))
1/2
129.n是数据量。
130.图13是用于说明基于特征量fv1评价喷出压力的时间变化的评价项目的图。在图13所示的评价项目中，基于具有与稳定期间tc中的喷出压力的平均值(即稳定压力pm)与初始压力pi的差相当的振幅的梯形波形，与实际的压力波形的误差(理想梯形绝对误差)，评价压力波形。
131.具体而言，上升期间ta中，对在规定的下侧基准压力与大于该下侧基准压力的规定的上侧基准压力之间的喷出压力的时间变化执行线性回归分析，算出上升回归直线lr_r。该上升回归直线lr_r在从时刻t11到时刻t12之间，从初始压力pi线性增加至稳定压力pm。
132.同样地，在下降期间td中，对在上侧基准压力与下侧基准压力之间的喷出压力的时间变化执行线性回归分析，算出下降回归直线lr_f。该下降回归直线lr_f在从时刻t13到时刻t14之间，从稳定压力pm线性减少至初始压力pi。
133.需要说明的是，下侧基准压力和上侧基准压力是大于初始压力pi且小于目标压力pt的压力，例如用户通过对用户界面95进行输入操作来设定，并存储于存储部93。例如，下侧基准压力可以是将初始压力pi与目标压力pt之差的绝对值的20％的压力加至初始压力pi后的压力。另外，上侧基准压力可以是将初始压力pi与目标压力pt之差的绝对值的80％的压力加至初始压力pi后的压力。
134.另外，对从时刻ta到时刻t11的区间，设定开始时近似直线lr_s。该开始时近似直线lr_s是表示初始压力pi的斜率为零的直线。即，开始时近似直线lr_s是从开始从喷嘴71喷出涂布液的时间点(时刻ta)，连接至上升回归直线lr_r的开始时间点的直线。需要说明的是，根据回归直线的状态(斜率)，时刻t11可以在时刻ta前，时刻t12可以在时刻tb后。如
此地，当t11＜ta时，省略开始时近似直线lr_s。
135.另外，对从时刻t14到时刻te的区间，设定结束时近似直线lr_e。该结束时近似直线lr_e是表示初始压力pi的斜率为零的直线。即，结束时近似直线lr_e是从下降回归直线lr_f的结束时间点，连接至从喷嘴71喷出涂布液结束的时间点(时刻te)的直线。需要说明的是，当te＜t14时，省略结束时近似直线lr_e。
136.进而，对从时刻t12到时刻t13的区间，设定稳定直线lr_m。该稳定直线lr_m是表示稳定压力pm的斜率为零的直线。即，稳定直线lr_m是将上升回归直线lr_r的结束时间点(时刻t12)与下降回归直线lr_f的开始时间点(时刻t13)连接，表示稳定压力pm的直线。
137.如上所述，成本值导出部913算出由按时间序列排列的开始时近似直线lr_s、上升回归直线lr_r、稳定直线lr_m、下降回归直线lr_f和结束时近似直线lr_e构成的近似波形wf1。另外，成本值导出部913算出从时刻ta到时刻te的整个喷出期间tt中，压力波形的压力值与近似波形wf1之间的平均绝对误差mae(理想梯形绝对误差)，作为特征量fv1。成本值导出部913将算出的特征量fv1存储于存储部93。
138.根据基于特征量fv1的评价，在整个喷出期间tt中的喷出压力的时间变化大幅偏离理想形状(即，梯形形状)的情况下，能够赋予该喷出压力大评分(即，负面评价)。
139.图14是用于说明基于特征量fv2评价喷出压力的时间变化的评价项目的图。在图14的评价项目中，评价喷出压力上升的平滑程度。具体而言，上升期间ta中，对下侧基准压力p2_l和大于该下侧基准压力p2_l的上侧基准压力p2_u之间的喷出压力的时间变化执行曲线回归分析，算出上升回归曲线nr。通过二次曲线执行该曲线回归分析。
140.下侧基准压力p2_l被设定为初始压力pi。另外，上侧基准压力p2_u是大于下侧基准压力p2_l且小于目标压力pt的压力。上侧基准压力p2＿u例如用户通过对用户界面95进行输入操作来设定，并存储于存储部93。上侧基准压力p2_u可以是将初始压力pi与目标压力pt之差的绝对值的20％的压力加至初始压力pi后的压力。该上升回归曲线nr在从时刻t21到时刻t22期间，从下侧基准压力p2_l(初始压力pi)增加至上侧基准压力p2_u。需要说明的是，时刻t21与时刻ta一致，时刻t22是在时刻ta之后且时刻tb之前的时刻。
141.成本值导出部913算出由上升回归曲线nr构成的波形wf2。另外，成本值导出部913算出从时刻t21到时刻t22的上升初始期间ta_s中，测定的压力波形的压力值与波形wf2之间的均方根误差rmse，作为特征量fv2。另外，成本值导出部913将算出的特征量fv2存储于存储部93。
142.根据基于特征量fv2的评价，受到来自喷嘴71的涂布液的喷出开始前状态的影响，在喷出开始后立刻发生喷出压力异常的情况下，能够赋予该喷出压力大评分(即，负面评价)。需要说明的是，能用于曲线回归分析的曲线不限于二次曲线。也可以是指数函数等其他曲线。
143.图15是用于说明基于特征量fv3评价喷出压力的时间变化的评价项目的图。在图15的评价项目中，评价上升期间ta是否落入恒定期间内。具体而言，成本值导出部913算出喷出压力从初始压力pi增大至目标压力pt所需的从时刻ta到时刻tb的上升期间ta的长度(＝tb-ta)，作为特征量fv3。另外，成本值导出部913将算出的特征量fv3存储于存储部93。
144.根据基于特征量fv3的评价，对上升至目标压力pt的期间短于或长于规定的恒定期间的喷出压力，能够赋予大评分(即，负面评价)。
145.图16是用于说明特征量fv4的图。图16的(a)是用于说明基于特征量fv4评价喷出压力的时间变化的评价项目的图。图16的(b)是表示由基于特征量fv4的评价被判断为不适合的喷出压力的时间变化的例子的图。在图16的(a)的评价项目中，评价喷出压力上升是否有异常。
146.具体而言，成本值导出部913算出从时刻ta到时刻tb的上升期间ta的喷出压力的时间变化的一阶微分d1，求出一阶微分波形wf4。然后，成本值导出部913求出上升期间ta中一阶微分波形wf4与规定的阈值th4交差的次数，作为特征量fv4。在图16的(a)的例子中，一阶微分波形wf4分别在时刻t41和时刻t42与阈值th4(例如，0.002)交差，交差次数(特征量fv4)为两次。成本值导出部913将算出的特征量fv4存储于存储部93。
147.根据基于特征量fv4的评价，在上升期间ta中喷出压力的时间变化出现阶梯的情况下(例如，图16的(b))，能够赋予该喷出压力大评分(即，负面评价)。
148.图17是用于说明特征量fv5的图。图17的(a)是用于说明基于特征量fv5评价喷出压力的时间变化的评价项目的图。图17的(b)是表示由基于特征量fv5的评价被判断为不适合的喷出压力的时间变化的例子的图。在图17的(a)的评价项目中，评价喷出压力上升是否有异常。
149.具体而言，成本值导出部913算出从时刻ta到时刻tb的上升期间ta的喷出压力的时间变化的二阶微分d2，求出二阶微分波形wf5。另外，成本值导出部913求出上升期间ta中二阶微分波形wf5的绝对值与规定的阈值th5交差的次数，作为特征量fv5。在图17的(a)的例子中，二阶微分波形wf5的绝对值分别在时刻t51、t52、t53和t54与阈值th5(例如，0.0002)交差，交差次数(特征量fv5)为四次。成本值导出部913将算出的特征量fv5存储于存储部93。
150.根据基于特征量fv5的评价，在上升期间ta中喷出压力的时间变化出现阶梯的情况下(例如，如图17的(b)所示)，能够赋予该喷出压力大评分(即，负面评价)。
151.图18是用于说明基于特征量fv6评价喷出压力的时间变化的评价项目的图。在图18的评价项目中，评价喷出压力的上升在后半是否失速。具体而言，成本值导出部913算出从时刻ta到时刻tb的上升期间ta的喷出压力的时间变化的二阶微分d2，求出二阶微分波形wf6。
152.另外，成本值导出部913分别求出上升期间ta中二阶微分波形wf6大于规定的正阈值(th5)的时间t_1st、以及二阶微分波形wf6小于规定的负阈值(-th5)的时间t_2nd。在此，正阈值和负阈值具有相同的绝对值(th5)，彼此具有不同的符号。该正阈值和负阈值的绝对值(th5)与上述特征量fv5的评价中使用的阈值th5的绝对值相等。另外，成本值导出部913求出这些时间的比(＝t_1st/t_2nd)，作为特征量fv6。此外，成本值导出部913基于下式，转换特征量fv6。
153.fv6＝|1-fv6|
154.成本值导出部913将转换的特征量fv6存储于存储部93。
155.作为涂布液的涂布对象的基板s的搬送速度，在加速期间的后半也不失速，达到目标速度。因此，优选对涂布液施加的喷出压力在上升期间ta中不失速，到达目标压力pt。根据基于特征量fv6的评价，在上升期间ta中喷出压力失速的情况下，能够赋予该喷出压力大评分(即，负面评价)。
156.图19是用于说明基于特征量fv7评价喷出压力的时间变化的评价项目的图。在图19的评价项目中，评价上升结束时喷出压力的时间变化的尖锐度。具体而言，上升期间ta中，对下侧基准压力p7_l与大于该下侧基准压力p7_l的上侧基准压力p7_u之间的喷出压力的时间变化执行直线回归分析，算出上升末期回归直线lr。在此，下侧基准压力p7_l是将初始压力pi与目标压力pt之差的绝对值的80％的压力加至初始压力pi后的压力，上侧基准压力p7_u是将初始压力pi与目标压力pt之差的绝对值的90％的压力加至初始压力pi后的压力，喷出压力在从时刻t71到时刻t72期间从下侧基准压力p7_l增大至上侧基准压力p7_u。
157.该上升末期回归直线lr随时间经过而增大，时刻t73到达稳定压力pm(稳定期间tc中的喷出压力的平均值)。这样，对从时刻t71到时刻t73的区间，设定上升末期回归直线lr。此外，成本值导出部913设定从时刻t73到时刻tb之间的表示稳定压力pm的斜率为零的延伸直线lm。如上所述，时刻tb是喷出压力到达目标压力pt的时刻，相当于上升期间ta的结束时刻。即，该延伸直线lm被设置成从上升末期回归直线lr的结束时间点延伸到上升期间ta的结束时间点。需要说明的是，当tb＜t73时，省略延伸直线lm。
158.如上所述，算出由按时间序列排列的上升末期回归直线lr和延伸直线lm构成的近似波形wf7。另外，成本值导出部913算出在喷出压力从目标压力pt的90％的时刻t72到100％的时刻tb的上升末期期间ta_e中，表示压力波形的压力值p_measure与近似波形wf7之间的差的值，作为特征量fv7。具体而言，设定加权基准时间宽度tw＝t73-t72。另外，基于下式算出加权均方根误差和。
159.fv7＝(σ(p_measure-wf7)2×
w)
1/2
160.在时刻t≤t73+2
×
tw的范围，w＝1。
161.在时刻t＞t73+2
×
tw的范围，w＝w。
162.w是大于1的加权系数，例如为10
163.成本值导出部913将算出的特征量fv7存储在存储部93。根据基于特征量fv7的评价，在喷出压力的时间变化表示上升的趋势弱且带弧度的波形的情况下，能够赋予该喷出压力大评分(即，负面评价)。
164.图20是用于说明基于特征量fv8评价喷出压力的时间变化的评价项目的图。在图20的评价项目中，评价在喷出压力上升时发生过冲的程度。具体而言，成本值导出部913在喷出压力达到最大值pmax的时刻t81时，求出喷出压力的二阶微分d2的符号(正/负)。然后，成本值导出部913算出喷出压力的二阶微分d2的符号从时刻t81时的符号切换两次的时刻t82。然后，评价从时刻t81到时刻t82的初始振动期间tb_s的喷出压力的时间变化。
165.具体而言，求出该初始振动期间tb_s中的喷出压力的时间变化的最小值p8min，将稳定压力pm和压力p8min中较小一方的压力选作对象压力pg。然后，基于最大压力pmax与对象压力pg的差，即下式，算出特征量fv8。
166.fv8＝pmax-pg
167.成本值导出部913将算出的特征量fv8存储于存储部93。根据基于特征量fv8的评价，在喷出压力的时间变化表示上升的趋势强且大的过冲的情况下，能够赋予该喷出压力大评分(即，负面评价)。
168.图21是用于说明基于特征量fv9评价喷出压力的时间变化的评价项目的图。在图21的评价项目中，评价转变期间tb的喷出压力的时间变化的稳定度。具体而言，成本值导出
部913基于下式算出作为转变期间tb的喷出压力和稳定期间tc的喷出压力的平均值的稳定压力pm的均方根误差rmse(p_measure，pm)，作为特征量fv9。
169.fv9＝rmse(p_measure，pm)
170.成本值导出部913将算出的特征量fv9存储在存储部93。根据基于特征量fv9的评价，在喷出压力的时间变化在转变期间tb表示瞬变的情况下，能够赋予该喷出压力大评分(即，负面评价)。
171.图22是用于说明基于特征量fv10评价喷出压力的时间变化的评价项目的图。在图22所示的评价项目中，评价定压期间tbc的喷出压力的时间变化的稳定度。具体而言，成本值导出部913在定压期间tbc求出喷出压力的最大值pmax和最小值p10min。另外，成本值导出部913基于定压期间tbc中的最大压力pmax与最小压力p10min的差，即下式，算出特征量fv10。
172.fv10＝pmax-p10min
173.成本值导出部913将算出的特征量fv10存储在存储部93。根据基于特征量fv10的评价，在喷出压力的时间变化表示在对涂布液的膜厚影响大的稳定期间tc中大的偏差的情况下，能够赋予该喷出压力大评分(即，负面评价)。
174.成本值导出部913可以将特征量fv1～fv10的和作为成本值导出。但是，成本值导出部913也可以对各特征量fv1～fv10加权。即，成本值导出部913可以将特征量fv1～fv10的加权的和作为成本值导出。
175.需要说明的是，上述特征量fv1～fv10是示例。因此，其他特征量也可以用于成本值的算出。另外，也可以时特征量fv1～fv10中的一部分用于算出成本值。
176.尽管详细说明了本发明，但上述说明在所有方面都是示例，本发明不限定于此。未列举的无数的变形例，可被解释为在不脱离本发明的范围内能够设想的变形例。上述各实施方式和各变形例中说明的各构成，只要不相互矛盾就能够适宜组合或省略。
177.附图标记的说明
178.1涂布装置(基板处理装置)
179.9 控制单元
180.71 喷嘴
181.81 泵
182.91 运算部
183.93 存储部
184.910 喷出控制部
185.911 喷出特性测量部
186.913 成本值导出部
187.915 第一优化部
188.917 第二优化部
189.931 程序
190.m 记录介质
191.s 基板

技术特征：
1.一种参数优化方法，其是在向基板供给从喷嘴喷出的处理液的基板处理装置中，优化用于控制所述处理液的喷出的参数的参数优化方法，其中，包含：工序a)，通过全局搜索优化第一参数的第一优化工序；以及工序b)，通过局部搜索优化第二参数的第二优化工序，所述第一参数包含将来自所述喷嘴的所述处理液的喷出速度提高到稳定喷出速度的上升期间所对应的参数，所述第二参数包含所述喷出速度保持在所述稳定喷出速度的稳定喷出期间所对应的参数。2.如权利要求1所述的参数优化方法，其中，所述工序b)在所述工序a)后执行。3.如权利要求1所述的参数优化方法，其中，所述第一优化工序包含通过贝叶斯优化来优化所述第一参数的工序。4.如权利要求1～3中任一项所述的参数优化方法，其中，所述参数是控制向所述喷嘴给送所述处理液的泵的工作的控制量。5.如权利要求1～4中任一项所述的参数优化方法，其中，所述工序a)中，包含基于从所述处理液自所述喷嘴喷出时的喷出特性的特征量导出的成本值，来优化所述第一参数的工序。6.如权利要求1～5中任一项所述的参数优化方法，其中，所述工序b)中，包含基于所述稳定喷出期间开始时的喷出速度与所述稳定喷出期间结束时的喷出速度的比，来优化所述第二参数的工序。7.一种记录介质，其是记录有程序的计算机能读取的记录介质，所述程序用于使计算机执行用于控制处理液从喷嘴的喷出的参数的优化，其中，所述程序使所述计算机执行：工序a)，通过全局搜索优化第一参数的第一优化工序；以及工序b)，通过局部搜索优化第二参数的第二优化工序，所述第一参数包含将来自所述喷嘴的所述处理液的喷出速度提高到稳定喷出速度的上升期间所对应的参数，所述第二参数包含所述喷出速度保持在所述稳定喷出速度的稳定喷出期间所对应的参数。8.一种基板处理装置，向基板供给从喷嘴喷出的处理液，其中，具备：喷出控制部，基于包括第一参数和第二参数的多个参数，控制所述处理液从所述喷嘴的喷出；喷出特性测量部，测量所述喷嘴喷出所述处理液时的喷出特性；第一优化部，基于所述喷出特性，通过全局搜索优化所述第一参数；以及第二优化部，基于所述喷出特性，通过局部搜索优化所述第二参数，所述第一参数包含将来自所述喷嘴的所述处理液的喷出速度提高到稳定喷出速度的上升期间所对应的参数，
所述第二参数包含所述喷出速度保持在所述稳定喷出速度的稳定喷出期间所对应的参数。

技术总结
本发明的课题是提供一种能够在喷出处理液的装置中适当且有效地实施参数优化的技术。本发明的涂布装置(1)具备：喷出控制部(910)，基于包括第一参数和第二参数的多个参数，控制来自喷嘴(71)的涂布液的喷出；喷出特性测量部(911)，测量喷嘴(71)喷出涂布液时的喷出特性；第一优化部(915)，基于喷出特性通过全局搜索优化第一参数；第二优化部(917)，基于喷出特性通过局部搜索优化第二参数。第一参数包含将来自喷嘴(71)的涂布液的喷出速度提高到稳定喷出速度的上升期间所对应的参数V1～V4、T1～T9。第二参数包含喷出速度保持在稳定喷出速度的稳定喷出期间所对应的参数V5。的稳定喷出期间所对应的参数V5。的稳定喷出期间所对应的参数V5。


技术研发人员：仲村武瑠 安陪裕滋
受保护的技术使用者：株式会社斯库林集团
技术研发日：2023.01.16
技术公布日：2023/8/1