双面镀膜装置的制作方法

1.本技术涉及镀膜设备技术领域，尤其是涉及一种双面镀膜装置。


背景技术：

2.对于电池硅片等基材，通常需要对其表面进行镀膜处理。
3.目前，常用的镀膜方案是采用单面镀膜设备对基材进行单面镀膜，在进行单面镀膜之间需要对基材进行前序处理，单面镀膜完成后需要对基材进行后续处理，经过复杂的工序处理后仅能完成对于基材的单面镀膜，不仅镀膜效率不理想，而且无法在单次镀膜处理中达成双面镀膜的工艺需求。


技术实现要素：

4.本技术的目的在于提供一种双面镀膜装置，以在一定程度上解决现有技术中存在的单面镀膜装置的镀膜效率低且在单次镀膜处理中不能达成双面镀膜工艺需求的技术问题。
5.本技术提供了一种双面镀膜装置，包括承载工装、第一镀膜组件、第二镀膜组件和转运组件；
6.所述待镀工件包括相对设置的第一表面和第二表面，所述承载工装用于承载所述待镀工件；
7.所述第一镀膜组件和所述第二镀膜组件顺次排列，所述转运组件能够在所述第一镀膜组件和所述第二镀膜组件之间沿预定路径输送所述承载工装；
8.所述第一镀膜组件能够对所述待镀工件的第一表面进行镀膜，所述第二镀膜组件能够对所述待镀工件的第二表面进行镀膜。
9.在上述技术方案中，进一步地，所述第一镀膜组件包括第一镀膜腔体和第一靶材，所述预定路径将所述第一镀膜腔体划分为第一顶部空间和第一底部空间，所述第一靶材设置于所述第一镀膜腔体的第一顶部空间；
10.所述第二镀膜组件包括第二镀膜腔体和第二靶材，所述预定路径将所述第二镀膜腔体划分为第二顶部空间和第二底部空间，所述第二靶材设置于所述第二镀膜腔体的第二底部空间。
11.在上述任一技术方案中，进一步地，所述第一镀膜组件还包括第一连接构件；
12.所述第一连接构件连接于所述第一镀膜腔体的顶端与所述第一靶材之间，或者，所述第一连接构件连接于所述第一镀膜腔体的底端与所述第一靶材之间。
13.在上述任一技术方案中，进一步地，所述第二镀膜组件还包括第二连接构件；
14.所述第二连接构件连接于所述第二镀膜腔体的顶端与所述第二靶材之间，或者，所述第二连接构件连接于所述第二镀膜腔体的底端与所述第二靶材之间。
15.在上述任一技术方案中，进一步地，所述第一靶材和所述第二靶材为同种靶材；
16.或者，所述第一靶材和所述第二靶材为异种靶材。
17.在上述任一技术方案中，进一步地，所述双面镀膜装置还包括过渡腔体，所述过渡腔体设置于所述第一镀膜腔体与所述第二镀膜腔体之间；
18.所述转运组件能够沿所述预定路径将所述承载工装顺次输送至所述第一镀膜腔体、所述过渡腔体和所述第二镀膜腔体。
19.在上述任一技术方案中，进一步地，所述双面镀膜装置还包括加热构件，所述加热构件设置于所述过渡腔体内。
20.在上述任一技术方案中，进一步地，所述双面镀膜装置还包括清洁构件，所述清洁构件设置于所述过渡腔体内。
21.在上述任一技术方案中，进一步地，所述双面镀膜装置还包括前序腔体组件，所述前序腔体组件设置于所述第一镀膜腔体背离于所述第二镀膜腔体的一侧；
22.所述转运组件能够沿所述预定路径将所述承载工装顺次输送至所述前序腔体组件、所述第一镀膜腔体和所述第二镀膜腔体。
23.在上述任一技术方案中，进一步地，所述双面镀膜装置还包括后续腔体组件，所述后续腔体组件设置于所述第二镀膜腔体背离于所述第一镀膜腔体的一侧；
24.所述转运组件能够沿所述预定路径将所述承载工装顺次输送至所述第一镀膜腔体、所述第二镀膜腔体和所述后续腔体组件。
25.与现有技术相比，本技术的有益效果为：
26.本技术提供的双面镀膜装置包括承载工装、第一镀膜组件、第二镀膜组件和转运组件，转运组件将承载工装所固定的待镀工件沿预定路径顺次输送至第一镀膜组件和第二镀膜组件，在第一镀膜组件内完成对待镀工件的第一表面的镀膜处理，在第二镀膜组件内完成对待镀工件的第二表面的镀膜处理，从而第一表面的镀膜处理工序和第二表面的镀膜处理工序配置为先后完成，两个表面的镀膜工序不会发生干扰，确保双面镀膜的独立性和连续性，兼顾了镀膜效果和镀膜效率，实现了对于电池硅片等待镀工件的高效双面镀膜。
附图说明
27.为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
28.图1为本技术实施例提供的双面镀膜装置的第一结构示意图；
29.图2为图1示出的双面镀膜装置的工作原理示意图；
30.图3为图1示出的双面镀膜装置的第二镀膜组件的结构示意图；
31.图4为本技术实施例提供的双面镀膜装置的第二结构示意图；
32.图5为图4示出的双面镀膜装置的工作原理示意图；
33.图6为本技术实施例提供的双面镀膜装置的第三结构示意图；
34.图7为图6示出的双面镀膜装置的工作原理示意图。
35.附图标记：
36.1-双面镀膜装置；10-前序腔体组件；11-分子泵；12-过渡腔体；13-后续腔体组件；14-第二镀膜组件；140-第二镀膜腔体；1400-第二顶部空间；1401-第二底部空间；141-第二
镀膜源；1410-第二靶材；1411-第二连接构件；15-第一镀膜组件；150-第一镀膜腔体；1500-第一顶部空间；1501-第一底部空间；151-第一镀膜源；1510-第一靶材；1511-第一连接构件；16-承载工装。
具体实施方式
37.下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
38.在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
39.在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
40.参见图1至图7所示，本技术的实施例提供了一种双面镀膜装置1用于对待镀工件进行双面镀膜。其中，待镀工件例如可以是硅片，进一步地可以是太阳能电池硅片。
41.本实施例提供的双面镀膜装置1包括承载工装16、第一镀膜组件15、第二镀膜组件14和转运组件；待镀工件包括相对设置的第一表面和第二表面，承载工装16用于承载待镀工件；第一镀膜组件15和第二镀膜组件14顺次排列，转运组件能够在第一镀膜组件15和第二镀膜组件14之间沿预定路径输送承载工装16；第一镀膜组件15能够对待镀工件的第一表面进行镀膜，第二镀膜组件14能够对待镀工件的第二表面进行镀膜。
42.该技术方案中，承载工装16例如可以为框架式承载工装，通过该承载工装16对待镀工件的周向边沿进行固定，以实现对于待镀工件的承载。转运组件可以将承载工装16在第一镀膜组件15和第二镀膜组件14之间输送，承载工装16用于承载待镀工件，因而转运组件至少能够将承载工装16上的待镀工件在第一镀膜组件15和第二镀膜组件14之间输送。
43.当待镀工件随承载工装16被转运组件输送至第一镀膜组件15时，第一镀膜组件15可以对待镀工件的第一表面进行镀膜处理；当待镀工件随承载工装16被转运组件输送至第二镀膜组件14时，第二镀膜组件14可以对待镀工件的第二表面进行镀膜处理，从而该镀膜装置能够顺次完成待镀工件的双面镀膜，且将第一表面镀膜处理工序与第二表面镀膜处理工序配置为先后完成，二者不会干扰，确保双面镀膜的独立性和连续性，兼顾了镀膜质量和镀膜效率。
44.本实施例的可选方案中，第一镀膜组件15包括第一镀膜腔体150和第一靶材1510，预定路径将第一镀膜腔体150划分为第一顶部空间1500和第一底部空间1501，第一靶材1510设置于第一镀膜腔体150的第一顶部空间1500；第二镀膜组件14包括第二镀膜腔体140
和第二靶材1410，预定路径将第二镀膜腔体140划分为第二顶部空间1400和第二底部空间1401，第二靶材1410设置于第二镀膜腔体140的第二底部空间1401。
45.该技术方案中，如图2、图5和图7所示，通过虚线大致示出了预定路径，预定路径将第一镀膜腔体150划分为第一顶部空间1500和第一底部空间1501，是指第一镀膜腔体150分别位于预定路径相对的两侧的空间分别定义为第一顶部空间1500和第一底部空间1501。当转运组件将待镀工件输送至第一镀膜腔体150时，待镀工件的第一表面面向第一顶部空间1500，待镀工件的第二表面面向第一底部空间1501。
46.在此基础上，第一镀膜组件15包括第一镀膜源151，第一镀膜源151包括第一靶材1510，将第一靶材1510设置于第一镀膜腔体150的第一顶部空间1500，使得第一靶材1510与待镀工件的第一表面相面对，从而使得第一靶材1510向待镀工件的第一表面沉积。
47.同理，预定路径将第二镀膜腔体140划分为第二顶部空间1400和第二底部空间1401，是指第二镀膜腔体140分别位于预定路径相对的两侧的空间分别定义为第二顶部空间1400和第二底部空间1401。当转运组件将待镀工件输送至第二镀膜腔体140时，待镀动件的第一表面面向第二顶部空间1400，待镀工件的第二表面面向第二底部空间1401。
48.在此基础上，第二镀膜组件14包括第二镀膜源141，第二镀膜源141包括第二靶材1410，将第二靶材1410设置于第二镀膜腔体140的第二底部空间1401，使得第二靶材1410与待镀工件的第二表面相面对，从而使得第二靶材1410向待镀工件的第二表面沉积。
49.可见，该双面镀膜装置1通过将第一靶材1510和第二靶材1410分别设置于预定路径的不同侧，使得第一靶材1510在第一镀膜腔体150内向待镀工件的第一表面沉积，第二靶材1410在第二镀膜腔体140内向待镀工件的第二表面沉积，从而使得待镀工件在输送过程中顺次完成第一表面和第二表面的镀膜处理。
50.可选地，第一镀膜组件15和第二镀膜组件14均可以采用磁控溅射原理对待镀工件进行镀膜，在这种情况下，第一镀膜腔体150和第二镀膜腔体140集成有磁控部件，可以通过分子泵11等真空泵对第一镀膜腔体150和第二镀膜腔体140进行抽真空处理。
51.本实施例的可选方案中，第一镀膜组件15还包括第一连接构件1511；第一连接构件1511连接于第一镀膜腔体150的顶端与第一靶材1510之间，或者，第一连接构件1511连接于第一镀膜腔体150的底端与第一靶材1510之间。
52.该技术方案中，第一靶材1510通过第一连接构件1511与第一镀膜腔体150相连接，从而安装并定位在第一镀膜腔体150的第一顶部空间1500内。此外，第一靶材1510还可以通过第一连接构件1511与电源阴极实现电连接，使得第一靶材1510作为阴极靶材使用。进一步地，还可以通过第一连接构件1511驱动第一靶材1510绕自身轴线转动，以提高待镀工件的第一表面的镀膜质量。
53.如图2和图5所示，当第一连接构件1511连接于第一镀膜腔体150的顶端与第一靶材1510之间时，第一连接构件1511和第一靶材1510均设置于第一镀膜腔体150的第一顶部空间1500，使得第一镀膜源151固定在第一镀膜腔体150的顶端。
54.如图7所示，当第一连接构件1511连接于第一镀膜腔体150的底端与第一靶材1510之间时，第一连接构件1511由第一镀膜腔体150的第一底部空间1501越过预定路径延伸至第一顶部空间1500，并在第一顶部空间1500内与第一靶材1510连接，使得第一镀膜源151固定在第一镀膜腔体150的底端。
55.本实施例的可选方案中，第二镀膜组件14还包括第二连接构件1411；第二连接构件1411连接于第二镀膜腔体140的顶端与第二靶材1410之间，或者，第二连接构件1411连接于第二镀膜腔体140的底端与第二靶材1410之间。
56.该技术方案中，第二靶材1410通过第二连接构件1411与第二镀膜腔体140相连接，从而安装并定位在第二镀膜腔体140的第二底部空间1401内。此外，第二靶材1410还可以通过第二连接构件1411与电源阴极实现电连接，使得第二靶材1410作为阴极靶材使用。进一步地，还可以通过第二连接构件1411驱动第二靶材1410绕自身轴线转动，以提高待镀工件的第二表面的镀膜质量。
57.如图5所示，当第二连接构件1411连接于第二镀膜腔体140的顶端与第二靶材1410之间时，第二连接构件1411由第二镀膜腔体140的第二顶部空间1400越过预定路径延伸至第二底部空间1401，并在第二底部空间1401内与第二靶材1410连接，使得第二镀膜源141固定在第二镀膜腔体140的顶端。
58.当第二连接构件1411连接于第二镀膜腔体140的底端与第二靶材1410之间时，第二连接构件1411和第二靶材1410均设置于第二镀膜腔体140的第二底部空间1401，使得第二镀膜源141固定在第二镀膜腔体140的底端。
59.有鉴于此，图1示出了一种双面镀膜装置1，第一镀膜源151固定在第一镀膜腔体150的顶端，第二镀膜源141固定在第二镀膜腔体140的底端；图4示出了另一种双面镀膜装置1，第一镀膜源151固定在第一镀膜腔体150的顶端，第二镀膜源141固定在第二镀膜腔体140的底端；图6示出了又一种双面镀膜装置1，第一镀膜源151固定在第一镀膜腔体150的底端，第二镀膜源141固定在第二镀膜腔体140的底端。
60.本实施例的可选方案中，第一靶材1510和第二靶材1410为同种靶材；或者，第一靶材1510和第二靶材1410为异种靶材。
61.该技术方案中，当第一靶材1510和第二靶材1410为同种靶材，也就是说，第一靶材1510的材质和第二靶材1410的材质相同，那么可以在待镀工件的第一表面和第二表面沉积同种材质的膜层。
62.当第一靶材1510和第二靶材1410为异种靶材，也就是说，第一靶材1510的材质和第二靶材1410的材质不同，那么可以在待镀工件的第一表面和第二表面沉积异种材质的膜层。
63.本实施例的可选方案中，双面镀膜装置1还包括过渡腔体12，过渡腔体12设置于第一镀膜腔体150与第二镀膜腔体140之间；转运组件能够沿预定路径将承载工装16顺次输送至第一镀膜腔体150、过渡腔体12和第二镀膜腔体140。
64.该技术方案中，过渡腔体12设置于第一镀膜腔体150和第二镀膜腔体140之间，从而转运组件在沿预定路径将承载工装16顺次输送至第一镀膜腔体150、过渡腔体12和第二镀膜腔体140时，能够使得待镀工件顺次经过第一镀膜腔体150、过渡腔体12和第二镀膜腔体140。
65.进而待镀工件的第一表面在第一镀膜腔体150内完成镀膜后，能够在过渡腔体12内静置预定时长以提高第一表面的镀膜质量，静置完成后，再将待镀工件输送至第二镀膜腔体140内进行第二表面镀膜。也就是说，通过在第一镀膜腔体150和第二镀膜腔体140之间设置过渡腔体12，能够在第一表面镀膜工序和第二表面镀膜工序之间起到缓冲作用。
66.可选地，过渡腔体12内处于真空环境。
67.本实施例的可选方案中，双面镀膜装置1还包括加热构件，加热构件设置于过渡腔体12内。
68.该技术方案中，通过在过渡腔体12内设置加热工件，能够对过渡腔体12的环境温度进行调节，使得待镀工件在缓冲过程中在环境温度影响下能够达到适于镀膜的理想工艺温度，以便于提高待镀工件的第二表面在第二镀膜腔体140内的镀膜质量。
69.可选地，加热构件例如可以为电热丝。
70.本实施例的可选方案中，双面镀膜装置1还包括清洁构件，清洁构件设置于过渡腔体12内。
71.该技术方案中，通过在过渡腔体12内设置清洁构件，能够对过渡腔体12内的环境以及过渡腔体12内的待镀工件进行清洁，从而避免待镀工件上沉积的膜层出现杂质，进而提高镀膜质量。
72.可选地，清洁构件例如可以采用惰性气体吹扫的方式实现清洁功能。
73.本实施例的可选方案中，双面镀膜装置1还包括前序腔体组件10，前序腔体组件10设置于第一镀膜腔体150背离于第二镀膜腔体140的一侧；转运组件能够沿预定路径将承载工装16顺次输送至前序腔体组件10、第一镀膜腔体150和第二镀膜腔体140。
74.该技术方案中，通过在第一镀膜腔体150背离于第二镀膜腔体140的一侧设置前序腔体组件10，使得前序腔体组件10、第一镀膜腔体150和第二镀膜腔体140顺次排布，从而转运组件能够沿预定路径将承载工装16所承载的待镀工件顺次输送至前序腔体组件10、第一镀膜腔体150和第二镀膜腔体140。
75.进而待镀工件在进行双面镀膜处理之前，能够预先在前序腔体组件10内进行前序处理，为待镀工件进行双面镀膜处理做准备，以提高双面镀膜效率和双面镀膜质量。
76.可选地，前序腔体组件10包括顺次排布的上料腔体、清洁腔体、真空腔体和烘干腔体，从而在进行双面镀膜处理之前，先通过上料腔体将承载有待镀工件的承载工装16向转运组件上料，以便于转运组件能够沿预定路径输送承载工装16上的待镀工件，然后再在清洁腔体内、真空腔体和烘干腔体内对待镀工件进行清洁和烘干，进而使得待镀工件的表面状态满足双面镀膜的工艺需求。
77.本实施例的可选方案中，双面镀膜装置1还包括后续腔体组件13，后续腔体组件13设置于第二镀膜腔体140背离于第一镀膜腔体150的一侧；转运组件能够沿预定路径将承载工装16顺次输送至第一镀膜腔体150、第二镀膜腔体140和后续腔体组件13。
78.该技术方案中，通过在第二镀膜腔体140背离于第一镀膜腔体150的一侧设置后续腔体组件13，使得第一镀膜腔体150、第二镀膜腔体140和后续腔体组件13顺次排布，从而转运组件能够沿预定路径将承载工装16所承载的待镀工件顺次输送至第一镀膜腔体150、第二镀膜腔体140和后续腔体组件13，进而待镀工件在完成双面镀膜处理之后，能够在后续腔体组件13内进行后续处理，便于待镀工件进入下一工序。
79.可选地，后续腔体组件13包括顺次排布的冷却腔体和下料腔体，待镀工件在完成双面镀膜之后可以在冷却腔体内降至常温，再在下料腔体内将承载有待镀工件的承载工装16从转运组件取下，实现待镀工件的下料。
80.可以理解的是，该双面镀膜装置1可以包括顺次排布的前序镀膜腔体、第一镀膜组
件15、过渡腔体12、第二镀膜组件14和后续腔体组件13。
81.可选地，转运组件包括两排传动辊，两排传动辊分别对承载工装16的两侧边沿进行支撑，传动辊在滚动过程中将承载工装16向后输送。具体而言，前序镀膜腔体、第一镀膜组件15、过渡腔体12、第二镀膜组件14和后续腔体组件13的内壁均转动连接有间隔设置的两排传动辊。
82.最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的范围。此外，本领域的技术人员能够理解，尽管在此所述的一些实施例包括其它实施例中所包括的某些特征而不是其它特征，但是不同实施例的特征的组合意味着处于本实用新型的范围之内并且形成不同的实施例。例如，所要求保护的实施例的任意之一都可以以任意的组合方式来使用。公开于该背景技术部分的信息仅仅旨在加深对本实用新型的总体背景技术的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域技术人员所公知的现有技术。

技术特征：
1.一种双面镀膜装置，其特征在于，包括承载工装、第一镀膜组件、第二镀膜组件和转运组件；待镀工件包括相对设置的第一表面和第二表面，所述承载工装用于承载所述待镀工件；所述第一镀膜组件和所述第二镀膜组件顺次排列，所述转运组件能够在所述第一镀膜组件和所述第二镀膜组件之间沿预定路径输送所述承载工装；所述第一镀膜组件能够对所述待镀工件的第一表面进行镀膜，所述第二镀膜组件能够对所述待镀工件的第二表面进行镀膜。2.根据权利要求1所述的双面镀膜装置，其特征在于，所述第一镀膜组件包括第一镀膜腔体和第一靶材，所述预定路径将所述第一镀膜腔体划分为第一顶部空间和第一底部空间，所述第一靶材设置于所述第一镀膜腔体的第一顶部空间；所述第二镀膜组件包括第二镀膜腔体和第二靶材，所述预定路径将所述第二镀膜腔体划分为第二顶部空间和第二底部空间，所述第二靶材设置于所述第二镀膜腔体的第二底部空间。3.根据权利要求2所述的双面镀膜装置，其特征在于，所述第一镀膜组件还包括第一连接构件；所述第一连接构件连接于所述第一镀膜腔体的顶端与所述第一靶材之间，或者，所述第一连接构件连接于所述第一镀膜腔体的底端与所述第一靶材之间。4.根据权利要求2所述的双面镀膜装置，其特征在于，所述第二镀膜组件还包括第二连接构件；所述第二连接构件连接于所述第二镀膜腔体的顶端与所述第二靶材之间，或者，所述第二连接构件连接于所述第二镀膜腔体的底端与所述第二靶材之间。5.根据权利要求2所述的双面镀膜装置，其特征在于，所述第一靶材和所述第二靶材为同种靶材；或者，所述第一靶材和所述第二靶材为异种靶材。6.根据权利要求2所述的双面镀膜装置，其特征在于，还包括过渡腔体，所述过渡腔体设置于所述第一镀膜腔体与所述第二镀膜腔体之间；所述转运组件能够沿所述预定路径将所述承载工装顺次输送至所述第一镀膜腔体、所述过渡腔体和所述第二镀膜腔体。7.根据权利要求6所述的双面镀膜装置，其特征在于，还包括加热构件，所述加热构件设置于所述过渡腔体内。8.根据权利要求6所述的双面镀膜装置，其特征在于，还包括清洁构件，所述清洁构件设置于所述过渡腔体内。9.根据权利要求2所述的双面镀膜装置，其特征在于，还包括前序腔体组件，所述前序腔体组件设置于所述第一镀膜腔体背离于所述第二镀膜腔体的一侧；所述转运组件能够沿所述预定路径将所述承载工装顺次输送至所述前序腔体组件、所述第一镀膜腔体和所述第二镀膜腔体。10.根据权利要求2所述的双面镀膜装置，其特征在于，还包括后续腔体组件，所述后续腔体组件设置于所述第二镀膜腔体背离于所述第一镀膜腔体的一侧；
所述转运组件能够沿所述预定路径将所述承载工装顺次输送至所述第一镀膜腔体、所述第二镀膜腔体和所述后续腔体组件。

技术总结
本申请涉及镀膜设备技术领域，尤其是涉及一种双面镀膜装置。该双面镀膜装置包括承载工装、第一镀膜组件、第二镀膜组件和转运组件；待镀工件包括相对设置的第一表面和第二表面，承载工装用于承载待镀工件；第一镀膜组件和第二镀膜组件顺次排列，转运组件能够在第一镀膜组件和第二镀膜组件之间沿预定路径输送承载工装；第一镀膜组件能够对待镀工件的第一表面进行镀膜，第二镀膜组件能够对待镀工件的第二表面进行镀膜。该双面镀膜装置第一表面的镀膜处理工序和第二表面的镀膜处理工序配置为先后完成，两个表面的镀膜工序不会发生干扰，确保双面镀膜的独立性和连续性，兼顾了镀膜效果和镀膜效率，实现了对于电池硅片等待镀工件的高效双面镀膜。效双面镀膜。效双面镀膜。


技术研发人员：请求不公布姓名
受保护的技术使用者：广东利元亨智能装备股份有限公司
技术研发日：2023.03.31
技术公布日：2023/7/28