涂布系统和方法与流程

1.本发明涉及电池技术领域，具体涉及一种涂布系统和方法。


背景技术：

2.目前，在锂电池生产过程的涂布工序中，通常以单基准方式计算基材的偏移值，由于极片宽幅的影响，存在计算误差大，纠偏效果差的缺陷。


技术实现要素：

3.鉴于上述问题，本发明提供一种涂布系统和方法，旨在解决现有的涂布纠偏方式通常以单基准方式计算基材的偏移值，由于极片宽幅的影响，存在计算误差大，纠偏效果差的问题。
4.第一方面，本发明提供了一种涂布系统，所述涂布系统包括：第一检测器、第二检测器、控制设备以及纠偏设备；所述第一检测器，用于检测基材的第一面的第一涂布信息；所述第二检测器，用于检测基材的第二面的第二涂布信息，所述第一面为所述基材的一面，所述第二面为所述基材的另一面；所述控制设备，用于根据所述第一涂布信息和所述第二涂布信息计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值，并根据所述偏移值向所述纠偏设备发送纠偏指令；所述纠偏设备，用于根据所述纠偏指令对所述基材进行涂布纠偏。
5.本发明实施例的技术方案中，根据基材的第一面的第一涂布信息和第二面的第二涂布信息计算第一面和第二面两侧的偏移值，并根据偏移值进行涂布纠偏；相较于现有的通过单基准方式计算基材的偏移值的方式，由于本实施例以双基准方式计算第一面和第二面两侧的偏移值，从而减少了极片宽幅导致的计算误差，进而能够提高纠偏效果，提升产品的优率。
6.在一些实施例中，所述涂布系统还包括：放卷设备、涂布设备以及收卷设备，所述涂布设备设置于所述放卷设备与所述收卷设备之间，所述第一检测器和所述第二检测器设置在所述涂布设备与所述收卷设备之间；所述涂布设备，用于对所述基材的第一面和第二面进行涂布。
7.本发明实施例的技术方案中，通过双面涂布对基材的第一面和第二面进行涂布，从而能够提高涂布效率。
8.在一些实施例中，所述涂布设备包括第一面涂布设备和第二面涂布设备，所述第一面涂布设备设置在放卷设备的放卷位置处，所述第二面涂布设备设置在所述第一面涂布设备与所述收卷设备之间；所述第一面涂布设备，用于对所述基材的第一面进行涂布；所述第二面涂布设备，用于对所述基材的第二面进行涂布。
9.本发明实施例的技术方案中，分别设置第一面涂布设备和第二面涂布设备，第一
面涂布设备用于对基材的第一面进行涂布，第二面涂布设备用于对基材的第二面进行涂布，从而能够提升产品的优率。
10.在一些实施例中，所述涂布系统还包括：纠偏器，所述纠偏器设置在所述第一面涂布设备与所述第二面涂布设备之间，所述纠偏设备为纠偏器和/或所述第二面涂布设备；所述纠偏器，用于根据所述纠偏指令对所述基材的位置进行调整，以对所述基材进行纠偏；所述第二面涂布设备，用于根据所述纠偏指令对所述基材的第二面进行涂布，以对所述基材进行涂布纠偏。
11.本发明实施例的技术方案中，通过纠偏器和/或第二面涂布设备对基材进行涂布纠偏，从而能够提高纠偏效果，或降低涂布纠偏成本。
12.在一些实施例中，所述涂布系统还包括烘干设备，所述烘干设备设置于所述第一面涂布设备与所述第二面涂布设备之间，并同时设置于所述第二面涂布设备与所述收卷设备之间；所述烘干设备，用于对所述基材的第一面和第二面进行烘干。
13.本发明实施例的技术方案中，烘干设备设置于第一面涂布设备与所述第二面涂布设备之间，并同时设置于第二面涂布设备与所述收卷设备之间，从而无需设置多台烘干设备也能实现对基材的第一面和第二面进行烘干，进而能够降低涂布烘干成本。
14.在一些实施例中，所述第一检测器和所述第二检测器设置在所述烘干设备与所述收卷设备之间；所述第一检测器，用于检测所述基材的第一面的第一面干膜图像；所述第二检测器，用于检测所述基材的第二面的第二面干膜图像；所述控制设备，用于根据所述第一面干膜图像和所述第二面干膜图像计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值，并根据所述偏移值向所述纠偏设备发送纠偏指令。
15.本发明实施例的技术方案中，通过图像对比的方式计算第一面和第二面两侧的偏移值，即根据第一面干膜图像和第二面干膜图像计算第一面和所述第二面两侧的偏移值，从而能够提高偏移值的准确性。
16.在一些实施例中，所述涂布系统还包括：第三检测器，所述第三检测器设置在所述第二面涂布设备与所述烘干设备之间，所述第一检测器设置在所述烘干设备与所述第二面涂布设备之间，所述第二检测器设置在所述烘干设备与所述收卷设备之间；所述第三检测器，用于检测所述基材的第二面的第二面湿膜图像；所述控制设备，用于根据所述第二面湿膜图像和所述第二面干膜图像计算烘干补偿值，并根据所述烘干补偿值、所述第一面干膜图像以及所述第二面湿膜图像计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值，并根据所述偏移值向所述纠偏设备发送纠偏指令。
17.本发明实施例的技术方案中，额外设置第三检测器，用于检测基材的第二面的第二面湿膜图像，并根据烘干补偿值、第一面干膜图像以及第二面湿膜图像计算第一面和所述第二面两侧的偏移值；由于第一检测器的位置提前至烘干设备与第二面涂布设备之间，第三检测器的位置设置在第二面涂布设备与烘干设备之间，从而能够缩短检测器与纠偏设备之间的距离，使得检测器更加靠近纠偏设备，进而能够缩短验证纠偏效果的所需时间，提高了涂布纠偏的实时性。
18.在一些实施例中，所述控制设备，还用于根据所述烘干补偿值、所述第一面干膜图像以及所述第二面湿膜图像计算所述第一面和所述第二面两侧的单帧偏移值，并将单帧图片高度进行累加，获得累加距离，在累加距离满足预设距离条件的情况下，计算所述累加距离内多个单帧偏移值的平均偏移值，根据所述平均偏移值和纠偏系数计算纠偏闭环值，在所述纠偏闭环值满足预设纠偏条件的情况下，根据所述纠偏闭环值向所述纠偏设备发送纠偏指令。
19.本发明实施例的技术方案中，在进行纠偏之前还判断多帧图片高度的累加距离是否满足预设距离条件，并判断纠偏闭环值是否满足预设纠偏条件，从而能够提高涂布纠偏的准确性。
20.在一些实施例中，所述控制设备，还用于获取所述基材的第二面烘干前后的经验补偿值，并根据所述经验补偿值、所述第一面干膜图像以及所述第二面湿膜图像计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值，并根据所述偏移值向所述纠偏设备发送纠偏指令。
21.本发明实施例的技术方案中，根据基材的第二面烘干前后的经验补偿值、第一面干膜图像以及第二面湿膜图像计算第一面和第二面两侧的偏移值，从而能够提高涂布纠偏效率，并降低涂布系统成本。
22.第二方面，本发明提供了一种涂布方法，包括：通过第一检测器检测基材的第一面的第一涂布信息；通过第二检测器检测基材的第二面的第二涂布信息，所述第一面为所述基材的一面，所述第二面为所述基材的另一面；根据所述第一涂布信息和所述第二涂布信息计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值，并根据所述偏移值向纠偏设备发送纠偏指令，以使所述纠偏设备根据所述纠偏指令对所述基材进行涂布纠偏。
23.本发明实施例的技术方案中，根据基材的第一面的第一涂布信息和第二面的第二涂布信息计算第一面和第二面两侧的偏移值，并根据偏移值进行涂布纠偏；相较于现有的通过单基准方式计算基材的偏移值的方式，由于本实施例以双基准方式计算第一面和第二面两侧的偏移值，从而减少了极片宽幅导致的计算误差，进而能够提高纠偏效果，提升产品的优率。
24.在一些实施例中，所述涂布方法还包括：通过所述第一检测器检测所述基材的第一面的第一面干膜图像；通过所述第二检测器检测所述基材的第二面的第二面干膜图像；根据所述第一面干膜图像和所述第二面干膜图像计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值，并根据所述偏移值向所述纠偏设备发送纠偏指令，以使所述纠偏设备根据所述纠偏指令对所述基材进行涂布纠偏。
25.本发明实施例的技术方案中，通过图像对比的方式计算第一面和第二面两侧的偏移值，即根据第一面干膜图像和第二面干膜图像计算第一面和所述第二面两侧的偏移值，从而能够提高偏移值的准确性。
26.在一些实施例中，所述涂布方法还包括：通过第三检测器检测所述基材的第二面的第二面湿膜图像；根据所述第二面湿膜图像和所述第二面干膜图像计算烘干补偿值，并根据所述烘
干补偿值、所述第一面干膜图像以及所述第二面湿膜图像计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值，并根据所述偏移值向所述纠偏设备发送纠偏指令，以使所述纠偏设备根据所述纠偏指令对所述基材进行涂布纠偏。
27.本发明实施例的技术方案中，额外设置第三检测器，用于检测基材的第二面的第二面湿膜图像，并根据烘干补偿值、第一面干膜图像以及第二面湿膜图像计算第一面和所述第二面两侧的偏移值；由于第一检测器的位置提前至烘干设备与第二面涂布设备之间，第三检测器的位置设置在第二面涂布设备与烘干设备之间，从而能够缩短检测器与纠偏设备之间的距离，使得检测器更加靠近纠偏设备，进而能够缩短验证纠偏效果的所需时间，提高了涂布纠偏的实时性。
28.第三方面，本发明提供了一种涂布方法，包括：获取基材的第一面的第一涂布信息和所述基材的第二面的第二涂布信息，所述第一面为所述基材的一面，所述第二面为所述基材的另一面；根据所述第一涂布信息和所述第二涂布信息计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值，并根据所述偏移值向纠偏设备发送纠偏指令，以使所述纠偏设备根据所述纠偏指令对所述基材进行涂布纠偏。
29.本发明实施例的技术方案中，根据基材的第一面的第一涂布信息和第二面的第二涂布信息计算第一面和第二面两侧的偏移值，并根据偏移值进行涂布纠偏；相较于现有的通过单基准方式计算基材的偏移值的方式，由于本实施例以双基准方式计算第一面和第二面两侧的偏移值，从而减少了极片宽幅导致的计算误差，进而能够提高纠偏效果，提升产品的优率。
30.在一些实施例中，所述涂布方法还包括：获取所述基材的第一面的第一面干膜图像和所述基材的第二面的第二面干膜图像；根据所述第一面干膜图像和所述第二面干膜图像计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值，并根据所述偏移值向所述纠偏设备发送纠偏指令，以使所述纠偏设备根据所述纠偏指令对所述基材进行涂布纠偏本发明实施例的技术方案中，通过图像对比的方式计算第一面和第二面两侧的偏移值，即根据第一面干膜图像和第二面干膜图像计算第一面和所述第二面两侧的偏移值，从而能够提高偏移值的准确性。
31.在一些实施例中，所述根据所述第一面干膜图像和所述第二面干膜图像计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值，包括：获取所述基材的第二面的第二面湿膜图像；根据所述第二面湿膜图像和所述第二面干膜图像计算烘干补偿值；根据所述烘干补偿值、所述第一面干膜图像以及所述第二面湿膜图像计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值。
32.本发明实施例的技术方案中，额外检测基材的第二面的第二面湿膜图像，并根据烘干补偿值、第一面干膜图像以及第二面湿膜图像计算第一面和所述第二面两侧的偏移值；由于第一检测器的位置提前至烘干设备与第二面涂布设备之间，第三检测器的位置设置在第二面涂布设备与烘干设备之间，从而能够缩短检测器与纠偏设备之间的距离，使得
检测器更加靠近纠偏设备，进而能够缩短验证纠偏效果的所需时间，提高了涂布纠偏的实时性。
33.在一些实施例中，所述涂布方法还包括：根据所述烘干补偿值、所述第一面干膜图像以及所述第二面湿膜图像计算所述第一面和所述第二面两侧的单帧偏移值，并将单帧图片高度进行累加，获得累加距离；在累加距离满足预设距离条件的情况下，计算所述累加距离内多个单帧偏移值的平均偏移值；根据所述平均偏移值和纠偏系数计算纠偏闭环值；在所述纠偏闭环值满足预设纠偏条件的情况下，根据所述纠偏闭环值向所述纠偏设备发送纠偏指令。
34.本发明实施例的技术方案中，在进行纠偏之前还判断多帧图片高度的累加距离是否满足预设距离条件，并判断纠偏闭环值是否满足预设纠偏条件，从而能够提高涂布纠偏的准确性。
35.在一些实施例中，所述涂布方法还包括：获取所述基材的第二面烘干前后的经验补偿值；根据所述经验补偿值、所述第一面干膜图像以及所述第二面湿膜图像计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值，并根据所述偏移值向所述纠偏设备发送纠偏指令。
36.本发明实施例的技术方案中，根据基材的第二面烘干前后的经验补偿值、第一面干膜图像以及第二面湿膜图像计算第一面和第二面两侧的偏移值，从而能够提高涂布纠偏效率，并降低涂布系统成本。
37.上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本发明的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举本发明的具体实施方式。
附图说明
38.图1为基材涂布的断面图；图2为以单基准方式计算基材的偏移值时第一面示意图；图3为以单基准方式计算基材的偏移值时第二面示意图；图4为本发明一些实施例计算基材的偏移值时第一面示意图；图5为本发明一些实施例计算基材的偏移值时第二面示意图；图6为本发明一些实施例的涂布系统的第一结构图；图7为本发明一些实施例的涂布系统的第二结构图；图8为本发明一些实施例的涂布系统的第三结构图；图9为本发明一些实施例的涂布系统的第四结构图；图10为本发明一些实施例的涂布系统的第五结构图；图11为本发明一些实施例的控制设备的控制逻辑图；图12为本发明一些实施例的控制设备的详细控制逻辑图；图13为本发明一些实施例的涂布纠偏方法的流程图；图14为本发明一些实施例的涂布纠偏方法的流程图。
39.具体实施方式中的附图标号如下：放卷设备1，涂布设备2，过辊3，第一检测器4，第二检测器5，收卷设备6；第一面涂布设备21，第一面涂布头211，第一面背辊212，第二面涂布设备22，第二面涂布头221，第二面背辊222；纠偏器7，纠偏辊71；烘干设备8；第三检测器9。
具体实施方式
40.下面将结合附图对本发明技术方案的实施例进行详细的描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本发明的技术方案，因此只作为示例，而不能以此来限制本发明的保护范围。
41.除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同；本文中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明；本发明的说明书和权利要求书及上述附图说明中的术语“包括”和“具有”以及它们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。
42.在本发明实施例的描述中，技术术语“第一”“第二”等仅用于区别不同对象，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量、特定顺序或主次关系。在本发明实施例的描述中，“多个”的含义是两个以上，除非另有明确具体的限定。
43.在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本发明的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。
44.在本发明实施例的描述中，术语“和/或”仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如a和/或b，可以表示：单独存在a，同时存在a和b，单独存在b这三种情况。另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。
45.在本发明实施例的描述中，术语“多个”指的是两个以上（包括两个），同理，“多组”指的是两组以上（包括两组），“多片”指的是两片以上（包括两片）。
46.在本发明实施例的描述中，技术术语“中心”“纵向”“横向”“长度”“宽度”“厚度”“上”“下”“前”“后”“左”“右”“竖直”“水平”“顶”“底”“内”“外”“顺时针”“逆时针”“轴向”“径向”“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明实施例和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明实施例的限制。
47.在本发明实施例的描述中，除非另有明确的规定和限定，技术术语“安装”“相连”“连接”“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；也可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明实施例中的具体含义应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
48.目前，从市场形势的发展来看，电池的应用越加广泛。电池不仅被应用于水力、火力、风力和太阳能电站等储能电源系统，而且还被广泛应用于电动自行车、电动摩托车、电动汽车等电动交通工具，以及军事装备和航空航天等多个领域。随着电池应用领域的不断扩大，其市场的需求量也在不断地扩增。
49.在锂电池生产过程的涂布工序中，通常以单基准方式计算基材的偏移值，为了便于理解，参考图1进行说明，图1为基材涂布的断面图，图1中，采用箔材作为基材，箔材可以包括铜箔和铝箔等，用于承载活性物质，为电池中的集流体，基材的第一面和第二面可以分别涂布活性物质，形成电池的极片。参考图2和图3进行说明，图2为以单基准方式计算基材的偏移值时第一面示意图，图3为以单基准方式计算基材的偏移值时第二面示意图，图2和图3中，以一出四的铜箔极片为例，黑色区域为活性物质涂布区域，第一面的d1、d2、d3、d4和第二面的d1’、d2’、d3’、d4’都是以左侧为对齐基准进行计算的，由于极片宽幅的影响，存在计算误差大，纠偏效果差的缺陷，尤其对于宽幅较大的极片，缺陷更加明显。
50.为了解决现有的涂布纠偏方式计算误差大，纠偏效果差的问题，可以根据基材的第一面的第一涂布信息和第二面的第二涂布信息计算第一面和第二面两侧的偏移值，并根据偏移值进行涂布纠偏；相较于现有的通过单基准方式计算基材的偏移值的方式，由于本发明以双基准方式计算第一面和第二面两侧的偏移值，从而减少了极片宽幅导致的计算误差，进而能够提高纠偏效果，提升产品的优率。
51.在一些实施例中，提出了一种涂布系统，第一检测器、第二检测器、控制设备以及纠偏设备；所述第一检测器，用于检测基材的第一面的第一涂布信息；所述第二检测器，用于检测基材的第二面的第二涂布信息，所述第一面为所述基材的一面，所述第二面为所述基材的另一面；所述控制设备，用于根据所述第一涂布信息和所述第二涂布信息计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值，并根据所述偏移值向所述纠偏设备发送纠偏指令；所述纠偏设备，用于根据所述纠偏指令对所述基材进行涂布纠偏。
52.第一检测器和第二检测器可以是视觉检测器（例如，电荷耦合器件（charge coupled device，ccd）相机）、激光检测器等，涂布信息包括但不限于用于表示涂布区域位置的信息，例如，视觉检测器可以检测基材的第一面的干膜图像来获取第一涂布信息，激光检测器可以通过发射激光束并检测激光束的反射情况来获得第一涂布信息，同理第二检测器也可以通过相同方式检测基材的第二面的第二涂布信息，在此不再赘述。
53.控制设备包括但不限于可编程逻辑控制器（programmable logic controller，plc），控制器可以通过预设通信方式与第一检测器和第二检测器连接，从而获取第一检测器检测到的第一涂布信息和第二检测器检测到的第二涂布信息，其中，预设通信方式可以预先设置，例如，预设通信方式可以是总线通信方式，本实施例对此不加以限制。
54.为了便于理解，参考图1进行说明，但并不对本方案进行限定。图1为基材涂布的断面图，图1中，采用箔材作为基材，箔材可以包括铜箔和铝箔等，用于承载活性物质，为电池中的集流体，图中，第一面为基材的一面，第二面为基材的另一面。
55.为了便于理解，参考图4和图5进行说明，但并不对本方案进行限定。图4为本发明一些实施例计算基材的偏移值时第一面示意图，图5为本发明一些实施例计算基材的偏移值时第二面示意图，图4和图5中，以一出八的铜箔极片为例，黑色区域为活性物质涂布区域，本实施例中，以双基准方式计算第一面和第二面两侧的偏移值，即以左基准和右基准共
同计算第一面和第一面两侧的偏移值，具体方式是：第一面和第二面左侧两膜区的错位值以左基准计算，具体计算过程如下：左侧第一错位值l1=b1-a1，左侧第二错位值l2=b2-a2，左侧第三错位值l3=b3-a3，左侧第四错位值l4=b4-a4；第一面和第二面右侧两膜区的错位值以右基准计算，具体计算过程如下：右侧第一错位值r1=a5-b5，右侧第二错位值r2=a6-b6，右侧第三错位值r3=a7-b7，右侧第四错位值r4=a8-b8；偏移值根据左侧错位值和右侧错位值计算，具体公式为：偏移值p=(l1+l2+l3+l4+r1+r2+r3+r4)/8。
56.本实施例根据基材的第一面的第一涂布信息和第二面的第二涂布信息计算第一面和第二面两侧的偏移值，并根据偏移值进行涂布纠偏；相较于现有的通过单基准方式计算基材的偏移值的方式，由于本实施例以双基准方式计算第一面和第二面两侧的偏移值，从而减少了极片宽幅导致的计算误差，进而能够提高纠偏效果，提升产品的优率。
57.在一些实施例中，如图6所示，所述涂布系统还包括：放卷设备1、涂布设备2以及收卷设备6，所述涂布设备2设置于所述放卷设备1与所述收卷设备6之间，所述第一检测器4和所述第二检测器5设置在所述涂布设备2与所述收卷设备6之间；所述涂布设备2，用于对所述基材的第一面和第二面进行涂布。
58.为了提高涂布效率，本实施例中，可以通过双面涂布对基材的第一面和第二面进行涂布，具体可以是涂布系统还包括：放卷设备1、涂布设备2以及收卷设备6，放卷设备1用于进行基材放卷，涂布设备2用于对基材的第一面和第二面进行涂布，收卷设备6用于对基材进行收卷。
59.第一检测器4和第二检测器5可以相对设置在基材的两面，使得第一检测器4和第二检测器5能够同时获取基材上同一区域两面的涂布信息，并通过对比基材上同一区域两面的涂布信息检测是否出现涂布偏移，从而能够提高偏移值的准确性。
60.由于涂布错位是第一面的涂布区域位置与第二面的涂布区域位置出现错位导致的，因此，在双面涂布时，为了实现对基材进行涂布纠偏，纠偏设备可以是涂布设备2，涂布设备2根据纠偏指令分别对基材的第一面和第二面进行涂布，以对基材进行涂布纠偏。由于纠偏设备设置在第一检测器4和第二检测器5之前，因此，纠偏设备根据纠偏指令对基材进行涂布纠偏后，控制设备还可以根据第一检测器4检测到的第一涂布信息和第二检测器5检测到的第二涂布信息验证纠偏效果，从而能够实现纠偏闭环控制。
61.为了便于理解，参考图6进行说明，但并不对本方案进行限定。图6为本发明一些实施例的涂布系统的第一结构图，图中，基材走带方向如箭头所示，控制设备可以与涂布纠偏系统中的其他设备通过预设通信方式连接，也可以通过预设通信方式控制涂布纠偏系统中的其他设备，其中，预设通信方式可以预先设置，例如，预设通信方式可以是总线通信方式，本实施例对此不加以限制，涂布流程包括：放卷设备1进行基材放卷，基材通过过辊3走带，基材走带至涂布设备2进行基材的第一面和第二面涂布，涂布完成后，基材通过过辊3继续走带，基材走带至检测工位时，第一检测器4检测基材的第一面的第一涂布信息，第二检测器5检测基材的第二面的第二涂布信息，基材通过过辊3继续走带，走带至收卷设备6时收卷设备6对基材进行收卷，在走带过程中，控制设备根据第一涂布信息和第二涂布信息计算第一面和第二面两侧的偏移值，并根据偏移值向涂布设备2发送纠偏指令，涂布设备2根据纠偏指令分别对基材的第一面和第二面进行涂布，以对基材进行涂布纠偏。
62.本实施例中通过双面涂布对基材的第一面和第二面进行涂布，从而能够提高涂布
效率。
63.在一些实施例中，如图7所示，所述涂布设备2包括第一面涂布设备21和第二面涂布设备22，所述第一面涂布设备21设置在放卷设备1的放卷位置处，所述第二面涂布设备22设置在所述第一面涂布设备21与所述收卷设备6之间；所述第一面涂布设备21，用于对所述基材的第一面进行涂布；所述第二面涂布设备22，用于对所述基材的第二面进行涂布。
64.为了提升产品的优率，本实施例中，还可以分别设置第一面涂布设备21和第二面涂布设备22，第一面涂布设备21用于对基材的第一面进行涂布，第二面涂布设备22用于对基材的第二面进行涂布。
65.第一面涂布设备21包括但不限于第一面涂布头211和第一面背辊212，第一面涂布头211用于对基材的第一面进行涂布，第一面背辊212用于带动基材在第一面的涂布过程中走带；第二面涂布设备22包括但不限于第二面涂布头221和第二面背辊222，第二面涂布头221用于对基材的第二面进行涂布，第二面背辊222用于带动基材在第二面的涂布过程中走带。
66.由于涂布错位是第一面的涂布区域位置与第二面的涂布区域位置出现错位导致的，因此，在分别进行涂布时，为了实现对基材进行涂布纠偏，纠偏设备需要对第一面涂布完成、第二面尚未涂布的基材进行纠偏，即纠偏设备可以设置在第一面涂布设备21与第二面涂布设备22之间，纠偏设备根据纠偏指令对基材走带进行纠偏，以实现涂布纠偏；当然，本实施例中，纠偏设备还可以是第二面涂布设备22，第二面涂布设备22根据纠偏指令对基材的第二面进行涂布，以对基材进行涂布纠偏。
67.为了便于理解，参考图7进行说明，但并不对本方案进行限定。图7为本发明一些实施例的涂布系统的第二结构图，图中，基材走带方向如箭头所示，控制设备可以与涂布纠偏系统中的其他设备通过预设通信方式连接，也可以通过预设通信方式控制涂布纠偏系统中的其他设备，其中，预设通信方式可以预先设置，例如，预设通信方式可以是总线通信方式，本实施例对此不加以限制，涂布流程包括：放卷设备1进行基材放卷，基材走带至第一面涂布头211进行基材的第一面涂布，涂布完成后，基材通过第一面背辊212和过辊3继续走带，基材走带至第二面涂布头221进行基材的第二面涂布，涂布完成后，基材通过第二面背辊222和过辊3继续走带，基材走带至检测工位时，第一检测器4检测基材的第一面的第一涂布信息，第二检测器5检测基材的第二面的第二涂布信息，基材通过过辊3继续走带，走带至收卷设备6时收卷设备6对基材进行收卷，在走带过程中，控制设备根据第一涂布信息和第二涂布信息计算第一面和第二面两侧的偏移值，并根据偏移值向纠偏设备（图中未示出）发送纠偏指令，纠偏设备根据纠偏指令对基材进行涂布纠偏。
68.本实施例中分别设置第一面涂布设备21和第二面涂布设备22，第一面涂布设备21用于对基材的第一面进行涂布，第二面涂布设备22用于对基材的第二面进行涂布，从而能够提升产品的优率。
69.在一些实施例中，如图8所示，所述涂布系统还包括：纠偏器7，所述纠偏器7设置在所述第一面涂布设备21与所述第二面涂布设备22之间，所述纠偏设备为所述纠偏器7和/或所述第二面涂布设备22；所述纠偏器7，用于根据所述纠偏指令对所述基材的位置进行调整，以对所述基材进行纠偏；所述第二面涂布设备22，用于根据所述纠偏指令对所述基材的第二面进行涂布，以对所述基材进行涂布纠偏。
70.为了提高纠偏效果，本实施例中，纠偏设备可以为纠偏器7，用于根据纠偏指令对基材的位置进行调整，以对基材进行纠偏。由于涂布错位是第一面的涂布区域位置与第二面的涂布区域位置出现错位导致的，因此，纠偏器7可以设置在第一面涂布设备21与第二面涂布设备22之间，以对第一面涂布完成、第二面尚未涂布的基材进行纠偏。其中，纠偏器7可以包括纠偏辊71，纠偏辊71的纠偏原理可以是纠偏辊71摆动驱动基材左右移动，以进行涂布纠偏。
71.为了减少涂布系统中的设备数量，降低涂布纠偏成本，本实施例中，纠偏设备还可以为第二面涂布设备22，第二面涂布设备22根据纠偏指令对基材的第二面进行涂布，以对基材进行涂布纠偏。
72.当然，为了进一步提高纠偏效果，本实施例中，纠偏设备还可以纠偏器7和第二面涂布设备22，纠偏器7和第二面涂布设备22根据纠偏指令共同对基材进行涂布纠偏。
73.为了便于理解，参考图8进行说明，但并不对本方案进行限定。图8为本发明一些实施例的涂布系统的第三结构图，图中，基材走带方向如箭头所示，控制设备可以与涂布纠偏系统中的其他设备通过预设通信方式连接，也可以通过预设通信方式控制涂布纠偏系统中的其他设备，其中，预设通信方式可以预先设置，例如，预设通信方式可以是总线通信方式，本实施例对此不加以限制，涂布流程包括：放卷设备1进行基材放卷，基材走带至第一面涂布头211进行基材的第一面涂布，涂布完成后，基材通过第一面背辊212和过辊3继续走带，基材走带至第二面涂布头221进行基材的第二面涂布，涂布完成后，基材通过第二面背辊222和过辊3继续走带，基材走带至检测工位时，第一检测器4检测基材的第一面的第一涂布信息，第二检测器5检测基材的第二面的第二涂布信息，基材通过过辊3继续走带，走带至收卷设备6时收卷设备6对基材进行收卷，在走带过程中，控制设备根据第一涂布信息和第二涂布信息计算第一面和第二面两侧的偏移值，并根据偏移值向纠偏器7和/或第二面涂布设备22发送纠偏指令，纠偏器7和/或第二面涂布设备22根据纠偏指令对基材进行涂布纠偏。
74.本实施例中通过纠偏器7和/或第二面涂布设备22对基材进行涂布纠偏，从而能够提高纠偏效果，或降低涂布纠偏成本。
75.在一些实施例中，如图9所示，所述涂布系统还包括：烘干设备8，所述烘干设备8设置于所述第一面涂布设备21与所述第二面涂布设备22之间，并同时设置于所述第二面涂布设备22与所述收卷设备6之间；所述烘干设备8，用于对所述基材的第一面和第二面进行烘干。
76.为了降低涂布烘干成本，本实施例中，涂布系统还包括烘干设备8，其中，烘干设备8包括但不限于烘箱，烘干设备8可以设置于第一面涂布设备21与所述第二面涂布设备22之间，并同时设置于第二面涂布设备22与所述收卷设备6之间，从而无需设置多台烘干设备8也能实现对基材的第一面和第二面进行烘干，进而能够降低涂布烘干成本。
77.为了便于理解，参考图9进行说明，但并不对本方案进行限定。图9为本发明一些实施例的涂布系统的第四结构图，图中，基材走带方向如箭头所示，控制设备可以与涂布纠偏系统中的其他设备通过预设通信方式连接，也可以通过预设通信方式控制涂布纠偏系统中的其他设备，其中，预设通信方式可以预先设置，例如，预设通信方式可以是总线通信方式，本实施例对此不加以限制，涂布流程包括：放卷设备1进行基材放卷，基材走带至第一面涂布头211进行基材的第一面涂布，涂布完成后，基材通过第一面背辊212和过辊3继续走带，
基材走带至烘干设备8进行第一面烘干，烘干完成后基材通过过辊3继续走带，基材走带至第二面涂布头221进行基材的第二面涂布，涂布完成后，基材通过第二面背辊222和过辊3继续走带，基材走带至烘干设备8进行第二面烘干，烘干完成后基材通过过辊3继续走带，基材走带至检测工位时，第一检测器4检测基材的第一面的第一涂布信息，第二检测器5检测基材的第二面的第二涂布信息，基材通过过辊3继续走带，走带至收卷设备6时收卷设备6对基材进行收卷，在走带过程中，控制设备根据第一涂布信息和第二涂布信息计算第一面和第二面两侧的偏移值，并根据偏移值向纠偏器7和/或第二面涂布设备22发送纠偏指令，纠偏器7和/或第二面涂布设备22根据纠偏指令对基材进行涂布纠偏。
78.本实施例中烘干设备8可以设置于第一面涂布设备21与所述第二面涂布设备22之间，并同时设置于第二面涂布设备22与所述收卷设备6之间，从而无需设置多台烘干设备8也能实现对基材的第一面和第二面进行烘干，进而能够降低涂布烘干成本。
79.在一些实施例中，如图9所示，所述第一检测器4和所述第二检测器5设置在所述烘干设备8与所述收卷设备6之间；所述第一检测器4，用于检测所述基材的第一面的第一面干膜图像；所述第二检测器5，用于检测所述基材的第二面的第二面干膜图像；所述控制设备，用于根据所述第一面干膜图像和所述第二面干膜图像计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值，并根据所述偏移值向所述纠偏设备发送纠偏指令。
80.为了提高偏移值的准确性，本实施例中，通过图像对比的方式计算第一面和第二面两侧的偏移值，即根据第一面干膜图像和第二面干膜图像计算第一面和第二面两侧的偏移值，具体可以是对比第一面干膜图像中第一面干膜尺寸和第二面干膜图像中第二面干膜尺寸计算第一面和第二面两侧的偏移值。
81.本实施例中，第一检测器4和第二检测器5可以是ccd相机，分别用于检测基材的第一面的第一面干膜图像和第二面的第二面干膜图像，根据第一面干膜图像和第二面干膜图像计算第一面和所述第二面两侧的偏移值的具体步骤可以参考图4和图5，在此不再赘述。
82.为了便于理解，参考图9进行说明，但并不对本方案进行限定。图9为本发明一些实施例的涂布系统的第四结构图，图中，基材走带方向如箭头所示，控制设备可以与涂布纠偏系统中的其他设备通过预设通信方式连接，也可以通过预设通信方式控制涂布纠偏系统中的其他设备，其中，预设通信方式可以预先设置，例如，预设通信方式可以是总线通信方式，本实施例对此不加以限制，涂布流程包括：放卷设备1进行基材放卷，基材走带至第一面涂布头211进行基材的第一面涂布，涂布完成后，基材通过第一面背辊212和过辊3继续走带，基材走带至烘干设备8进行第一面烘干，烘干完成后基材通过过辊3继续走带，基材走带至第二面涂布头221进行基材的第二面涂布，涂布完成后，基材通过第二面背辊222和过辊3继续走带，基材走带至烘干设备8进行第二面烘干，烘干完成后基材通过过辊3继续走带，基材走带至检测工位时，第一检测器4检测基材的第一面的第一面干膜图像，第二检测器5检测基材的第二面的第二面干膜图像，基材通过过辊3继续走带，走带至收卷设备6时收卷设备6对基材进行收卷，在走带过程中，控制设备根据第一面干膜图像和第二面干膜图像计算第一面和第二面两侧的偏移值，并根据偏移值向纠偏器7和/或第二面涂布设备22发送纠偏指令，纠偏器7和/或第二面涂布设备22根据纠偏指令对基材进行涂布纠偏。
83.本实施例中通过图像对比的方式计算第一面和第二面两侧的偏移值，即根据第一面干膜图像和第二面干膜图像计算第一面和所述第二面两侧的偏移值，从而能够提高偏移
值的准确性。
84.在一些实施例中，如图10所示，所述涂布系统还包括：第三检测器9，所述第三检测器9设置在所述第二面涂布设备22与所述烘干设备8之间，所述第一检测器4设置在所述烘干设备8与所述第二面涂布设备22之间，所述第二检测器5设置在所述烘干设备8与所述收卷设备6之间；所述第三检测器9，用于检测所述基材的第二面的第二面湿膜图像；所述控制设备，用于根据所述第二面湿膜图像和所述第二面干膜图像计算烘干补偿值，并根据所述烘干补偿值、所述第一面干膜图像以及所述第二面湿膜图像计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值，并根据所述偏移值向所述纠偏设备发送纠偏指令。
85.考虑到将第一检测器4和第二检测器5设置在收卷设备6前的纠偏方式，由于第一检测器4和第二检测器5的位置与纠偏设备相距较远，从而导致纠偏效果需要长距离走带后才能验证，纠偏实时性差。
86.因此，为了克服上述缺陷，本实施例中，可以额外设置第三检测器9，用于检测基材的第二面的第二面湿膜图像，并根据烘干补偿值、第一面干膜图像以及第二面湿膜图像计算第一面和所述第二面两侧的偏移值；由于第一检测器4的位置提前至烘干设备8与第二面涂布设备22之间，第三检测器9的位置设置在第二面涂布设备22与烘干设备8之间，从而能够缩短检测器与纠偏设备之间的距离，使得检测器更加靠近纠偏设备，进而能够缩短验证纠偏效果的所需时间，提高了涂布纠偏的实时性。
87.为了便于理解，参考图10进行说明，但并不对本方案进行限定。图10为本发明一些实施例的涂布系统的第五结构图，图中，基材走带方向如箭头所示，控制设备可以与涂布纠偏系统中的其他设备通过预设通信方式连接，也可以通过预设通信方式控制涂布纠偏系统中的其他设备，其中，预设通信方式可以预先设置，例如，预设通信方式可以是总线通信方式，本实施例对此不加以限制，涂布流程包括：放卷设备1进行基材放卷，基材走带至第一面涂布头211进行基材的第一面涂布，涂布完成后，基材通过第一面背辊212和过辊3继续走带，基材走带至烘干设备8进行第一面烘干，烘干完成后基材通过过辊3继续走带，基材走带至第一检测器4对应的检测工位时，第一检测器4检测基材的第一面的第一面干膜图像，基材通过过辊3继续走带，基材走带至第二面涂布头221进行基材的第二面涂布，涂布完成后，基材通过第二面背辊222和过辊3继续走带，基材走带至第三检测器9对应的检测工位时，第三检测器9检测基材的第二面的第二面湿膜图像，基材通过过辊3继续走带，基材走带至烘干设备8进行第二面烘干，烘干完成后基材通过过辊3继续走带，基材走带至第二检测器5对应的检测工位时，第二检测器5检测基材的第二面的第二面干膜图像，基材通过过辊3继续走带，走带至收卷设备6时收卷设备6对基材进行收卷，在走带过程中，控制设备根据第二面湿膜图像和第二面干膜图像计算烘干补偿值，并根据烘干补偿值、第一面干膜图像以及第二面湿膜图像计算第一面和第二面两侧的偏移值，并根据偏移值向纠偏器7和/或第二面涂布设备22发送纠偏指令，纠偏器7和/或第二面涂布设备22根据纠偏指令对基材进行涂布纠偏。
88.为了便于理解，参考图11进行说明，但并不对本方案进行限定。图11为本发明一些实施例的控制设备的控制逻辑图，图中，控制设备的控制逻辑包括以下步骤：步骤10：根据第二面湿膜图像和第二面干膜图像计算烘干补偿值：对比第二面湿膜图像中第二面湿膜尺寸和第二面干膜图像中第二面干膜尺寸，获得烘干补偿值；
步骤20：根据烘干补偿值、第一面干膜图像以及第二面湿膜图像计算第一面和第二面之间的左侧错位值和右侧错位值：如图4和图5所示，左侧第一错位值l1=(b1-c)-a1，左侧第二错位值l2=(b2-c)-c，左侧第三错位值l3=(b3-c)-a3，左侧第四错位值l4=(b4-c)-a4；第一面和第二面右侧两膜区的错位值以右基准计算，具体计算过程如下：右侧第一错位值r1=a5-(b5-c)，右侧第二错位值r2=a6-(b6-c)，右侧第三错位值r3=a7-(b7-c)，右侧第四错位值r4=a8-(b8-c)；其中，c为烘干补偿值；步骤30：根据左侧错位值和右侧错位值计算第一面和第二面两侧的偏移值，具体公式为：偏移值p=(l1+l2+l3+l4+r1+r2+r3+r4)/8；步骤40：根据偏移值向纠偏器7和/或第二面涂布设备22发送纠偏指令，纠偏器7和/或第二面涂布设备22根据纠偏指令对基材进行涂布纠偏。
89.本实施例中额外设置第三检测器9，用于检测基材的第二面的第二面湿膜图像，并根据烘干补偿值、第一面干膜图像以及第二面湿膜图像计算第一面和所述第二面两侧的偏移值；由于第一检测器4的位置提前至烘干设备8与第二面涂布设备22之间，第三检测器9的位置设置在第二面涂布设备22与烘干设备8之间，从而能够缩短检测器与纠偏设备之间的距离，使得检测器更加靠近纠偏设备，进而能够缩短验证纠偏效果的所需时间，提高了涂布纠偏的实时性。
90.在一些实施例中，所述控制设备，还用于根据所述烘干补偿值、所述第一面干膜图像以及所述第二面湿膜图像计算所述第一面和所述第二面两侧的单帧偏移值，并将单帧图片高度进行累加，获得累加距离，在累加距离满足预设距离条件的情况下，计算所述累加距离内多个单帧偏移值的平均偏移值，根据所述平均偏移值和纠偏系数计算纠偏闭环值，在所述纠偏闭环值满足预设纠偏条件的情况下，根据所述纠偏闭环值向所述纠偏设备发送纠偏指令。
91.为了提高涂布纠偏的准确性，本实施例中，在进行纠偏之前还判断多帧图片高度的累加距离是否满足预设距离条件，并判断纠偏闭环值是否满足预设纠偏条件。
92.为了便于理解，参考图12进行说明，但并不对本方案进行限定。图12为本发明一些实施例的控制设备的详细控制逻辑图，图中，控制设备的详细控制逻辑包括以下步骤：步骤a、系统启动；步骤b、ccd1开始采图：系统启动后，当基材走带至第一检测器（即图中ccd1）对应的检测工位时，第一检测器检测基材的第一面的第一面干膜图像；步骤c、判断ccd1起始位置是否到达ccd3：即判断基材是否走带至第三检测器（即图中ccd3）对应的检测工位；步骤d、ccd3开始采图：在基材走带至第三检测器（即图中ccd3）对应的检测工位时，第三检测器检测基材的第二面的第二面湿膜图像；步骤e、判断ccd3起始位置是否到达ccd2：即判断基材是否走带至第二检测器（即图中ccd2）对应的检测工位；步骤f、ccd2开始采图：在基材走带至第二检测器（即图中ccd2）对应的检测工位时，第二检测器检测基材的第二面的第二面干膜图像；步骤g、计算偏移值p：控制设备根据第二面湿膜图像和第二面干膜图像计算烘干补偿值，并根据烘干补偿值、第一面干膜图像以及第二面湿膜图像计算第一面和第二面两
侧的偏移值p；步骤h、累加单帧图片高度，获得累加距离x；本实施例中，将单帧图片高度进行累加，即可获得本次纠偏中基材的走带距离（即累加距离x）；步骤i、判断累加距离x是否满足设定距离；如果每获得一组图像就进行一次涂布纠偏的话，可能导致纠偏频繁，影响产品的优率，因此，本实施例中，在进行纠偏之前还需要判断累加距离是否满足设定距离，其中，设定距离可以预先设置，当然为了不影响正常涂布，本实施例中，设定距离还可以设定为涂布头或纠偏设备的工作距离。
93.步骤j、累加单帧图片高度，获得累计图像高度y，本实施例中，将单帧图片高度进行累加，即可获得本次纠偏中基材的走带距离；步骤k、判断累计图像高度y是否满足预设纠偏距离：由于第一检测器和第三检测器分别设置在不同位置，为了确保第一检测器获得的第一面干膜图像和第三检测器获得的第二面湿膜图像为基材上同一区域两面的涂布图像，本实施例中，还需要判断累计图像高度y是否满足预设纠偏距离，其中，预设纠偏距离可以预先设置，例如，预设纠偏距离可以设置为第一检测器与第三检测器之间的距离；步骤l：计算累加距离内多个单帧偏移值的平均偏移值，根据平均偏移值和纠偏系数计算纠偏闭环值u：纠偏闭环值u=平均偏移值*纠偏系数，纠偏系数可以根据实际需求预先设置；步骤m：判断u是否在设定的合理闭环值范围0.001mm-2mm内；步骤n：将纠偏闭环值u发送给纠偏设备进行纠偏，并接收纠偏完成信号；步骤o：继续进入下一次纠偏循环。
94.本实施例在进行纠偏之前还判断多帧图片高度的累加距离是否满足预设距离条件，并判断纠偏闭环值是否满足预设纠偏条件，从而能够提高涂布纠偏的准确性。
95.在一些实施例中，所述控制设备，还用于获取所述基材的第二面烘干前后的经验补偿值，并根据所述经验补偿值、所述第一面干膜图像以及所述第二面湿膜图像计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值，并根据所述偏移值向所述纠偏设备发送纠偏指令。
96.为了提高涂布纠偏效率，并降低涂布系统成本，本实施例中，还可以根据基材的第二面烘干前后的经验补偿值、第一面干膜图像以及第二面湿膜图像计算第一面和第二面两侧的偏移值，其中，经验补偿值可以预先设置，例如，涂布系统的管理人员可以根据涂布经验预先设置基材的第二面烘干前后的经验补偿值，本实施例对此不加以限制。
97.在一些实施例中，如图13所示，提出了一种涂布方法，包括：步骤s10：通过第一检测器检测基材的第一面的第一涂布信息。
98.第一检测器和第二检测器可以是视觉检测器（例如，电荷耦合器件（charge coupled device，ccd）相机）、激光检测器等，涂布信息包括但不限于用于表示涂布区域位置的信息，例如，视觉检测器可以检测基材的第一面的干膜图像来获取第一涂布信息，激光检测器可以通过发射激光束并检测激光束的反射情况来获得第一涂布信息，同理第二检测器也可以通过相同方式检测基材的第二面的第二涂布信息，在此不再赘述。
99.步骤s20：通过第二检测器检测基材的第二面的第二涂布信息，所述第一面为所述基材的一面，所述第二面为所述基材的另一面。
100.为了便于理解，参考图1进行说明，但并不对本方案进行限定。图1为基材涂布的断
面图，图1中，采用箔材作为基材，箔材可以包括铜箔和铝箔等，用于承载活性物质，为电池中的集流体，图中，第一面为基材的一面，第二面为基材的另一面。
101.步骤s30：根据所述第一涂布信息和所述第二涂布信息计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值，并根据所述偏移值向纠偏设备发送纠偏指令，以使所述纠偏设备根据所述纠偏指令对所述基材进行涂布纠偏。
102.控制设备根据第一涂布信息和第二涂布信息计算第一面和第二面两侧的偏移值，并根据偏移值向纠偏设备发送纠偏指令。控制设备包括但不限于可编程逻辑控制器（programmable logic controller，plc），控制器可以通过预设通信方式与第一检测器和第二检测器连接，从而获取第一检测器检测到的第一涂布信息和第二检测器检测到的第二涂布信息，其中，预设通信方式可以预先设置，例如，预设通信方式可以是总线通信方式，本实施例对此不加以限制。
103.为了便于理解，参考图4和图5进行说明，但并不对本方案进行限定。图4为本发明一些实施例计算基材的偏移值时第一面示意图，图5为本发明一些实施例计算基材的偏移值时第二面示意图，图4和图5中，以一出八的铜箔极片为例，黑色区域为活性物质涂布区域，本实施例中，以双基准方式计算第一面和第二面两侧的偏移值，即以左基准和右基准共同计算第一面和第一面两侧的偏移值，具体方式是：第一面和第二面左侧两膜区的错位值以左基准计算，具体计算过程如下：左侧第一错位值l1=b1-a1，左侧第二错位值l2=b2-a2，左侧第三错位值l3=b3-a3，左侧第四错位值l4=b4-a4；第一面和第二面右侧两膜区的错位值以右基准计算，具体计算过程如下：右侧第一错位值r1=a5-b5，右侧第二错位值r2=a6-b6，右侧第三错位值r3=a7-b7，右侧第四错位值r4=a8-b8；偏移值根据左侧错位值和右侧错位值计算，具体公式为：偏移值p=(l1+l2+l3+l4+r1+r2+r3+r4)/8。
104.本实施例根据基材的第一面的第一涂布信息和第二面的第二涂布信息计算第一面和第二面两侧的偏移值，并根据偏移值进行涂布纠偏；相较于现有的通过单基准方式计算基材的偏移值的方式，由于本实施例以双基准方式计算第一面和第二面两侧的偏移值，从而减少了极片宽幅导致的计算误差，进而能够提高纠偏效果，提升产品的优率。
105.在一些实施例中，所述涂布方法还包括：通过所述第一检测器检测所述基材的第一面的第一面干膜图像；通过所述第二检测器检测所述基材的第二面的第二面干膜图像；根据所述第一面干膜图像和所述第二面干膜图像计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值，并根据所述偏移值向所述纠偏设备发送纠偏指令，以使所述纠偏设备根据所述纠偏指令对所述基材进行涂布纠偏。
106.为了提高偏移值的准确性，本实施例中，通过图像对比的方式计算第一面和第二面两侧的偏移值，即根据第一面干膜图像和第二面干膜图像计算第一面和第二面两侧的偏移值，具体可以是对比第一面干膜图像中第一面干膜尺寸和第二面干膜图像中第二面干膜尺寸计算第一面和第二面两侧的偏移值。
107.本实施例中，第一检测器和第二检测器可以是ccd相机，分别用于检测基材的第一面的第一面干膜图像和第二面的第二面干膜图像，根据第一面干膜图像和第二面干膜图像计算第一面和所述第二面两侧的偏移值的具体步骤可以参考图4和图5，在此不再赘述。
108.本实施例中通过图像对比的方式计算第一面和第二面两侧的偏移值，即根据第一面干膜图像和第二面干膜图像计算第一面和所述第二面两侧的偏移值，从而能够提高偏移
值的准确性。
109.在一些实施例中，所述涂布方法还包括：通过第三检测器检测所述基材的第二面的第二面湿膜图像；根据所述第二面湿膜图像和所述第二面干膜图像计算烘干补偿值，并根据所述烘干补偿值、所述第一面干膜图像以及所述第二面湿膜图像计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值，并根据所述偏移值向所述纠偏设备发送纠偏指令，以使所述纠偏设备根据所述纠偏指令对所述基材进行涂布纠偏。
110.考虑到将第一检测器和第二检测器设置在收卷设备前的纠偏方式，由于第一检测器和第二检测器的位置与纠偏设备相距较远，从而导致纠偏效果需要长距离走带后才能验证，纠偏实时性差。
111.因此，为了克服上述缺陷，本实施例中，可以额外设置第三检测器，用于检测基材的第二面的第二面湿膜图像，并根据烘干补偿值、第一面干膜图像以及第二面湿膜图像计算第一面和所述第二面两侧的偏移值；由于第一检测器的位置提前至烘干设备与第二面涂布设备之间，第三检测器的位置设置在第二面涂布设备与烘干设备之间，从而能够缩短检测器与纠偏设备之间的距离，使得检测器更加靠近纠偏设备，进而能够缩短验证纠偏效果的所需时间，提高了涂布纠偏的实时性。
112.为了便于理解，参考图11进行说明，但并不对本方案进行限定。图11为本发明一些实施例的控制设备的控制逻辑图，图中，控制设备的控制逻辑包括以下步骤：步骤10：根据第二面湿膜图像和第二面干膜图像计算烘干补偿值：对比第二面湿膜图像中第二面湿膜尺寸和第二面干膜图像中第二面干膜尺寸，获得烘干补偿值；步骤20：根据烘干补偿值、第一面干膜图像以及第二面湿膜图像计算第一面和第二面之间的左侧错位值和右侧错位值：如图4和图5所示，左侧第一错位值l1=(b1-c)-a1，左侧第二错位值l2=(b2-c)-c，左侧第三错位值l3=(b3-c)-a3，左侧第四错位值l4=(b4-c)-a4；第一面和第二面右侧两膜区的错位值以右基准计算，具体计算过程如下：右侧第一错位值r1=a5-(b5-c)，右侧第二错位值r2=a6-(b6-c)，右侧第三错位值r3=a7-(b7-c)，右侧第四错位值r4=a8-(b8-c)；其中，c为烘干补偿值；步骤30：根据左侧错位值和右侧错位值计算第一面和第二面两侧的偏移值，具体公式为：偏移值p=(l1+l2+l3+l4+r1+r2+r3+r4)/8；步骤40：根据偏移值向纠偏器和/或第二面涂布设备发送纠偏指令，纠偏器和/或第二面涂布设备根据纠偏指令对基材进行涂布纠偏。
113.本实施例中额外设置第三检测器，用于检测基材的第二面的第二面湿膜图像，并根据烘干补偿值、第一面干膜图像以及第二面湿膜图像计算第一面和所述第二面两侧的偏移值；由于第一检测器的位置提前至烘干设备与第二面涂布设备之间，第三检测器的位置设置在第二面涂布设备与烘干设备之间，从而能够缩短检测器与纠偏设备之间的距离，使得检测器更加靠近纠偏设备，进而能够缩短验证纠偏效果的所需时间，提高了涂布纠偏的实时性。
114.在一些实施例中，如图14所示，提出了一种涂布方法，包括：步骤s10'：获取基材的第一面的第一涂布信息和所述基材的第二面的第二涂布信息，所述第一面为所述基材的一面，所述第二面为所述基材的另一面。
115.本实施例的执行主体可以是具有数据处理、网络通信以及程序运行功能的控制设
备，例如，上位机等，或者是其他能够实现相同或相似功能的电子设备，本实施例对此不加限制。
116.基材的第一面的第一涂布信息可以通过第一检测器获得，基材的第二面的第二涂布信息可以通过第二检测器获得，第一检测器和第二检测器可以是视觉检测器（例如，电荷耦合器件（charge coupled device，ccd）相机）、激光检测器等，涂布信息包括但不限于用于表示涂布区域位置的信息，例如，视觉检测器可以检测基材的第一面的干膜图像来获取第一涂布信息，激光检测器可以通过发射激光束并检测激光束的反射情况来获得第一涂布信息，同理第二检测器也可以通过相同方式检测基材的第二面的第二涂布信息，在此不再赘述。
117.为了便于理解，参考图1进行说明，但并不对本方案进行限定。图1为基材涂布的断面图，图1中，采用箔材作为基材，箔材可以包括铜箔和铝箔等，用于承载活性物质，为电池中的集流体，图中，第一面为基材的一面，第二面为基材的另一面。
118.步骤s20'：根据所述第一涂布信息和所述第二涂布信息计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值，并根据所述偏移值向纠偏设备发送纠偏指令，以使所述纠偏设备根据所述纠偏指令对所述基材进行涂布纠偏控制设备根据第一涂布信息和第二涂布信息计算第一面和第二面两侧的偏移值，并根据偏移值向纠偏设备发送纠偏指令。控制设备包括但不限于可编程逻辑控制器（programmable logic controller，plc），控制器可以通过预设通信方式与第一检测器和第二检测器连接，从而获取第一检测器检测到的第一涂布信息和第二检测器检测到的第二涂布信息，其中，预设通信方式可以预先设置，例如，预设通信方式可以是总线通信方式，本实施例对此不加以限制。
119.为了便于理解，参考图4和图5进行说明，但并不对本方案进行限定。图4为本发明一些实施例计算基材的偏移值时第一面示意图，图5为本发明一些实施例计算基材的偏移值时第二面示意图，图4和图5中，以一出八的铜箔极片为例，黑色区域为活性物质涂布区域，本实施例中，以双基准方式计算第一面和第二面两侧的偏移值，即以左基准和右基准共同计算第一面和第一面两侧的偏移值，具体方式是：第一面和第二面左侧两膜区的错位值以左基准计算，具体计算过程如下：左侧第一错位值l1=b1-a1，左侧第二错位值l2=b2-a2，左侧第三错位值l3=b3-a3，左侧第四错位值l4=b4-a4；第一面和第二面右侧两膜区的错位值以右基准计算，具体计算过程如下：右侧第一错位值r1=a5-b5，右侧第二错位值r2=a6-b6，右侧第三错位值r3=a7-b7，右侧第四错位值r4=a8-b8；偏移值根据左侧错位值和右侧错位值计算，具体公式为：偏移值p=(l1+l2+l3+l4+r1+r2+r3+r4)/8。
120.本实施例根据基材的第一面的第一涂布信息和第二面的第二涂布信息计算第一面和第二面两侧的偏移值，并根据偏移值进行涂布纠偏；相较于现有的通过单基准方式计算基材的偏移值的方式，由于本实施例以双基准方式计算第一面和第二面两侧的偏移值，从而减少了极片宽幅导致的计算误差，进而能够提高纠偏效果，提升产品的优率。
121.在一些实施例中，所述涂布方法还包括：获取所述基材的第一面的第一面干膜图像和所述基材的第二面的第二面干膜图像；根据所述第一面干膜图像和所述第二面干膜图像计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值，并根据所述偏移值向所述纠偏设备发送纠偏指令，以使所述纠偏设备根据所述纠偏指令对所述基材进行涂布纠偏。
122.为了提高偏移值的准确性，本实施例中，通过图像对比的方式计算第一面和第二面两侧的偏移值，即根据第一面干膜图像和第二面干膜图像计算第一面和第二面两侧的偏移值，具体可以是对比第一面干膜图像中第一面干膜尺寸和第二面干膜图像中第二面干膜尺寸计算第一面和第二面两侧的偏移值。
123.本实施例中，第一检测器和第二检测器可以是ccd相机，分别用于检测基材的第一面的第一面干膜图像和第二面的第二面干膜图像，根据第一面干膜图像和第二面干膜图像计算第一面和所述第二面两侧的偏移值的具体步骤可以参考图4和图5，在此不再赘述。
124.本实施例中通过图像对比的方式计算第一面和第二面两侧的偏移值，即根据第一面干膜图像和第二面干膜图像计算第一面和所述第二面两侧的偏移值，从而能够提高偏移值的准确性。
125.在一些实施例中，所述根据所述第一面干膜图像和所述第二面干膜图像计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值，包括：获取所述基材的第二面的第二面湿膜图像；根据所述第二面湿膜图像和所述第二面干膜图像计算烘干补偿值；根据所述烘干补偿值、所述第一面干膜图像以及所述第二面湿膜图像计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值。
126.考虑到将第一检测器和第二检测器设置在收卷设备前的纠偏方式，由于第一检测器和第二检测器的位置与纠偏设备相距较远，从而导致纠偏效果需要长距离走带后才能验证，纠偏实时性差。
127.因此，为了克服上述缺陷，本实施例中，可以额外设置第三检测器，用于检测基材的第二面的第二面湿膜图像，并根据烘干补偿值、第一面干膜图像以及第二面湿膜图像计算第一面和所述第二面两侧的偏移值；由于第一检测器的位置提前至烘干设备与第二面涂布设备之间，第三检测器的位置设置在第二面涂布设备与烘干设备之间，从而能够缩短检测器与纠偏设备之间的距离，使得检测器更加靠近纠偏设备，进而能够缩短验证纠偏效果的所需时间，提高了涂布纠偏的实时性。
128.为了便于理解，参考图11进行说明，但并不对本方案进行限定。图11为本发明一些实施例的控制设备的控制逻辑图，图中，控制设备的控制逻辑包括以下步骤：步骤10：根据第二面湿膜图像和第二面干膜图像计算烘干补偿值：对比第二面湿膜图像中第二面湿膜尺寸和第二面干膜图像中第二面干膜尺寸，获得烘干补偿值；步骤20：根据烘干补偿值、第一面干膜图像以及第二面湿膜图像计算第一面和第二面之间的左侧错位值和右侧错位值：如图4和图5所示，左侧第一错位值l1=(b1-c)-a1，左侧第二错位值l2=(b2-c)-c，左侧第三错位值l3=(b3-c)-a3，左侧第四错位值l4=(b4-c)-a4；第一面和第二面右侧两膜区的错位值以右基准计算，具体计算过程如下：右侧第一错位值r1=a5-(b5-c)，右侧第二错位值r2=a6-(b6-c)，右侧第三错位值r3=a7-(b7-c)，右侧第四错位值r4=a8-(b8-c)；其中，c为烘干补偿值；步骤30：根据左侧错位值和右侧错位值计算第一面和第二面两侧的偏移值，具体公式为：偏移值p=(l1+l2+l3+l4+r1+r2+r3+r4)/8；步骤40：根据偏移值向纠偏器和/或第二面涂布设备发送纠偏指令，纠偏器和/或第二面涂布设备根据纠偏指令对基材进行涂布纠偏。
129.本实施例中额外设置第三检测器，用于检测基材的第二面的第二面湿膜图像，并根据烘干补偿值、第一面干膜图像以及第二面湿膜图像计算第一面和所述第二面两侧的偏
移值；由于第一检测器的位置提前至烘干设备与第二面涂布设备之间，第三检测器的位置设置在第二面涂布设备与烘干设备之间，从而能够缩短检测器与纠偏设备之间的距离，使得检测器更加靠近纠偏设备，进而能够缩短验证纠偏效果的所需时间，提高了涂布纠偏的实时性。
130.在一些实施例中，所述涂布方法还包括：根据所述烘干补偿值、所述第一面干膜图像以及所述第二面湿膜图像计算所述第一面和所述第二面两侧的单帧偏移值，并将单帧图片高度进行累加，获得累加距离；在累加距离满足预设距离条件的情况下，计算所述累加距离内多个单帧偏移值的平均偏移值；根据所述平均偏移值和纠偏系数计算纠偏闭环值；在所述纠偏闭环值满足预设纠偏条件的情况下，根据所述纠偏闭环值向所述纠偏设备发送纠偏指令。
131.为了提高涂布纠偏的准确性，本实施例中，在进行纠偏之前还判断多帧图片高度的累加距离是否满足预设距离条件，并判断纠偏闭环值是否满足预设纠偏条件。
132.为了便于理解，参考图12进行说明，但并不对本方案进行限定。图12为本发明一些实施例的控制设备的详细控制逻辑图，图中，控制设备的详细控制逻辑包括以下步骤：步骤a、系统启动；步骤b、ccd1开始采图：系统启动后，当基材走带至第一检测器（即图中ccd1）对应的检测工位时，第一检测器检测基材的第一面的第一面干膜图像；步骤c、判断ccd1起始位置是否到达ccd3：即判断基材是否走带至第三检测器（即图中ccd3）对应的检测工位；步骤d、ccd3开始采图：在基材走带至第三检测器（即图中ccd3）对应的检测工位时，第三检测器检测基材的第二面的第二面湿膜图像；步骤e、判断ccd3起始位置是否到达ccd2：即判断基材是否走带至第二检测器（即图中ccd2）对应的检测工位；步骤f、ccd2开始采图：在基材走带至第二检测器（即图中ccd2）对应的检测工位时，第二检测器检测基材的第二面的第二面干膜图像；步骤g、计算偏移值p：控制设备根据第二面湿膜图像和第二面干膜图像计算烘干补偿值，并根据烘干补偿值、第一面干膜图像以及第二面湿膜图像计算第一面和第二面两侧的偏移值p；步骤h、累加单帧图片高度，获得累加距离x；本实施例中，将单帧图片高度进行累加，即可获得本次纠偏中基材的走带距离（即累加距离x）；步骤i、判断累加距离x是否满足设定距离；如果每获得一组图像就进行一次涂布纠偏的话，可能导致纠偏频繁，影响产品的优率，因此，本实施例中，在进行纠偏之前还需要判断累加距离是否满足设定距离，其中，设定距离可以预先设置，当然为了不影响正常涂布，本实施例中，设定距离还可以设定为涂布头或纠偏设备的工作距离。
133.步骤j、累加单帧图片高度，获得累计图像高度y，本实施例中，将单帧图片高度进行累加，即可获得本次纠偏中基材的走带距离；步骤k、判断累计图像高度y是否满足预设纠偏距离：由于第一检测器和第三检测器分别设置在不同位置，为了确保第一检测器获得的第一面干膜图像和第三检测器获得的第二面湿膜图像为基材上同一区域两面的涂布图像，本实施例中，还需要判断累计图像高
度y是否满足预设纠偏距离，其中，预设纠偏距离可以预先设置，例如，预设纠偏距离可以设置为第一检测器与第三检测器之间的距离；步骤l：计算累加距离内多个单帧偏移值的平均偏移值，根据平均偏移值和纠偏系数计算纠偏闭环值u：纠偏闭环值u=平均偏移值*纠偏系数，纠偏系数可以根据实际需求预先设置；步骤m：判断u是否在设定的合理闭环值范围0.001mm-2mm内；步骤n：将纠偏闭环值u发送给纠偏设备进行纠偏，并接收纠偏完成信号；步骤o：继续进入下一次纠偏循环。
134.本实施例在进行纠偏之前还判断多帧图片高度的累加距离是否满足预设距离条件，并判断纠偏闭环值是否满足预设纠偏条件，从而能够提高涂布纠偏的准确性。
135.在一些实施例中，所述涂布方法还包括：获取所述基材的第二面烘干前后的经验补偿值；根据所述经验补偿值、所述第一面干膜图像以及所述第二面湿膜图像计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值，并根据所述偏移值向所述纠偏设备发送纠偏指令。
136.为了提高涂布纠偏效率，并降低涂布系统成本，本实施例中，还可以根据基材的第二面烘干前后的经验补偿值、第一面干膜图像以及第二面湿膜图像计算第一面和第二面两侧的偏移值，其中，经验补偿值可以预先设置，例如，涂布系统的管理人员可以根据涂布经验预先设置基材的第二面烘干前后的经验补偿值，本实施例对此不加以限制。
137.最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围，其均应涵盖在本发明的权利要求和说明书的范围当中。尤其是，只要不存在结构冲突，各个实施例中所提到的各项技术特征均可以任意方式组合起来。本发明并不局限于文中公开的特定实施例，而是包括落入权利要求的范围内的所有技术方案。

技术特征：
1.一种涂布系统，其特征在于，所述涂布系统包括：第一检测器、第二检测器、控制设备以及纠偏设备；所述第一检测器，用于检测基材的第一面的第一涂布信息；所述第二检测器，用于检测基材的第二面的第二涂布信息，所述第一面为所述基材的一面，所述第二面为所述基材的另一面；所述控制设备，用于根据所述第一涂布信息和所述第二涂布信息计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值，并根据所述偏移值向所述纠偏设备发送纠偏指令；所述纠偏设备，用于根据所述纠偏指令对所述基材进行涂布纠偏。2.如权利要求1所述的涂布系统，其特征在于，所述涂布系统还包括：放卷设备、涂布设备以及收卷设备，所述涂布设备设置于所述放卷设备与所述收卷设备之间，所述第一检测器和所述第二检测器设置在所述涂布设备与所述收卷设备之间；所述涂布设备，用于对所述基材的第一面和第二面进行涂布。3.如权利要求2所述的涂布系统，其特征在于，所述涂布设备包括第一面涂布设备和第二面涂布设备，所述第一面涂布设备设置在放卷设备的放卷位置处，所述第二面涂布设备设置在所述第一面涂布设备与所述收卷设备之间；所述第一面涂布设备，用于对所述基材的第一面进行涂布；所述第二面涂布设备，用于对所述基材的第二面进行涂布。4.如权利要求3所述的涂布系统，其特征在于，所述涂布系统还包括：纠偏器，所述纠偏器设置在所述第一面涂布设备与所述第二面涂布设备之间，所述纠偏设备为纠偏器和/或所述第二面涂布设备；所述纠偏器，用于根据所述纠偏指令对所述基材的位置进行调整，以对所述基材进行纠偏；所述第二面涂布设备，用于根据所述纠偏指令对所述基材的第二面进行涂布，以对所述基材进行涂布纠偏。5.如权利要求3所述的涂布系统，其特征在于，所述涂布系统还包括烘干设备，所述烘干设备设置于所述第一面涂布设备与所述第二面涂布设备之间，并同时设置于所述第二面涂布设备与所述收卷设备之间；所述烘干设备，用于对所述基材的第一面和第二面进行烘干。6.如权利要求5所述的涂布系统，其特征在于，所述第一检测器和所述第二检测器设置在所述烘干设备与所述收卷设备之间；所述第一检测器，用于检测所述基材的第一面的第一面干膜图像；所述第二检测器，用于检测所述基材的第二面的第二面干膜图像；所述控制设备，用于根据所述第一面干膜图像和所述第二面干膜图像计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值，并根据所述偏移值向所述纠偏设备发送纠偏指令。7.如权利要求6所述的涂布系统，其特征在于，所述涂布系统还包括：第三检测器，所述第三检测器设置在所述第二面涂布设备与所述烘干设备之间，所述第一检测器设置在所述烘干设备与所述第二面涂布设备之间，所述第二检测器设置在所述烘干设备与所述收卷设备之间；所述第三检测器，用于检测所述基材的第二面的第二面湿膜图像；
所述控制设备，用于根据所述第二面湿膜图像和所述第二面干膜图像计算烘干补偿值，并根据所述烘干补偿值、所述第一面干膜图像以及所述第二面湿膜图像计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值，并根据所述偏移值向所述纠偏设备发送纠偏指令。8.如权利要求7所述的涂布系统，其特征在于，所述控制设备，还用于根据所述烘干补偿值、所述第一面干膜图像以及所述第二面湿膜图像计算所述第一面和所述第二面两侧的单帧偏移值，并将单帧图片高度进行累加，获得累加距离，在累加距离满足预设距离条件的情况下，计算所述累加距离内多个单帧偏移值的平均偏移值，根据所述平均偏移值和纠偏系数计算纠偏闭环值，在所述纠偏闭环值满足预设纠偏条件的情况下，根据所述纠偏闭环值向所述纠偏设备发送纠偏指令。9.如权利要求7所述的涂布系统，其特征在于，所述控制设备，还用于获取所述基材的第二面烘干前后的经验补偿值，并根据所述经验补偿值、所述第一面干膜图像以及所述第二面湿膜图像计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值，并根据所述偏移值向所述纠偏设备发送纠偏指令。10.一种涂布方法，其特征在于，包括：通过第一检测器检测基材的第一面的第一涂布信息；通过第二检测器检测基材的第二面的第二涂布信息，所述第一面为所述基材的一面，所述第二面为所述基材的另一面；根据所述第一涂布信息和所述第二涂布信息计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值，并根据所述偏移值向纠偏设备发送纠偏指令，以使所述纠偏设备根据所述纠偏指令对所述基材进行涂布纠偏。11.如权利要求10所述的涂布方法，其特征在于，所述涂布方法还包括：通过所述第一检测器检测所述基材的第一面的第一面干膜图像；通过所述第二检测器检测所述基材的第二面的第二面干膜图像；根据所述第一面干膜图像和所述第二面干膜图像计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值，并根据所述偏移值向所述纠偏设备发送纠偏指令，以使所述纠偏设备根据所述纠偏指令对所述基材进行涂布纠偏。12.如权利要求11所述的涂布方法，其特征在于，所述涂布方法还包括：通过第三检测器检测所述基材的第二面的第二面湿膜图像；根据所述第二面湿膜图像和所述第二面干膜图像计算烘干补偿值，并根据所述烘干补偿值、所述第一面干膜图像以及所述第二面湿膜图像计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值，并根据所述偏移值向所述纠偏设备发送纠偏指令，以使所述纠偏设备根据所述纠偏指令对所述基材进行涂布纠偏。13.一种涂布方法，其特征在于，包括：获取基材的第一面的第一涂布信息和所述基材的第二面的第二涂布信息，所述第一面为所述基材的一面，所述第二面为所述基材的另一面；根据所述第一涂布信息和所述第二涂布信息计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值，并根据所述偏移值向纠偏设备发送纠偏指令，以使所述纠偏设备根据所述纠偏指令对所述基材进行涂布纠偏。14.如权利要求13所述的涂布方法，其特征在于，所述涂布方法还包括：
获取所述基材的第一面的第一面干膜图像和所述基材的第二面的第二面干膜图像；根据所述第一面干膜图像和所述第二面干膜图像计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值，并根据所述偏移值向所述纠偏设备发送纠偏指令，以使所述纠偏设备根据所述纠偏指令对所述基材进行涂布纠偏。15.如权利要求14所述的涂布方法，其特征在于，所述根据所述第一面干膜图像和所述第二面干膜图像计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值，包括：获取所述基材的第二面的第二面湿膜图像；根据所述第二面湿膜图像和所述第二面干膜图像计算烘干补偿值；根据所述烘干补偿值、所述第一面干膜图像以及所述第二面湿膜图像计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值。16.如权利要求15所述的涂布方法，其特征在于，所述涂布方法还包括：根据所述烘干补偿值、所述第一面干膜图像以及所述第二面湿膜图像计算所述第一面和所述第二面两侧的单帧偏移值，并将单帧图片高度进行累加，获得累加距离；在累加距离满足预设距离条件的情况下，计算所述累加距离内多个单帧偏移值的平均偏移值；根据所述平均偏移值和纠偏系数计算纠偏闭环值；在所述纠偏闭环值满足预设纠偏条件的情况下，根据所述纠偏闭环值向所述纠偏设备发送纠偏指令。17.如权利要求15所述的涂布方法，其特征在于，所述涂布方法还包括：获取所述基材的第二面烘干前后的经验补偿值；根据所述经验补偿值、所述第一面干膜图像以及所述第二面湿膜图像计算所述第一面和所述第二面两侧的偏移值，并根据所述偏移值向所述纠偏设备发送纠偏指令。

技术总结
本发明涉及电池技术领域，公开了一种涂布系统和方法，涂布系统包括：第一检测器、第二检测器、控制设备以及纠偏设备；第一检测器，用于检测基材的第一面的第一涂布信息；第二检测器，用于检测基材的第二面的第二涂布信息，第一面为基材的一面，第二面为基材的另一面；控制设备，用于根据第一涂布信息和第二涂布信息计算第一面和第二面两侧的偏移值，并根据偏移值向纠偏设备发送纠偏指令；纠偏设备，用于根据纠偏指令对基材进行涂布纠偏；相较于现有的通过单基准方式计算基材的偏移值的方式，由于本发明以双基准方式计算第一面和第二面两侧的偏移值，从而减少了极片宽幅导致的计算误差，进而能够提高纠偏效果，提升产品的优率。提升产品的优率。提升产品的优率。


技术研发人员：吴凯 屠银行 马云飞
受保护的技术使用者：宁德时代新能源科技股份有限公司
技术研发日：2023.09.12
技术公布日：2023/10/20