一种渗透检测补充清洗装置的制作方法

1.本实用新型属于材料检测、测试与失效分析-无损检测领域，涉及一种渗透检测补充清洗装置。


背景技术：

2.补充清洗装置在小零件荧光渗透检测线中挨着自动清洗装置，用于经自动清洗过的小零件如果发现清洗不足而加以补充清洗。实践中，在规划、设计及建设小零件渗透检测线来提高产能时，往往由于过于高估了自动清洗装置的清洗能力和清洗适当程度，而没有对补充清洗装置做到“三同时”(同步规划、同步设计、同步施工)；或少见检测线上虽有补充清洗装置，但不能有效实现快速进行补充清洗的设计用途，不能完全实现预期产能。当批量小零件按工艺参数在自动清洗装置中清洗过后，无法达到适当背景时，若无补充清洗装置，很难再放回到自动清洗装置中再次清洗，只能从头开始重新进行检测；若有补充清洗装置，而不能达到对清洗不足的工件快速补洗后将所有工件转移至下道干燥工序，就严重影响了检测质量，反而降低了检测效率。


技术实现要素：

3.本实用新型中的补充清洗装置，是指在小零件渗透检测线中与自动清洗装置配套使用的装置。
4.本实用新型克服了现有技术中的不足，提供了一种操作高效且方便、可快速对自动清洗不足的零件进行补洗、提高小零件渗透检测效率的装置。
5.技术方案
6.如图所示，提供一种渗透检测补充清洗装置，主要包括底座箱体、暗场框架、手工清洗操作台网。暗场框架架在底座箱体中的支架上，手工清洗操作台网放在底座箱体中的支架上；底座箱体中空，底座箱体一侧端面上装有清洗水枪，其出水形状和进水水压在枪上直接可微调，底座箱体中部装有风枪，在暗场框架上部左边安装若干组黑光灯，外部配上防水透明罩；手工清洗操作台网其最左侧为快速分拣和补充清洗区，完全处在黑光灯辐照范围内，里侧装有指针和刻度在暗场中可发光的水压表，手工清洗操作台网中部为干燥区，里侧装有指针和刻度在暗场中可发光的风压表,最右侧为转移区。
7.其中快速分拣和补充清洗区内的黑光强度不得低于100μw/cm2，且环境白光不超过100lx；该黑光强度和环境白光具体要求为渗透检测中对于黑白光的强制性要求，能够保证清洗适度。
8.其中快速分拣和补充清洗区中控制水压不超过0.27mp，保证清洗适度，若水压超过此标准要求，很可能会引起漏检。
9.其中，手工清洗操作台网中部为干燥区风压不超过0.17mp。若风压超过此标准要求，很可能会引起漏检。
10.若环境白光未满足要求，进一步的，在暗场框架前部用杆架和轻质遮光布搭设补
充清洗装置暗场前区；暗场前区具体规格为2200mm
×
1000mm
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1800mm。
11.手工清洗操作台网为长方形，尺寸为2000mm
×
1000mm
×
200mm较佳；长方形能够保证实际使用面积的有效性，避免尺寸过大造成不必要的浪费。
12.暗场框架的高度为1000mm，检测人员操作比较适宜；更符合人体力学使用要求。
13.所述暗场框架上部设置有加强筋。暗场框架若面板面积过大时，容易变形，结构强度无法更好的保证，需增设加强筋保证结构强度，防止变形。
14.所述的黑光灯具体为灯管式。灯管式占用面积小，容易固定和检修，使用更为方便。
15.技术效果
16.本实用新型提供了一种补充清洗装置，可以对经自动清洗过的小零件如果发现清洗不足而加以有效补充清洗，得以符合操作标准的要求。其对含有自动清洗装置的小零件渗透检测线是一个必要的配套装置，帮助提高检测效率，实现预期产能。该装置结构合理，实操性强；拆装方便、保养维修便捷。
附图说明
17.本实用新型包括3张附图，附图及附图说明如下：
18.图1为补充清洗装置主视结构示意图；
19.图2为补充清洗网台俯视示意图；
20.图3为补充清洗装置侧视示意图；
21.其中图1：1、底座箱体2、暗场框架3、暗场框架支架4、清洗网台支架5、加强筋6、黑光灯7、清洗网台四周护框、8遮光布帘。
具体实施方式
22.下面结合实施例对本实用新型作进一步描述。以下所述仅为本实用新型一部分实施例，非全部实施例。基于本实用新型实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
23.如图所示，提供一种补充清洗装置，主要包括底座箱体1、暗场框架2、手工清洗操作台网。底座箱体在地面上的高度为800mm，暗场框架和操作台网放在箱体中的支架上面。底座箱体1中空，清洗完零件的废水从台网流入箱体后从排水口迅速排出。箱体前部端面上装有清洗专用水枪，其出水形状和进水水压在枪上直接可微调，可精准进行补充清洗；装有风枪，进风压力在枪上直接可调。暗场框架的高度为1000mm，在框架前部用杆架和轻质遮光布搭设一个2200mm
×
1000mm
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1800mm的补充清洗装置暗场前区，这样在暗场框架内就形成了环境白光不超过100lx的清洗暗场。在暗场框架上部左边安装几组30w黑光灯管，外部配上防水透明罩。清洗台网尺寸为2000mm
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1000mm
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200mm，其最左侧为快速分拣和补充清洗区，完全处在黑光灯辐照范围内，区域内的黑光强度不得低于100μw/cm2，里侧装有指针和刻度在暗场中可发光的水压表，检测人员在暗场中进行清洗时，可直接方便的观测到水压，控制水压不超过0.27mp。中部为干燥区，里侧装有指针和刻度在暗场中可发光的风压表,检测人员进行干燥时，可直接方便的观测到风压，控制风压不超过0.17mp。最右侧为转移区。
24.补充清洗装置主体三部分组装起来后，给检测人员提供了一个经自动清洗过的小
零件如果发现清洗不足而加以补充清洗的工位，其处在检测线中自动清洗装置和显像装置之间。其手工清洗平台及暗场框架高度及网台宽度契合人体工程学，检测人员在工位长时间操作不会感觉到不适。经自动清洗过的小零件进入补充清洗工位后，首先在清洗台网分拣区黑光辐照下进行快速分拣，对其中清洗不足的工件进行补充清洗，清洗完后在干燥区吹去表面多余水分或彻底干燥后放至转移区；其中清洗适当的工件在干燥区吹去表面多余水分或彻底干燥后放至转移区。放在转移区的工件需迅速放入干燥装置中进行干燥或进入显像装置中进行显像。
25.装置面板、支架、加强筋、台网材料等均选用防锈、防腐蚀的不锈钢材料。底座箱体采用双层结构，清洗台网采用高目数以防小零件脱落。
26.本技术领域技术人员可以理解的是，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本实用新型所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，诸如通用字典中定义的那些术语应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义，并且除非像这里一样定义，不会用理想化或过于正式的含义来解释。以上所述的具体实施方式，对本实用新型的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本实用新型的具体实施方式而已，并不用于限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

技术特征：
1.一种渗透检测补充清洗装置，其特征在于，包括底座箱体、暗场框架、手工清洗操作台网；暗场框架架在底座箱体中的支架上，手工清洗操作台网放在底座箱体中的支架上；底座箱体中空，底座箱体一侧端面上装有清洗水枪，其出水形状和进水水压在枪上直接可微调，底座箱体中部装有风枪，在暗场框架上部左边安装若干组黑光灯，外部配上防水透明罩；手工清洗操作台网其最左侧为快速分拣和补充清洗区，完全处在黑光灯辐照范围内，里侧装有指针和刻度在暗场中可发光的水压表，手工清洗操作台网中部为干燥区，里侧装有指针和刻度在暗场中可发光的风压表，最右侧为转移区。2.根据权利要求1所述的一种渗透检测补充清洗装置，其特征在于，其中快速分拣和补充清洗区内的黑光强度不得低于100μw/cm2，且环境白光不超过100lx；该黑光强度和环境白光具体要求为渗透检测中对于黑白光的强制性要求，能够保证清洗适度。3.根据权利要求1所述的一种渗透检测补充清洗装置，其特征在于，其中快速分拣和补充清洗区中控制水压不超过0.27mp，保证清洗适度。4.根据权利要求1所述的一种渗透检测补充清洗装置，其特征在于，其中，手工清洗操作台网中部为干燥区风压不超过0.17mp。5.根据权利要求1所述的一种渗透检测补充清洗装置，其特征在于，若环境白光未满足要求，在暗场框架前部用杆架和轻质遮光布搭设补充清洗装置暗场前区；暗场前区具体规格为2200mm
×
1000mm
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1800mm。6.根据权利要求1所述的一种渗透检测补充清洗装置，其特征在于，手工清洗操作台网为长方形，尺寸为2000mm
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1000mm
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200mm。7.根据权利要求1所述的一种渗透检测补充清洗装置，其特征在于，暗场框架的高度为1000mm。8.根据权利要求1所述的一种渗透检测补充清洗装置，其特征在于，所述暗场框架上部设置有加强筋。9.根据权利要求1所述的一种渗透检测补充清洗装置，其特征在于，所述的黑光灯具体为灯管式。

技术总结
本实用新型属于材料检测、测试与失效分析-无损检测领域，涉及一种渗透检测补充清洗装置。主要包括底座箱体、暗场框架、手工清洗操作台网。暗场框架架在底座箱体中的支架上，手工清洗操作台网放在底座箱体中的支架上；底座箱体中空，底座箱体一侧端面上装有清洗水枪，其出水形状和进水水压在枪上直接可微调，底座箱体中部装有风枪，在暗场框架上部左边安装若干组黑光灯，外部配上防水透明罩；其对含有自动清洗装置的小零件渗透检测线是一个必要的配套装置，帮助提高检测效率，实现预期产能。该装置结构合理，实操性强；拆装方便、保养维修便捷。捷。捷。


技术研发人员：李进 张敬彤 曹祖权 何鹏 张家瑞
受保护的技术使用者：陕西飞机工业有限责任公司
技术研发日：2023.03.22
技术公布日：2023/10/20