显示面板、显示面板的制备方法及电子设备与流程

1.本技术涉及显示设备技术领域，具体而言，涉及一种显示面板、显示面板的制备方法及电子设备。


背景技术：

2.随着显示技术的发展，为提高显示面板的屏占比，减少边框的宽度，通常在显示面板上设置盲孔，并将光学器件(如摄像头)设置于显示面板一侧且对应于盲孔，以保证光线在盲孔处的透光率，从而使光学器件能够正常工作。
3.然而，现有技术中显示面板盲孔处的透光性较差，从而影响显示面板的质量。


技术实现要素：

4.为了克服上述技术背景中所提及的技术问题，本技术实施例提供了一种显示面板，所述显示面板包括：
5.阵列基板，所述阵列基板的一侧具有盲孔区；
6.位于所述阵列基板一侧的隔离墙，所述隔离墙围绕所述盲孔区，所述隔离墙远离所述阵列基板的一端相对靠近所述阵列基板的一端向所述盲孔区的中心倾斜。
7.在一种可能的实现方式中，所述显示面板还包括位于所述阵列基板设置有所述隔离墙一侧的无机层，所述无机层覆盖所述盲孔区并与所述隔离墙接触，所述无机层远离所述阵列基板的一端到所述阵列基板的距离小于所述隔离墙远离所述阵列基板的一端到所述阵列基板的距离。
8.在一种可能的实现方式中，所述隔离墙远离所述阵列基板的一端到所述阵列基板的距离为3um-3.5um。
9.在一种可能的实现方式中，所述隔离墙远离所述阵列基板的一端相对靠近所述阵列基板的一端向所述盲孔区的中心倾斜的角度为45
°
～70
°
。
10.在一种可能的实现方式中，所述隔离墙远离所述阵列基板的一端的厚度大于所述隔离墙靠近所述阵列基板的一端的厚度；
11.优选地，所述隔离墙靠近所述阵列基板的一端到所述隔离墙远离所述阵列基板的一端的厚度逐渐增大。
12.在一种可能的实现方式中，所述隔离墙在所述阵列基板上的正投影呈圆环形。
13.在一种可能的实现方式中，本技术还提供了一种显示面板的制备方法，所述方法包括：
14.提供一阵列基板；所述阵列基板的一侧具有盲孔区；
15.在所述阵列基板的一侧形成隔离墙；所述隔离墙围绕所述盲孔区，所述隔离墙远离所述阵列基板的一端相对靠近所述阵列基板的一端向所述盲孔区的中心倾斜；
16.在所述盲孔区内设置光刻胶层；所述光刻胶层远离所述阵列基板的一端到所述阵列基板的距离小于所述隔离墙远离所述阵列基板的一端到所述阵列基板的距离；
17.在所述阵列基板的一侧形成蒸镀层；
18.去除所述盲孔区内的光刻胶，以去除所述盲孔区内的蒸镀材料。
19.在一种可能的实现方式中，在所述在所述盲孔区内设置光刻胶层的步骤之前，还包括：
20.在所述盲孔区内设置无机层；
21.所述在所述盲孔区内设置光刻胶层的步骤，包括：
22.在所述无机层上远离所述阵列基板的一侧设置光刻胶层。
23.在一种可能的实现方式中，所述在所述盲孔区内设置光刻胶层的步骤，包括：
24.在所述盲孔区内设置光刻胶层，并使所述光刻胶层与所述隔离墙间具有间隙。
25.在一种可能的实现方式中，本技术还提供了一种电子设备，包括本技术所述的显示面板。
26.相对于现有技术而言，本技术具有以下有益效果：
27.本技术提供的一种显示面板、显示面板的制备方法及电子设备，通过在阵列基板的一侧设有向盲孔区倾斜且围绕盲孔区的隔离墙，可以将盲孔区内的蒸镀材料清除得更干净，从而提高盲孔区的透光性，进而可以提供显示面板的质量。
附图说明
28.为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
29.图1为本实施例提供的在阵列基板上设置隔离墙的示意图；
30.图2为本实施例提供的在盲孔区内设置光刻胶的示意图；
31.图3为本实施例提供的在阵列基板上蒸镀蒸镀层的示意图之一；
32.图4为本实施例提供的去除盲孔区中蒸镀材料后显示面板的示意图之一；
33.图5为本实施例提供的在盲孔区内设置无机层的示意图；
34.图6为本实施例提供的在无机层上设置光刻胶的示意图；
35.图7为本实施例提供的在阵列基板上蒸镀蒸镀层的示意图之二；
36.图8为本实施例提供的去除盲孔区中蒸镀材料后显示面板的示意图之二；
37.图9为本实施例提供的显示面板的俯视示意图；
38.图10为本实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程示意图之一；
39.图11为本实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程示意图之二。
40.附图标记：1、阵列基板；2、隔离墙；21、第一侧面；22、第二侧面；3、盲孔区；4、光刻胶层；5、蒸镀层；6、间隙；7、无机层。
具体实施方式
41.为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本技术实施
例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
42.因此，以下对在附图中提供的本技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围，而是仅仅表示本技术的选定实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
43.应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
44.在本技术的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该申请产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
45.需要说明的是，在不冲突的情况下，本技术的实施例中的不同特征之间可以相互结合。
46.请参见图1，本实施例提供了一种显示面板，所述显示面板包括阵列基板1和隔离墙2。
47.所述阵列基板1的一侧具有盲孔区3，在所述盲孔区3的对应位置可以设置光学器件。所述阵列基板1包括背板及位于所述背板一侧的键合电极，所述背板中可以包括多条用以传递信号或电能的金属走线和/或多个驱动单元，所述金属走线和/或所述驱动单元与所述键合电极电连接，所述键合电极与所述发光器件电连接，所述金属走线和所述驱动单元可以用于驱动所述发光器件。
48.所述隔离墙2位于所述阵列基板1的一侧，所述隔离墙2围绕所述盲孔区3，所述隔离墙2远离所述阵列基板1的一端相对靠近所述阵列基板1的一端向所述盲孔区3的中心倾斜。
49.请再次参见图1，所述隔离墙2包括相对设置的第一侧面21和第二侧面22，所述第一侧面21为相对所述盲孔区3中心的侧面，所述第二侧面22为远离所述盲孔区3的侧面，其中，所述第一侧面21向所述盲孔区的中心倾斜。
50.所述隔离墙2可以通过掩膜版形成，所述隔离墙2的构造为环绕所述盲孔区3设置，即所述隔离墙2围合形成所述盲孔区3。如此，所述隔离墙2精准限定了所述盲孔区3的范围，可以防止所述盲孔区3内的显影液流溢。
51.请参见图2，在向所述阵列基板1上设有所述隔离墙2的一侧蒸镀蒸镀层之前，先在所述盲孔区3内设置光刻胶层4，且所述隔离墙2远离所述阵列基板1一端的开口在所述阵列基板1上的正投影位于所述光刻胶层4在所述阵列基板1上的正投影位内。如此，蒸镀材料不容易达到所述盲孔区3内没有所述光刻胶层4的位置，从而更容易将所述盲孔区3内的蒸镀材料同所述光刻胶层4一同清除。另外，所述光刻胶层4可以任意形状在所述阵列基板1的任意位置涂布，无空间位置的制约。
52.请参见图3，在所述盲孔区3内设置光刻胶层4后，向所述阵列基板1上设有所述隔离墙2的一侧蒸镀蒸镀层5。由于所述隔离墙2向所述盲孔区3的中心倾斜，因此所述盲孔区3内的蒸镀层5与所述隔离墙2间会形成间隙6。因此，向所述盲孔区3内注入显影液时，显影液
会从所述间隙6流向所述光刻胶层4。利用光刻胶经曝光、显影后可以轻易去除的特性，在去除所述光刻胶层4的同时，可以将所述盲孔区3内的蒸镀材料清除干净，最终可以形成如图4所示的产品。
53.基于以上设计，本实施例通过在所述阵列基板1的一侧设有向所述盲孔区3倾斜且围绕所述盲孔区3的所述隔离墙2，可以将所述盲孔区3内的蒸镀材料清除得更干净，从而可以提高所述盲孔区3的透光性，进而可以提供显示面板的质量。
54.在一种可能的实现方式中，请参见图5，所述显示面板还包括位于所述阵列基板1设置有所述隔离墙2一侧的无机层7，所述无机层7覆盖所述盲孔区3并与所述隔离墙2接触，所述无机层7远离所述阵列基板1的一端到所述阵列基板1的距离(图5中的d1)小于所述隔离墙2远离所述阵列基板1的一端到所述阵列基板1的距离(图5中的d2)，即d1《d2。
55.当所述阵列基板1中没有有机膜层时，在所述盲孔区3内不需要设置无机层7。当所述阵列基板1中具有有机膜层时，为了使显影液不侵蚀所述阵列基板1中的有机膜层，需要在所述盲孔区3内设置一层无机层7，所述无机层7的材料可以为氮化硅或氧化硅。
56.请参加图6，在向所述阵列基板1上设有所述隔离墙2的一侧蒸镀蒸镀层5之前，先在所述无机层7上远离所述阵列基板1的一侧设置一层光刻胶层4，并使所述光刻胶层4与所述隔离墙2间存在间隙6。由于所述光刻胶具有一定流动性，因此在涂布所述光刻胶层4时，可以适当缩小所述光刻胶在所述盲孔区3内的涂布面积。
57.请参见图7，当在所述无机层上设置所述光刻胶层4后，即可在所述阵列基板1上设有所述隔离墙2的一侧蒸镀蒸镀层5，如蒸镀发光层和阴极层。在所述盲孔区3内也会形成一层蒸镀层5，所述盲孔区3内的所述蒸镀层5远离所述阵列基板1的一端到所述阵列基板1的距离小于所述隔离墙2远离所述阵列基板1的一端到所述阵列基板1的距离。
58.请再次参见图7，由于所述隔离墙2向所述盲孔区3的中心倾斜且所述盲孔区3内的蒸镀层5未与所述隔离墙2平齐或凸出所述隔离墙2，因此所述盲孔区3内的蒸镀层5与所述隔离墙2间会形成间隙6。利用对位仪器将显影液注射在所述盲孔区3内的蒸镀层5上，所述显影液会从所述间隙6流向所述无机层7。所述显影液对所述光刻胶层4进行腐蚀，此时所述隔离墙2起到堤坝和挡板的作用，防止显影液流溢，之后再进行真空吸附，以便去除所述盲孔区3内的蒸镀材料，最终所述无机层7会被保留下来，形成如图8所示的产品。
59.如此，通过在所述盲孔区3内设置无机层7，可以防止显影液侵蚀所述阵列基板1中的有机膜层，并利用显影液流入所述蒸镀层5与所述隔离墙2间的间隙6，可以将所述盲孔区3内的蒸镀材料除去得更干净。
60.在一种可能的实现方式中，请再次参见图5，所述隔离墙2远离所述阵列基板1的一端到所述阵列基板1的距离为3um-3.5um，即图5中的d2＝3um-3.5um。适当设置所述隔离墙2的高度，不但可以将显影液隔离在所述盲孔区3内，还可以在显示面板封装时起到缓冲作用。
61.在一种可能的实现方式中，请再次参见图1，所述隔离墙2远离所述阵列基板1的一端相对靠近所述阵列基板1的一端向所述盲孔区3的中心倾斜的角度为45
°
～70
°
，即图1中的角度a为45
°
～70
°
。适当设置所述隔离墙2向所述盲孔区3的倾斜角度，可以更容易使所述盲孔区3内的蒸镀层5与所述隔离墙2间形成所述间隙6。
62.在一种可能的实现方式中，请再次参见图4，所述隔离墙2远离所述阵列基板1的一
端的厚度(图4中的l1)大于所述隔离墙2靠近所述阵列基板1的一端的厚度(图4中的l2)，即l1》l2。如此，可以使所述隔离墙2靠近所述盲孔区3的一侧与远离所述盲孔区3的一侧更均衡，从而可以使所述隔离墙2更稳定。
63.优选地，请再次参见图4，所述隔离墙2靠近所述阵列基板1的一端到所述隔离墙2远离所述阵列基板1的一端的厚度逐渐增大。即所述隔离墙2的第二侧面22向远离所述盲孔区3的方向倾斜，且所述第一侧面21和所述第二侧面22的倾斜角度相等。如此，可以使所述隔离墙2靠近所述盲孔区3的一侧与远离所述盲孔区3的一侧进一步更均衡，从而可以使所述隔离墙2进一步更稳定。
64.在一种可能的实现方式中，请参见图9，所述隔离墙2在所述阵列基板1上的正投影呈圆环形。如此，可以更容易形成所述隔离墙2，并使所述隔离墙2围绕所述盲孔区3。
65.综上，本技术通过在所述阵列基板1的一侧设有向所述盲孔区3倾斜且围绕所述盲孔区3的所述隔离墙2，可以精准限定所述盲孔区3的范围，并防止显影液流溢至所述盲孔区3外，可以尽量避免蒸镀材料到达所述盲孔区3内的无机层上，从而可以将盲孔区3内的蒸镀材料清除得更干净，进而可以提高该显示面板的盲孔区3的透光性，最终可以提供显示面板的质量。
66.而且相比目前采用镭射挖空形成盲孔的方案，本技术通过上述方案设置显示面板的所述盲孔区3，工艺更简单，成本更低，从而使得该显示面板的市场竞争力更强。
67.在一种可能的实现方式中，请参见图10，本技术还提供了一种显示面板的制备方法，所述方法包括：
68.s10：提供一阵列基板1；所述阵列基板1的一侧具有盲孔区3。
69.在本实施例中，所述阵列基板1包括背板及位于所述背板一侧的键合电极，所述背板中可以包括多条用以传递信号或电能的金属走线和/或多个驱动单元，所述金属走线和/或所述驱动单元与所述键合电极电连接，所述键合电极与所述发光器件电连接，所述金属走线和所述驱动单元可以用于驱动所述发光器件。
70.所述阵列基板1的盲孔区3的相应位置可以设置光学器件(如摄像头)，如此，不需要将光学器件设置在所述显示面板的边框区，从而可以提高所述显示面板的屏占比。
71.s11：在所述阵列基板1的一侧形成隔离墙2；所述隔离墙2围绕所述盲孔区3，所述隔离墙2远离所述阵列基板1的一端相对靠近所述阵列基板1的一端向所述盲孔区3的中心倾斜。
72.在本实施例中，请再次参见图1，所述隔离墙2可以通过掩膜版形成，所述隔离墙2可以精准限定所述盲孔区3的范围，从而可以防止所述盲孔区3内的显影液流溢。
73.s12：在所述盲孔区3内设置光刻胶层4；所述光刻胶层4远离所述阵列基板1的一端到所述阵列基板1的距离小于所述隔离墙2远离所述阵列基板1的一端到所述阵列基板1的距离。
74.在本实施例中，请再次参见图2，在向所述阵列基板1上设有所述隔离墙2的一侧蒸镀蒸镀层5之前，先在所述盲孔区3内设置光刻胶层4。
75.s13：在所述阵列基板1的一侧形成蒸镀层5。
76.在本实施例中，请再次参见图3，向所述阵列基板1上设有所述隔离墙2的一侧蒸镀蒸镀层5，所述蒸镀层5包括发光层和阴极层。
77.s14：去除所述盲孔区3内的光刻胶，以去除所述盲孔区3内的蒸镀材料。
78.在本实施例中，请再次参见图3，由于所述隔离墙2向所述盲孔区3的中心倾斜，因此所述盲孔区3内的蒸镀层5与所述隔离墙2间会形成间隙6。如此，向所述盲孔区3内注入显影液时，显影液会从所述间隙6流向所述光刻胶层4。利用光刻胶经曝光、显影后可以轻易去除的特性，在去除所述光刻胶层4的同时，可以将所述盲孔内的蒸镀材料清除干净，最终可以形成如图4所示的产品。
79.如此，本实施例通过在所述阵列基板1的一侧设有向所述盲孔区3倾斜且围绕所述盲孔区3的所述隔离墙2，可以将所述盲孔区3内的蒸镀材料清除得更干净，从而可以提高所述盲孔区3的透光性。
80.在一种可能的实现方式中，请参见图11，在所述在所述盲孔区3内设置光刻胶层4的步骤之前，还包括：
81.s110：在所述盲孔区3内设置无机层7。
82.所述在所述盲孔区3内设置光刻胶层4的步骤，包括：
83.s120：在所述无机层7上远离所述阵列基板1的一侧设置光刻胶层4。
84.本实施例中，当所述阵列基板1中没有有机膜层时，在所述盲孔区3内不需要设置无机层7。请再次参加图5，当所述阵列基板1中具有有机膜层时，为了使显影液不侵蚀所述阵列基板1中的有机膜层，需要在所述盲孔区3内设置一层无机层7。
85.请再次参加图6，在向所述阵列基板1上设有所述隔离墙2的一侧蒸镀蒸镀层5之前，先在所述无机层7上远离所述阵列基板1的一侧设置一层光刻胶层4，并使所述光刻胶层4与所述隔离墙2间存在间隙6。由于光刻胶具有一定流动性，因此在涂布所述光刻胶层4时，可以适当缩小光刻胶在所述盲孔区3内的涂布面积。
86.请再次参见图7，当在所述无机层7上设置所述光刻胶层4后，即可在所述阵列基板1上设有所述隔离墙2的一侧蒸镀蒸镀层5。在所述盲孔区3内也会形成一层蒸镀层5，所述盲孔区3内的所述蒸镀层5远离所述阵列基板1的一端到所述阵列基板1的距离小于所述隔离墙2远离所述阵列基板1的一端到所述阵列基板1的距离。
87.请再次参见图7，由于所述隔离墙2向所述盲孔区3的中心倾斜且所述盲孔区3内的蒸镀层5未与所述隔离墙2平齐或凸出所述隔离墙2，因此所述盲孔区3内的蒸镀层5与所述隔离墙2间会形成间隙6。利用对位仪器将显影液注射在所述盲孔区3内的蒸镀层5上，所述显影液会从所述间隙6流向所述无机层7。所述显影液对光刻胶进行腐蚀，此时所述隔离墙2也起到堤坝和挡板的作用防止显影液流溢，之后再进行真空吸附达到去除所述盲孔区3内的蒸镀材料的目的，最终所述无机层会被保留下来，形成如图8所示的产品。
88.在一种可能的实现方式中，所述在所述盲孔区3内设置光刻胶层4的步骤，包括：在所述盲孔区3内设置光刻胶层4，并使所述光刻胶层4与所述隔离墙2间具有间隙6。
89.本实施例中，请再次参见图3，当所述阵列基板1中没有有机膜层时，在所述盲孔区3内不需要设置有机层，显影液可以流入所述光刻胶层4与所述隔离墙2间的间隙6，从而可以增加显影液与所述光刻胶层4的接触面积，进而可以更容易将所述盲孔区3内的所述光刻胶去除，最终将所述盲孔区3内的所述蒸镀材料去除。
90.请再次参见图7，当所述阵列基板1中有有机膜层时，在所述盲孔区3内需要设置有机层7，显影液可以流入所述光刻胶层4与所述隔离墙2间的间隙6，从而可以增加显影液与
所述光刻胶层4的接触面积，进而可以更容易将所述有机层上的所述光刻胶层4去除，最终可以更容易将所述盲孔区3内的蒸镀材料去除。
91.在一种可能的实现方式中，本技术还提供了一种电子设备，包括本技术所述的显示面板。所述电子设备可以为电视、拼接屏、移动终端、显示区等具有显示功能的设备，由于该电子设备包括本技术中所述的显示面板，因此该电子设备中盲孔区3的透光性更好。
92.以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
93.以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

技术特征：
1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：阵列基板，所述阵列基板的一侧具有盲孔区；位于所述阵列基板一侧的隔离墙，所述隔离墙围绕所述盲孔区，所述隔离墙远离所述阵列基板的一端相对靠近所述阵列基板的一端向所述盲孔区的中心倾斜。2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括位于所述阵列基板设置有所述隔离墙一侧的无机层，所述无机层覆盖所述盲孔区并与所述隔离墙接触，所述无机层远离所述阵列基板的一端到所述阵列基板的距离小于所述隔离墙远离所述阵列基板的一端到所述阵列基板的距离。3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述隔离墙远离所述阵列基板的一端到所述阵列基板的距离为3um-3.5um。4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述隔离墙远离所述阵列基板的一端相对靠近所述阵列基板的一端向所述盲孔区的中心倾斜的角度为45
°
～70
°
。5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述隔离墙远离所述阵列基板的一端的厚度大于所述隔离墙靠近所述阵列基板的一端的厚度；优选地，所述隔离墙靠近所述阵列基板的一端到所述隔离墙远离所述阵列基板的一端的厚度逐渐增大。6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述隔离墙在所述阵列基板上的正投影呈圆环形。7.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述方法包括：提供一阵列基板；所述阵列基板的一侧具有盲孔区；在所述阵列基板的一侧形成隔离墙；所述隔离墙围绕所述盲孔区，所述隔离墙远离所述阵列基板的一端相对靠近所述阵列基板的一端向所述盲孔区的中心倾斜；在所述盲孔区内设置光刻胶层；所述光刻胶层远离所述阵列基板的一端到所述阵列基板的距离小于所述隔离墙远离所述阵列基板的一端到所述阵列基板的距离；在所述阵列基板的一侧形成蒸镀层；去除所述盲孔区内的光刻胶，以去除所述盲孔区内的蒸镀材料。8.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在所述在所述盲孔区内设置光刻胶层的步骤之前，还包括：在所述盲孔区内设置无机层；所述在所述盲孔区内设置光刻胶层的步骤，包括：在所述无机层上远离所述阵列基板的一侧设置光刻胶层。9.根据权利要求7或8所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述在所述盲孔区内设置光刻胶层的步骤，包括：在所述盲孔区内设置光刻胶层，并使所述光刻胶层与所述隔离墙间具有间隙。10.一种电子设备，其特征在于，包括权利要求1-6中任意一项所述的显示面板。

技术总结
本申请实施例提供的一种显示面板、显示面板的制备方法及电子设备，涉及显示设备技术领域，用于解决现有技术中不能将显示面板盲孔处的蒸镀材料清除干净，从而影响到盲孔处的透光性的技术问题。所述显示面板包括：阵列基板和隔离墙，所述阵列基板的一侧具有盲孔区；所述隔离墙位于所述阵列基板的一侧，所述隔离墙围绕所述盲孔区，所述隔离墙远离所述阵列基板的一端相对靠近所述阵列基板的一端向所述盲孔区的中心倾斜。本申请通过在阵列基板的一侧设有向盲孔区倾斜且围绕盲孔区的隔离墙，可以将盲孔区内的蒸镀材料清除得更干净，从而提高盲孔区的透光性。孔区的透光性。孔区的透光性。


技术研发人员：周淳 马玉洁
受保护的技术使用者：昆山国显光电有限公司
技术研发日：2023.08.08
技术公布日：2023/10/20