一种用于净水剂生产的原料粉碎装置的制作方法

1.一种用于净水剂生产的原料粉碎装置，属于粉碎设备技术领域。


背景技术：

2.净水剂就是投放入水中能和水中其它杂质产生反应的药剂。主要是起到净水的目的，常用到的净水剂有聚合氯化铝、聚合氯化铝铁、碱式氯化铝、聚丙烯酰胺、硫酸亚铁、硫酸铝、聚合硫酸铁等，因净水剂为粉状物，所以制作过程中要使用到粉碎和研磨设备。
3.原料通常要先通过粉碎设备粉碎，然后再送入到研磨设备内完成研磨，以使原料达到要求的粒度。目前原料的粉碎和研磨是通过不同的设备来实现的，粉碎后的原料要转运至研磨设备内，以通过研磨设备对粉碎后的原料进行研磨，这增加了工艺步骤，且物料的转移需要增加额外的设备，增加了设备的投入成本。
4.实用新型专利cn209866258u公开了一种净水剂粉碎研磨装置，其通过切割刀片对原料进行破碎，破碎后的原料经过研磨滚实现研磨，其在使用过程中存在如下技术问题：1）切割刀片对原料进行破碎，其无法对大块物料进行破碎，对原料的大小要求高，适应范围较小；2）其通过研磨滚实现了对破碎后的原料的研磨，研磨滚转动并对原料进行研磨，但是由于研磨过程中不存在对原料压紧在研磨滚上的力，导致研磨过程中原料颗粒会不停的跳动，导致研磨效率低。


技术实现要素：

5.本实用新型要解决的技术问题是：克服现有技术的不足，提供一种能够适应不同大小的原料的破碎，且能够保证对原料的研磨效果好，且研磨效率高的用于净水剂生产的原料粉碎装置。
6.本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：该用于净水剂生产的原料粉碎装置，包括主体以及由上至下依次安装在主体内的破碎装置和研磨装置，其特征在于：所述的破碎装置包括破碎辊以及破碎电机，破碎辊并排设置有若干个，破碎电机同时与各破碎辊连接；
7.所述的研磨装置包括动盘、静盘以及研磨电机，动盘设置在静盘的下侧，静盘为圆环形，并在静盘的中部形成落料口，静盘的底部设置有由内至外逐渐向下的倾斜状的静研磨部，在动盘的顶部设置有由内至外逐渐向下的动研磨部，研磨电机与动盘连接。
8.优选的，各所述的破碎辊的侧部均间隔设置有若干破碎齿。
9.优选的，所述的静盘的顶部为由内至外逐渐向上的倾斜状，并在静盘的顶部形成导料部。
10.优选的，还包括分散盘，分散盘同轴且间隔设置在静盘的上侧，分散盘的顶部的直径由下至上逐渐减小，分散盘底部的直径大于静盘的内径，分散盘与动盘连接并随其同步转动。
11.优选的，所述的研磨装置还包括研磨环，研磨环设置在静盘的下侧，研磨环同轴套
在动盘的外侧，动盘的侧部设置有与研磨环相配合的侧研磨部。
12.优选的，还包括设置在研磨装置下侧的出料仓和拨料装置，出料仓的底部封闭设置，出料仓由上至下直径逐渐减小，在出料仓的封闭端设置有出料口，拨料装置设置在出料仓内，拨料装置与动盘固定连接。
13.优选的，所述的拨料装置包括拨料板，拨料板环绕动盘的轴线间隔设置有若干块，各拨料板的外端均向转动方向的后侧弯曲，出料口设置在出料仓的封闭端的一侧。
14.与现有技术相比，本实用新型所具有的有益效果是：
15.本用于净水剂生产的原料粉碎装置的破碎电机同时带动各破碎辊转动，每相邻的破碎辊相配合实现了对原料的破碎，粒度小的原料直接通过相邻破碎辊之间的间隔落至研磨装置内，而大块的原料通过相邻的破碎辊破碎后落至下侧的研磨装置内，由于大块的原料重量大，依靠其重力即可与破碎辊配合来实现对其的破碎，破碎后的原料进入到动盘和静盘之间，并通过静研磨部和动研磨部的配合，实现了对原料的研磨，由于静研磨部和动研磨部对原料进行挤压，保证对原料的研磨速度快，且研磨效果好，能够将原料研磨成所需要的粒度。
附图说明
16.图1为用于净水剂生产的原料粉碎装置的主视剖视示意图。
17.图2为图1中a处的局部放大图。
18.图3为拨料板与主轴连接的俯视示意图。
19.图中：1、主体 2、进料仓 3、破碎辊 4、破碎齿 5、静盘 501、导料部 502、静研磨部 6、分散盘 7、动盘 701、动研磨部 702、侧研磨部 8、研磨环 9、出料仓 901、出料口 10、主轴 11、拨料板 12、研磨电机 13、安装套 14、安装杆。
具体实施方式
20.下面结合具体实施例对本实用新型做进一步说明，然而熟悉本领域的人们应当了解，在这里结合附图给出的详细说明是为了更好的解释，本实用新型的结构必然超出了有限的这些实施例，而对于一些等同替换方案或常见手段，本文不再做详细叙述，但仍属于本技术的保护范围。
21.图1~3是本实用新型的最佳实施例，下面结合附图1~3对本实用新型做进一步说明。
22.一种用于净水剂生产的原料粉碎装置，包括主体1以及由上至下依次安装在主体1内的破碎装置和研磨装置，破碎装置包括破碎辊3以及破碎电机，破碎辊3并排设置有若干个，破碎电机同时与各破碎辊3连接；所述的研磨装置包括动盘7、静盘5以及研磨电机12，动盘7设置在静盘5的下侧，静盘5为圆环形，并在静盘5的中部形成落料口，静盘5的底部设置有由内至外逐渐向下的倾斜状的静研磨部502，在动盘7的顶部设置有由内至外逐渐向下的动研磨部701，研磨电机12与动盘7连接。本用于净水剂生产的原料粉碎装置的破碎电机同时带动各破碎辊3转动，每相邻的破碎辊3相配合实现了对原料的破碎，粒度小的原料直接通过相邻破碎辊3之间的间隔落至研磨装置内，而大块的原料通过相邻的破碎辊3破碎后落至下侧的研磨装置内，由于大块的原料重量大，依靠其重力即可与破碎辊配合来实现对其
的破碎，破碎后的原料进入到动盘7和静盘5之间，并通过静研磨部502和动研磨部701的配合，实现了对原料的研磨，由于静研磨部502和动研磨部701对原料进行挤压，保证对原料的研磨速度快，且研磨效果好，能够将原料研磨成所需要的粒度。
23.具体的：如图1~3所示：主体1为竖向设置的筒体，主体1的底部通过进料仓2封闭，进料仓2由上至下逐渐变细，从而方便添加原料，且能够使原料对准破碎装置，进而使原料能够顺畅的经过破碎装置的破碎。
24.破碎装置包括破碎电机以及破碎辊3，破碎辊3水平设置，破碎辊3可转动的安装在主体1的上部，破碎辊3并排设置有若干个。在本实施例中，破碎辊3并排且间隔设置有两个，两个破碎辊3上均设置有齿轮，且两个破碎辊3上的齿轮相啮合，破碎电机安装在主体1的外侧，破碎电机的输出轴通过皮带与任意一个破碎辊3连接，进而使两破碎辊3同步转动。
25.在本实施例中，图1中左侧的破碎辊3沿顺时针方向转动，右侧的破碎辊3沿逆时针方向转动，另破碎辊3相配合，实现了对大块原料的破碎。
26.更进一步的，各破碎辊3的侧部均间隔设置有若干破碎齿4，破碎齿4能够避免破碎辊3与原料之间发生摩擦，保证原料能够快速进入到两破碎辊3之间，进而保证对原料的破碎速度快。进料仓2的底部位于两破碎辊3之间的正上方，从而能够使添加的原料都能够直接落至两破碎辊3之间，进一步保证了破碎速度。
27.静盘5和动盘7均设置在破碎辊3的下侧，静盘5为圆环形，并在静盘5的中部形成落料口，静盘5的顶部设置有由内至外逐渐向上的导料部501，经破碎辊3破碎后的原料落至导料部501上，并通过导料部501将破碎后的原料导入落料口内。静盘5的外侧与主体1的内壁固定连接。
28.本用于净水剂生产的原料粉碎装置还包括出料仓9、主轴10以及拨料装置，出料仓9设置在动盘7的下侧，出料仓9的底部封闭设置，出料仓9的顶部与主体1的内壁固定连接，出料仓9的封闭端设置有出料口901，拨料装置设置在出料仓9内，从而将落至出料仓9内的物料拨送至出料口901处，以保证研磨后的原料都能够通过出料口901送出。
29.主轴10竖向设置在主体1内，动盘7同轴套在主轴10外，动盘7与主轴10之间固定连接，动盘7随主轴10同步转动，在静盘5的落料口内通过安装杆14安装有安装套13，安装杆14环绕落料口间隔均布有若干根，各安装杆14的外端均与静盘5根据连接，内端均与安装套13固定连接，安装套13与静盘5同轴设置，在本实施例中，安装杆14环绕安装套13间隔均布有三根，从而既能够实现了安装杆套13的支撑，又不会妨碍原料经落料口的下落。主轴10的上端与安装套13可转动的连接，底部与出料仓9的封闭端可转动的连接，出料口901位于主轴10的一侧，从而避免对主轴10的安装造成妨碍，拨料装置与主轴10固定连接。
30.研磨电机12设置在主体1的外侧，研磨电机12与主体1可拆卸的连接，主轴10的下端穿过出料仓9的封闭端并向外伸出，研磨电机12的输出轴通过皮带与主轴10连接，进而带动主轴10转动，进而实现了动盘7的转动以及拨料装置的工作。
31.破碎电机通过皮带与破碎辊3连接以及研磨电机12通过皮带与主轴10连接的方式，直接采用现有的皮带传动的方式即可，即通过皮带与带轮的方式实现传动，这属于现有技术方案，其具体结构在此不再赘述。
32.本用于净水剂生产的原料粉碎装置还包括分散盘6，分散盘6由下至上直径逐渐减小，分散盘6固定安装在主轴10的顶部，分散盘6与主轴10固定连接。分散盘6的底部的直径
大于落料口的直径，分散盘6位于相邻两破碎辊3之间。
33.分散盘6能够随主轴10同步转动，破碎后的原料落至分散盘6上，配合分散盘6的转动，能够使原料均匀的落至导料部501上，并通过导料部501送入到落料口内，保证原料分布均匀。
34.静盘5的底部设置有由内至外逐渐向下的倾斜状的静研磨部502，动盘7的顶部设置有由内至外逐渐向下的动研磨部701，动研磨部701和静研磨部502相配合，实现了对破碎后的原料的研磨，动研磨部701和静研磨部502均为倾斜状，即有利于原料在重力和离心力的作用下向外运动，又增加了研磨的行程，保证对原料的研磨效果好。
35.本用于净水剂生产的原料粉碎装置还包括研磨环8，研磨环8设置在静盘5的下侧，研磨环8同轴套在动盘7外，动盘7的侧部设置有与研磨环8相配合的侧研磨部702，侧研磨部702与研磨环8的内壁相配，实现了对原料的二次研磨，对原料研磨效果好，且能够使研磨后的原料的粒度更小。
36.拨料装置包括拨料板11，拨料板11环绕主轴10间隔设置有若干块，拨料板11的内端与主轴10固定连接，使拨料板11随主轴10同步转动，拨料板11的底部与出料仓9的封闭端贴合，拨料板11的外端向转动方向后侧弯曲，从而能够将出料仓9底部的原料拨送至出料仓9封闭端的外侧，并保证原料都能够通过出料口901送出。
37.本用于净水剂生产的原料粉碎装置的工作过程如下：原料通过进料仓2送入到主体1内，进入到主体1内的原料落至两破碎辊3之间，破碎电机带动破碎辊3转动进而实现了对原料的破碎，破碎后的原料落至分散盘6上，分散盘6随主轴10同步转动，进而使破碎后的原料均匀的分散至静盘5的导料部501上，并在导料部501的作用下经落料口落至动盘7的上侧。
38.落至动盘7上侧的原料在重力和离心力的作用下进入到静研磨部502和动研磨部701之间，动盘7随主轴10同步转动，进而实现了对原料的研磨。研磨过程中，原料在重力和离心力的作用下向外运动，直至运动至研磨环8与侧研磨部702之间，侧研磨部702和动研磨环8配合实现了对原料的二次研磨。
39.研磨后的原料落至出料仓9内，拨料板11随主轴10同步转动，进而推动原料运动，并使原料向出料仓9的封闭端的外侧运动，从而保证物料都能够通过出料口901排出。
40.以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非是对本实用新型作其它形式的限制，任何熟悉本专业的技术人员可能利用上述揭示的技术内容加以变更或改型为等同变化的等效实施例。但是凡是未脱离本实用新型技术方案内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与改型，仍属于本实用新型技术方案的保护范围。

技术特征：
1.一种用于净水剂生产的原料粉碎装置，包括主体（1）以及由上至下依次安装在主体（1）内的破碎装置和研磨装置，其特征在于：所述的破碎装置包括破碎辊（3）以及破碎电机，破碎辊（3）并排设置有若干个，破碎电机同时与各破碎辊（3）连接；所述的研磨装置包括动盘（7）、静盘（5）以及研磨电机（12），动盘（7）设置在静盘（5）的下侧，静盘（5）为圆环形，并在静盘（5）的中部形成落料口，静盘（5）的底部设置有由内至外逐渐向下的倾斜状的静研磨部（502），在动盘（7）的顶部设置有由内至外逐渐向下的动研磨部（701），研磨电机（12）与动盘（7）连接。2.根据权利要求1所述的用于净水剂生产的原料粉碎装置，其特征在于：各所述的破碎辊（3）的侧部均间隔设置有若干破碎齿（4）。3.根据权利要求1所述的用于净水剂生产的原料粉碎装置，其特征在于：所述的静盘（5）的顶部为由内至外逐渐向上的倾斜状，并在静盘（5）的顶部形成导料部（501）。4.根据权利要求1或3所述的用于净水剂生产的原料粉碎装置，其特征在于：还包括分散盘（6），分散盘（6）同轴且间隔设置在静盘（5）的上侧，分散盘（6）的顶部的直径由下至上逐渐减小，分散盘（6）底部的直径大于静盘（5）的内径，分散盘（6）与动盘（7）连接并随其同步转动。5.根据权利要求1所述的用于净水剂生产的原料粉碎装置，其特征在于：所述的研磨装置还包括研磨环（8），研磨环（8）设置在静盘（5）的下侧，研磨环（8）同轴套在动盘（7）的外侧，动盘（7）的侧部设置有与研磨环（8）相配合的侧研磨部（702）。6.根据权利要求1所述的用于净水剂生产的原料粉碎装置，其特征在于：还包括设置在研磨装置下侧的出料仓（9）和拨料装置，出料仓（9）的底部封闭设置，出料仓（9）由上至下直径逐渐减小，在出料仓（9）的封闭端设置有出料口（901），拨料装置设置在出料仓（9）内，拨料装置与动盘（7）固定连接。7.根据权利要求6所述的用于净水剂生产的原料粉碎装置，其特征在于：所述的拨料装置包括拨料板（11），拨料板（11）环绕动盘（7）的轴线间隔设置有若干块，各拨料板（11）的外端均向转动方向的后侧弯曲，出料口（901）设置在出料仓（9）的封闭端的一侧。

技术总结
一种用于净水剂生产的原料粉碎装置，属于粉碎设备技术领域。所述的破碎装置包括破碎辊(3)以及破碎电机，破碎辊(3)并排设置有若干个，破碎电机同时与各破碎辊(3)连接；所述的研磨装置包括动盘(7)、静盘(5)以及研磨电机(12)，动盘(7)设置在静盘(5)的下侧，静盘(5)为圆环形，并在静盘(5)的中部形成落料口，静盘(5)的底部设置有由内至外逐渐向下的倾斜状的静研磨部(502)，在动盘(7)的顶部设置有由内至外逐渐向下的动研磨部(701)，研磨电机(12)与动盘(7)连接。本实用新型通过静研磨部和动研磨部的配合实现了对原料的研磨，保证对原料的研磨速度快，且研磨效果好。且研磨效果好。且研磨效果好。


技术研发人员：戴合义 戴跟义 王春丽
受保护的技术使用者：山东科宇水处理有限公司
技术研发日：2023.05.23
技术公布日：2023/10/20