清洗装置及使用其的清洗方法与流程

清洗装置及使用其的清洗方法
1.相关申请的交叉引用
2.本专利申请要求于2022年4月6日提交的第10-2022-0043056号韩国专利申请的优先权，该韩国专利申请的全部内容通过引用并入本文中。
技术领域
3.本文中的本公开涉及通过使用电永磁体而具有改善的清洗效果的清洗装置及清洗方法。


背景技术：

4.通常，发光显示装置中的发光元件设置在每个像素中。发光元件包括设置在两个电极之间的发光层。设置在像素中的发光层可以被划分成多个组。
5.为了在工作衬底上沉积多个组的发光层，使用掩模组件。掩模组件包括框架和掩模。在将工作衬底设置在掩模上之后，在工作衬底上沉积发光材料，从而可以形成图案化的发光层。在沉积工艺之后，掩模可能包含异物质。可以通过使用清洗装置来去除掩模中的异物质。


技术实现要素：

6.本公开提供了通过使用电永磁体而具有改善的清洗效果的清洗装置。
7.本公开还提供了通过使用电永磁体而具有改善的清洗效果的清洗方法。
8.本发明构思的实施方式提供了清洗装置，包括：腔室；多个收集单元，设置在腔室的内部；以及电力供应单元，被配置成控制多个收集单元的磁力，其中，多个收集单元中的每个可以包括多个电永磁体，当从电力供应单元暂时施加电压时，从多个电永磁体去除吸附待清洗对象的性质。
9.在实施方式中，多个收集单元中的每个还可以包括被配置成覆盖多个电永磁体的覆盖单元。
10.在实施方式中，覆盖单元可以包括第一面和面对第一面的第二面，其中，多个电永磁体可以包括布置成与第一面接触的第一电永磁体。
11.在实施方式中，覆盖单元可以包括第一面和面对第一面的第二面，其中，多个电永磁体可以包括布置成与第一面接触的第一电永磁体和布置成与第二面接触的第二电永磁体。
12.在实施方式中，清洗装置还可以包括：超声波发生器，设置在腔室的底表面上。
13.在实施方式中，多个电永磁体中的每个可以包括钕磁体。
14.在实施方式中，清洗装置还可以包括：泵，连接到腔室并且被配置成生成从腔室的下部分向腔室的上部分流动的流体流。
15.在实施方式中，多个收集单元可以包括多个前收集单元和多个后收集单元，多个前收集单元和多个后收集单元在其间具有空间的情况下彼此间隔开，待清洗对象设置在所
述空间中。
16.在实施方式中，多个前收集单元中的每个可以在第一方向上延伸，以及多个前收集单元可以在与第一方向交叉的第二方向上彼此间隔开。
17.在实施方式中，多个后收集单元中的每个可以在第二方向上延伸，以及多个后收集单元可以在第一方向上彼此间隔开。
18.在实施方式中，当从与第一方向和第二方向交叉的第三方向观察时，多个前收集单元和多个后收集单元可以彼此交叉。
19.在实施方式中，多个后收集单元中的每个可以在第一方向上延伸，以及多个后收集单元可以在第二方向上彼此间隔开。
20.在实施方式中，多个前收集单元可以在远离腔室的底表面的第一方向上布置，多个前收集单元可以在与第一方向交叉的第二方向上延伸，多个后收集单元可以在第一方向上布置，以及多个后收集单元可以在第二方向上延伸。
21.在实施方式中，前收集单元和后收集单元可以在预定方向上彼此间隔开，以及当从预定方向观察时，多个前收集单元中的至少一些可以与多个后收集单元中的至少一些重叠。
22.在实施方式中，清洗装置还可以包括：传送单元，被配置成将待清洗对象传送到腔室的内部。
23.在本发明构思的实施方式中，清洗方法可以包括：将待清洗对象设置在填充有清洗溶液的腔室中；通过使用设置在腔室的内部并且包括多个电永磁体的收集单元来收集附着到待清洗对象的微粒；将待清洗对象传送到腔室的外部；以及向多个电永磁体暂时施加电压以去除吸附待清洗对象的性质。
24.在实施方式中，收集微粒可以包括：向多个电永磁体中的一些第一子电永磁体暂时提供电压，以去除吸附待清洗对象的性质；以及通过使用多个电永磁体之中的其余的第二子电永磁体收集微粒。
25.在实施方式中，清洗方法还可以包括：去除由收集单元收集的微粒。
26.在实施方式中，收集单元还可以包括被配置成覆盖多个电永磁体的覆盖单元。
27.在实施方式中，收集单元可以设置成多个，多个收集单元可以包括多个前收集单元和多个后收集单元，多个前收集单元和多个后收集单元可以在待清洗对象插置于其间的情况下彼此间隔开，以及附着到待清洗对象的微粒可以由设置在待清洗对象的两侧上的多个收集单元收集。
附图说明
28.附图被包括以提供对本发明构思的进一步理解，并且被并入本说明书中并构成本说明书的一部分。附图示出了本发明构思的实施方式，并且与说明书一起用来解释本发明构思的原理。在附图中：
29.图1a是根据本发明构思的实施方式的清洗装置和待清洗对象的立体图；
30.图1b是根据本发明构思的实施方式的清洗装置和待清洗对象的立体图；
31.图1c是根据本发明构思的实施方式的清洗装置和待清洗对象的立体图；
32.图2是根据本发明构思的实施方式的待清洗对象的立体图；
33.图3是根据本发明构思的实施方式的收集单元的立体图；
34.图4是根据本发明构思的实施方式的收集单元的立体图；
35.图5是根据本发明构思的实施方式的清洗方法的流程图；
36.图6a至图6c是示出根据本发明构思的实施方式的清洗方法的一些步骤的立体图；以及
37.图7是沿着图4的线i-i'截取的剖视图。
具体实施方式
38.在本说明书中，将理解，当元件(或区域、层、部分等)被称为“在”另一元件“上”、“连接到”或“联接到”另一元件时，它可以直接在另一元件上、直接连接到或直接联接到另一元件，或者在它们之间可以存在居间的元件。
39.相同的附图标记始终指代相同的元件。此外，在附图中，为了技术内容的有效描述，夸大了元件的厚度、比例和大小。如本文中所使用的，术语“和/或”包括相关联的元件可以限定的任何和所有组合。
40.将理解，尽管在本文中可以使用术语“第一”、“第二”等来描述各种元件，但是这些元件不应被这些术语限制。这些术语仅用于将一个元件与另一元件区分开。例如，在不背离本发明的范围的情况下，第一元件可以被称作第二元件。类似地，第二元件也可以被称为第一元件。除非另外指定，否则单数形式的术语包括复数形式。
41.为了便于描述，本文中使用了诸如“下方”、“下部”、“上方”、“上部”等术语来描述如图中所示的一个元件与另一(些)元件的关系。以上术语是相对概念，并且是基于附图中指示的方向来描述的。
42.将理解，术语“包括”和/或“具有”，当在本说明书中使用时，指定所阐述的特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或其组的存在，但不排除一个或更多个其它特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或其组的存在或添加。
43.术语“部分”或“单元”意指执行特定功能的软件组件或硬件组件。硬件组件可以包括例如现场可编程门阵列(fpga)或专用集成电路(asic)。软件组件可以指代可寻址存储介质中的可执行代码和/或由可执行代码使用的数据。因此，软件组件可以是例如面对对象的软件组件、类组件和任务组件，并且包括进程、函数、属性、过程、子例程，程序代码段、驱动器、固件、微代码、电路、数据、数据库、数据结构、表格、排列或变量。
44.除非另有定义，否则本文中使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本发明所属领域中的普通技术人员通常理解的含义相同的含义。还将理解，术语，诸如在常用字典中定义的术语，应被解释为具有与它们在相关领域的上下文中的含义一致的含义，并且除非在本文中明确地如此定义，否则将不会被解释为理想的或过于形式化的含义。
45.在下文中，将参考附图描述本发明构思的实施方式。
46.图1a是根据本发明构思的实施方式的清洗装置ce和待清洗对象co的立体图。
47.参考图1a，清洗装置ce可以去除待清洗对象co内部的异物质。清洗装置ce可以包括腔室chb、传送单元cu、多个收集单元sp、电力供应单元pu、超声波发生器uwu和泵pp。
48.腔室chb可以通过将待清洗对象co设置在腔室chb内部来提供用于清洗待清洗对象co的预定空间。腔室chb可以填充有清洗溶液cs。腔室chb可以包括底表面b-chb和围绕底
表面b-chb并限定内部空间的侧壁。腔室chb可以具有限定在其中的上开口op-u。上开口op-u可以限定在与底表面b-chb相对的面上。上开口op-u可以提供待清洗对象co可以从腔室chb的外部通过其进入到腔室chb的内部的通道。
49.传送单元cu可以将待清洗对象co从腔室chb的外部移动到腔室chb的内部或者从腔室chb的内部移动到腔室chb的外部。详细地说，传送单元cu可以在平行于第一方向dr1的方向上移动，从而在平行于第一方向dr1的方向上移动待清洗对象co。
50.多个收集单元sp可以设置在腔室chb内部。多个收集单元sp中的每个可以包括多个电永磁体ye(参考图4)。多个收集单元sp可以包括多个前收集单元fsp和多个后收集单元bsp。多个前收集单元fsp和多个后收集单元bsp可以在预定方向上彼此间隔开。预定方向可以是与由待清洗物体co限定的平面交叉的方向。例如，由待清洗物体co限定的平面可以平行于第一方向dr1和第三方向dr3，并且预定方向可以是第二方向dr2。多个前收集单元fsp和多个后收集单元bsp可以在其间具有空间的情况下彼此间隔开，待清洗对象co设置在所述空间中。
51.多个前收集单元fsp可以是在面向待清洗对象co的方向上设置的收集单元fsp。多个前收集单元fsp中的每个可以在第一方向dr1上延伸并且在第三方向dr3上彼此间隔开。多个前收集单元fsp可以包括第一前收集单元fsp1、第二前收集单元fsp2和第三前收集单元fsp3。
52.多个后收集单元bsp可以是在与其中待清洗对象co被看到的方向相反的方向上设置的收集单元bsp。多个后收集单元bsp中的每个可以在第三方向dr3上延伸并且在第一方向dr1上彼此间隔开。多个后收集单元bsp可以包括第一后收集单元bsp1和第二后收集单元bsp2。
53.当从与第一方向dr1和第三方向dr3交叉的第二方向dr2观察时，多个前收集单元fsp和多个后收集单元bsp可以彼此交叉。
54.多个前收集单元fsp中的每个可以具有矩形平行六面体形状。多个前收集单元fsp中的每个可以在第一方向dr1上具有约1500mm的长度，在第二方向dr2上具有约150mm的长度，以及在第三方向dr3上具有约150mm的长度，但是本发明构思的实施方式不特别限于此。多个后收集单元bsp中的每个可以具有矩形平行六面体形状。多个后收集单元bsp中的每个可以在第一方向dr1上具有约200mm的长度，在第二方向dr2上具有约200mm的长度，以及在第三方向dr3上具有约1000mm的长度，但是本发明构思的实施方式不特别限于此。这些仅仅是示例，并且可以根据显示模块中的使用待清洗对象co的玻璃衬底的尺寸而变化。
55.图1a示例性地示出了三个前收集单元fsp和两个后收集单元bsp，但是多个前收集单元fsp和多个后收集单元bsp的数量可以根据待清洗对象co的尺寸和形状而变化。例如，当待清洗对象co的尺寸增加时，多个收集单元sp的总数量可以增加。此外，当待清洗对象co具有在第一方向dr1上的长度大于在第三方向dr3上的长度的矩形形状时，多个后收集单元bsp的数量可以大于多个前收集单元fsp的数量。
56.电力供应单元pu可以连接到多个收集单元sp中的每个。电力供应单元pu可以被配置成通过使用多个收集单元sp的磁力来控制吸附待清洗对象co的性质。泵pp可以连接到腔室chb，并且泵pp可以生成从腔室chb的下部分向腔室chb的上部分流动的流体流fw(参考图6a)。
57.超声波发生器uwu可以设置在腔室chb的底表面b-chb上。超声波发生器uwu可以用超声波照射腔室chb的内部，使得待清洗对象co中的异物质可以从待清洗对象co分离。详细地说，超声波发生器uwu可以用超声波照射清洗溶液cs的内部，从而反复地生成降低的压力和增加的压力。由于超声波的空化现象，生成细小的气泡，且细小的气泡可以去除附着到待清洗对象co的异物质。
58.尽管在图1a中未示出，但是清洗装置ce还可以包括入口管道。当腔室chb的清洗溶液cs溢出时，入口管道(未示出)可以允许溢出的清洗溶液cs重新进入到腔室chb中。入口管道(未示出)可以从腔室chb连接到腔室chb。例如，入口管道(未示出)可以从腔室chb的上开口op-u连接到腔室chb的底表面b-chb。
59.清洗装置ce还可以包括管道过滤器(未示出)和管道泵(未示出)。管道过滤器(未示出)和管道泵(未示出)可以设置在入口管道(未示出)上。管道过滤器(未示出)可以过滤出从腔室chb溢出的清洗溶液cs中的异物质。管道泵(未示出)可以有助于上拉入口管道(未示出)中的清洗溶液cs，使得清洗溶液cs可以重新进入到腔室chb中。
60.图1b是根据本发明构思的实施方式的清洗装置ce-1和待清洗对象co的立体图。图1c是根据本发明构思的实施方式的清洗装置ce-2和待清洗对象co的立体图。
61.图1b和图1c示出了显示图1b和图1c中的多个收集单元sp中的一些的形状与图1a的配置不同的实施方式。在图1b和图1c的描述中，将仅描述与图1a的不同之处，并且相同的附图标记将用于相同的组件，并且将省略对其的描述。
62.参考图1b，清洗装置ce-1可以包括腔室chb、传送单元cu、多个收集单元spa、电力供应单元pu、超声波发生器uwu和泵pp。
63.多个收集单元spa可以设置在腔室chb内部。多个收集单元spa中的每个可以包括多个电永磁体ye(参考图4)。多个收集单元spa可以包括多个前收集单元fsp和多个后收集单元bspa。多个前收集单元fsp和多个后收集单元bspa可以在预定方向上彼此间隔开。预定方向可以是与由待清洗物体co限定的平面交叉的方向。例如，由待清洗物体co限定的平面可以平行于第一方向dr1和第三方向dr3，并且预定方向可以是第二方向dr2。多个前收集单元fsp和多个后收集单元bspa可以在其间具有空间的情况下彼此间隔开，待清洗对象co设置在所述空间中。
64.多个前收集单元fsp可以是在面向待清洗对象co的方向上设置的收集单元fsp。多个前收集单元fsp中的每个可以在第一方向dr1上延伸并且在第三方向dr3上彼此间隔开。多个前收集单元fsp可以包括第一前收集单元fsp1、第二前收集单元fsp2和第三前收集单元fsp3。
65.多个后收集单元bspa可以是在与其中待清洗对象co被看到的方向相反的方向上设置的收集单元bspa。多个后收集单元bspa中的每个可以在第一方向dr1上延伸并且在第三方向dr3上彼此间隔开。多个后收集单元bspa可以包括第一后收集单元bsp1a和第二后收集单元bsp2a。
66.当在与第一方向dr1和第三方向dr3交叉的第二方向dr2上观察时，多个前收集单元fsp中的至少一些可以与多个后收集单元bspa中的至少一些重叠。例如，第一前收集单元fsp1可以与第二后收集单元bsp2a重叠，并且第三前收集单元fsp3可以与第一后收集单元bsp1a重叠。
67.参考图1c，清洗装置ce-2可以包括腔室chb、传送单元cu、多个收集单元spb、电力供应单元pu、超声波发生器uwu和泵pp。
68.多个收集单元spb可以设置在腔室chb内部。多个收集单元spb中的每个可以包括多个电永磁体ye(参考图4)。多个收集单元spb可以包括多个前收集单元fspa和多个后收集单元bsp。多个前收集单元fspa和多个后收集单元bsp可以在预定方向上彼此间隔开。预定方向可以是与由待清洗物体co限定的平面交叉的方向。例如，由待清洗物体co限定的平面可以平行于第一方向dr1和第三方向dr3，并且预定方向可以是第二方向dr2。多个前收集单元fspa和多个后收集单元bsp可以在其间具有空间的情况下彼此间隔开，待清洗对象co设置在所述空间中。
69.多个前收集单元fspa可以是在面向待清洗对象co的方向上设置的收集单元fspa。多个前收集单元fspa中的每个可以在第三方向dr3上延伸并且在第一方向dr1上彼此间隔开。第一方向dr1可以是远离腔室chb的底表面b-chb的方向。多个前收集单元fspa可以包括第一前收集单元fsp1a、第二前收集单元fsp2a和第三前收集单元fsp3a。
70.多个后收集单元bsp可以是在与其中待清洗对象co被看到的方向相反的方向上设置的收集单元bsp。多个后收集单元bsp中的每个可以在第三方向dr3上延伸并且在第一方向dr1上彼此间隔开。也就是说，多个后收集单元bsp可以具有与多个前收集单元fspa相同的形状。多个后收集单元bsp可以包括第一后收集单元bsp1和第二后收集单元bsp2。
71.当在与第一方向dr1和第三方向dr3交叉的第二方向dr2上观察时，多个前收集单元fspa中的至少一些可以与多个后收集单元bsp中的至少一些重叠。例如，第一前收集单元fsp1a可以与第一后收集单元bsp1重叠，并且第三前收集单元fsp3a可以与第二后收集单元bsp2重叠。
72.图2是根据本发明构思的实施方式的待清洗对象co的立体图。
73.参考图2，待清洗对象co可以是掩模组件。在下文中，待清洗对象co将被描述为掩模组件co。掩模组件co可以包括框架fr和掩模mk。在本实施方式中，掩模组件co可以通过根据本发明构思的清洗装置ce(参考图1a)清洗。
74.框架fr可以设置在掩模mk下方以支承掩模mk。根据本发明构思的实施方式，框架fr可以包括在第一方向dr1和第三方向dr3上延伸并且彼此连接的杆。杆可以彼此连续从而限定框架开口op-f。然而，框架fr的形状不受特别限制，并且只要形状能够支承掩模mk，任何形状都是足够的。框架fr可以由金属材料构成。框架fr可以包含例如不锈钢(sus)、因瓦合金、镍(ni)、镍-钴合金、镍-铁合金等。
75.掩模mk可以设置在框架fr上。掩模mk中的每个可以在第三方向dr3上延伸。也就是说，在平面上，掩模mk中的每个可以具有在第三方向dr3上延伸的长边和在第一方向dr1上延伸的短边。掩模mk可以设置成在第一方向dr1上彼此间隔开。
76.掩模mk中的每个可以包括沉积区域ea和周边区域sa。沉积区域ea可以在掩模mk中的每个的延伸方向上(即，在第三方向dr3上)布置。周边区域sa可以是围绕沉积区域ea的区域。
77.沉积区域ea中的每个可以具有限定在其中的沉积开口op-e。沉积开口op-e可以设置成与框架开口op-f重叠。因此，在沉积工艺期间从沉积源射入的沉积材料可以在不受框架开口op-f的干扰的情况下被提供到沉积开口op-e，并且沉积材料可以沉积在工作衬底
上，从而形成与沉积开口op-e对应的沉积图案。
78.掩模mk可以由金属材料构成。根据本发明构思的实施方式，掩模mk可以包含不锈钢(sus)、因瓦合金、镍(ni)、钴(co)、镍合金或镍-钴合金中的至少一种。
79.图3是根据本发明构思的实施方式的收集单元sp的立体图。图3中示出的收集单元sp可以是图1a至图1c中示出的多个前收集单元fsp或fspa或者多个后收集单元bsp或bspa中的一个。
80.参考图3，每个收集单元sp可以包括多个电永磁体ye1和覆盖单元cv。多个电永磁体ye1中的每个可以包括钕磁体和线圈。例如，线圈可以围绕钕磁体。
81.多个电永磁体ye1中的每个可以电连接到电力供应单元pu。当向多个电永磁体ye1中的每个暂时施加电压时，由于优先形成磁路的性质，磁路可以改变。因此，当从电力供应单元pu暂时施加电压时，可以通过使用多个电永磁体ye1的磁力来去除吸附待清洗对象co(参考图1a)的性质。此外，当再次从电力供应单元pu暂时施加电压时，可以通过使用多个电永磁体ye1的磁力来生成吸附待清洗对象co的性质。根据本发明构思，通过使用当暂时施加电压时利用磁力来去除吸附待清洗对象co的性质的电永磁体，尽管不连续地供应电压，但是连续地生成磁力。因此，减少了电力消耗，并且也可以降低触电的风险。
82.覆盖单元cv可以包括第一面s1和第二面s2。第一面s1可以是最靠近待清洗对象co的面，并且第二面s2可以是面对第一面s1的面。多个电永磁体ye1可以布置成与覆盖单元cv的第一面s1的内侧接触。布置成与覆盖单元cv的第一面s1接触的多个电永磁体ye1可以被定义为第一电永磁体ye1。
83.第一电永磁体ye1中的每个可以沿着第三方向dr3延伸，并且第一电永磁体ye1可以布置成在第一方向dr1上彼此间隔开。详细地说，第一电永磁体ye1可以布置成在第一方向dr1上彼此间隔开第一距离d1。第一距离d1可以是约5mm或更小。通过将第一电永磁体ye1之间的距离保持在约5mm或更小，可以获得高磁力并且可以收集许多异物质。
84.图3示例性地示出了四个第一电永磁体ye1，但是第一电永磁体ye1的数量可以根据多个收集单元sp的尺寸而变化。此外，图3中的第一电永磁体ye1的宽度、长度和形状也是作为示例示出的，但是本发明构思的实施方式不限于此。
85.覆盖单元cv可以覆盖第一电永磁体ye1。覆盖单元cv可以提供其中可以设置多个电永磁体ye1的预定空间，并且覆盖单元cv可以是密封的，从而防止清洗溶液cs(参考图1a)从覆盖单元cv的外部流入。覆盖单元cv可以用作防水构件，使得多个电永磁体ye1和清洗溶液cs不彼此接触。覆盖单元cv可以包含不锈钢(sus)等。
86.图4是根据本发明构思的实施方式的收集单元sp-1的立体图。
87.图4中示出的收集单元sp-1可以是图1a至图1c中示出的多个前收集单元fsp或fspa或者多个后收集单元bsp或bspa中的一个。
88.参考图4，当与图3中示出的收集单元sp相比时，收集单元sp-1还可以包括第二电永磁体ye2。在图4的描述中，将仅描述与图3的不同之处，并且相同的附图标记将用于相同的组件，并且将省略对其的描述。
89.参考图4，收集单元sp-1可以包括多个电永磁体ye和覆盖单元cv。多个电永磁体ye中的每个可以包括钕磁体。多个电永磁体ye可以电连接到电力供应单元pu。
90.覆盖单元cv可以包括第一面s1和第二面s2。第一面s1可以是最靠近待清洗对象co
的面，并且第二面s2可以是面对第一面s1的面。多个电永磁体ye可以包括布置成与覆盖单元cv的第一面s1接触的第一电永磁体ye1和布置成与覆盖单元cv的第二面s2接触的第二电永磁体ye2。覆盖单元cv可以覆盖第一电永磁体ye1和第二电永磁体ye2。
91.第一电永磁体ye1中的每个可以在第三方向dr3上延伸，并且第一电永磁体ye1可以布置成在第一方向dr1上彼此间隔开。第二电永磁体ye2中的每个可以在第三方向dr3上延伸，并且第二电永磁体ye2可以布置成在第一方向dr1上彼此间隔开。详细地说，第一电永磁体ye1和第二电永磁体ye2中的每一者可以布置成在第一方向dr1上彼此间隔开第一距离d1。第一距离d1可以是约5mm或更小。通过将第一电永磁体ye1之间的距离以及第二电永磁体ye2之间的距离分别保持为约5mm或更小，可以获得高磁力并且可以收集许多异物质。第一电永磁体ye1和第二电永磁体ye2可以布置成在第二方向dr2上彼此间隔开。
92.图5是根据本发明构思的实施方式的清洗方法的流程图。图6a至图6c是示出根据本发明构思的实施方式的清洗方法的一些步骤的立体图。
93.参考图1a、图5和图6a，可以将待清洗对象co设置在填充有清洗溶液cs的腔室chb中(s100)。在待清洗对象co联接到清洗装置ce的传送单元cu之后，传送单元cu可以在与第一方向dr1相反的方向上移动。当待清洗对象co设置在腔室chb中时，传送单元cu可以解除与待清洗对象co的联接，并将待清洗对象co固定在腔室chb中。其中待清洗对象co固定在腔室chb中的位置可以是多个前收集单元fsp与多个后收集单元bsp之间的空间。多个微粒ptc可能已经附着到待清洗对象co。
94.参考图1a和图5至图6b，可以通过使用收集单元sp从待清洗对象co收集微粒ptc(s200)。收集单元sp可以设置在腔室chb内部并且包括多个电永磁体ye(参见图4)。收集单元sp可以设置成多个，且多个收集单元sp可以包括多个前收集单元fsp和多个后收集单元bsp。多个前收集单元fsp和多个后收集单元bsp可以在待清洗对象co插置于其间的情况下彼此间隔开。附着到待清洗对象co的微粒ptc可以通过设置在待清洗对象co的两侧上的多个收集单元sp收集。
95.多个电永磁体ye可以设置在多个收集单元sp的一个面或两个面上。多个电永磁体ye中的每个可以包括钕磁体。
96.多个电永磁体ye可以电连接到电力供应单元pu。可以向多个电永磁体ye暂时施加电压，从而通过磁力生成吸附待清洗对象co的性质，并且可以通过使用磁力来收集待清洗对象co(参考图1a)中的微粒ptc。微粒ptc可以附着到其中设置有多个电永磁体ye的多个收集单元sp的外表面。详细地说，微粒ptc可以通过附接到与待清洗对象co相邻的面的多个电永磁体ye的磁力而被收集在与待清洗对象co相邻的面上。此外，附接到与相邻于待清洗对象co的面相对的面的多个电永磁体ye可以收集漂浮在清洗溶液cs中的微粒ptc。
97.可以操作清洗装置ce的泵pp从而在腔室chb中生成流体流fw。流体可以从腔室chb的下部分流动到腔室chb的上部分。由于由泵pp生成的流体流fw，存在于清洗溶液cs中的微粒ptc可以不固定在特定位置处，并且因此，多个收集单元sp可以容易地收集微粒ptc。此外，由于微粒ptc在清洗工艺期间在搭乘流体流fw的同时移动，因此可以防止微粒ptc重新附着到框架fr(参考图2)和掩模mk(参考图2)。
98.可以操作清洗装置ce的超声波发生器uwu从而在腔室chb中生成超声波。超声波发生器uwu可以用超声波照射腔室chb，使得待清洗对象co中的异物质从待清洗对象co分离。
详细地说，超声波发生器uwu可以用超声波照射清洗溶液cs的内部，从而反复地生成降低的压力和增加的压力。由于超声波的空化现象，生成细小的气泡，且细小的气泡可以去除附着到待清洗对象co的异物质。
99.尽管在图6b中未示出，但是传送单元cu可以将待清洗对象co移动到腔室chb的外部(s300)。详细地说，传送单元cu可以联接到待清洗对象co，并从腔室chb分离待清洗对象co。随着传送单元cu在第一方向dr1上移动，待清洗对象co也在第一方向dr1上移动。因此，传送单元cu可以将待清洗对象co移动到腔室chb的外部。
100.参考图1a、图5和图6c，可以通过向多个电永磁体ye暂时施加电压来去除吸附待清洗对象co的性质(s400)。由于接收暂时从电力供应单元pu施加的电压的多个电永磁体ye处于吸附待清洗对象co的性质被去除的状态，因此待清洗对象co中的异物质可以不被收集。此外，当清洗装置ce的泵pp关闭时，可以不生成流体流fw(参考图6a)。结果，由多个收集单元sp收集的微粒ptc可以沉降在腔室chb的底表面b-chb上。
101.可以去除由收集单元sp收集的微粒ptc(s500)。可以手动或自动去除已经沉降在腔室chb的底表面b-chb上的微粒ptc。例如，可以由人或由被配置成去除清洗装置ce中的微粒ptc的元件去除微粒ptc。此外，当清洗溶液cs被多个微粒ptc污染时，可以更换清洗溶液cs。
102.参考图5至图6c，可以将包括多个电永磁体ye(参考图4)和围绕多个电永磁体ye的覆盖单元cv(参考图4)的多个收集单元sp设置在腔室chb内部，并且可以在不移动多个电永磁体ye的情况下执行清洗工艺。通过省略被配置成移动多个电永磁体ye的元件，可以简化清洗工艺。
103.当向多个电永磁体ye暂时施加电压时，通过使用磁力来吸附待清洗对象co的性质被去除，且当再次向多个电永磁体ye暂时施加电压时，通过使用磁力来吸附待清洗对象co的性质生成。因此，可以降低或消除触电的风险，并且可以不连续地使用电。因此，使用多个电永磁体ye的清洗工艺可以增加稳定性并且减少电消耗。
104.当使用多个电永磁体ye清洗待清洗对象co时，不需要使用被配置成去除附着到待清洗对象co的微粒ptc的附加元件，例如，具有与待清洗对象co对应的形状的夹具(例如，磁体夹具)。此外，由于可以通过使用多个电永磁体ye来省略磁体夹具，因此可以不需要制造或管理磁体夹具的附加成本。此外，可以半永久性地使用多个电永磁体ye，并且与使用夹具的情况相比，可以减少对定期维护的需求。此外，使用多个电永磁体ye的清洗工艺可以去除更多的微粒ptc。因此，可以提高清洗工艺的效率。
105.由于微粒ptc在穿过连接到腔室chb的入口管道和管道过滤器(未示出)之前由多个收集单元sp收集，因此可以减少或消除管道过滤器(未示出)的堵塞现象。因此，可以提高清洗工艺的效率，并且可以减少用于更换管道过滤器(未示出)的成本和时间。
106.图7是沿着图4的线i-i'截取的剖视图。
107.参考图7，通过仅向多个电永磁体ye中的一些暂时施加电压，可以去除吸附待清洗对象co(参考图1a)的性质。第一电永磁体ye1可以包括第一子电永磁体yes1a和第二子电永磁体yes2a。第二电永磁体ye2可以包括第一子电永磁体yes1b和第二子电永磁体yes2b。
108.第一子电永磁体yes1a和yes1b可以是通过接收暂时提供的电压而被去除吸附待清洗对象co的性质的电永磁体，且第二子电永磁体yes2a和yes2b可以是具有吸附待清洗对
象co的性质的电永磁体。微粒ptc可以通过使用多个电永磁体ye之中的第二子电永磁体yes2a和yes2b来收集。微粒ptc可以附着到收集单元sp-1(参考图4)的与第二子电永磁体yes2a和yes2b重叠的外表面。通过选择性地在收集单元sp-1中的多个电永磁体ye之中暂时施加电压，可以去除吸附待清洗对象co(参考图1a)的性质，并且通过仅在需要的部分中保持吸附待清洗对象co的性质，可以在需要的部分中收集微粒ptc。在图7中，具有通过暂时提供电压来吸附待清洗对象co的性质的多个第二子电永磁体yes2a和yes2b由阴影线表示，使得它们与不具有吸附待清洗对象co的性质的多个第一子电永磁体yes1a和yes1b区分开。
109.图7示出了四个第一电永磁体ye1和四个第二电永磁体ye2，并且电压分别交替施加到其的四个第一子电永磁体yes1a和yes1b是作为示例示出的，但是本发明构思的实施方式不限于此。例如，第一电永磁体ye1的数量和第二电永磁体ye2的数量可以彼此不同，并且第一电永磁体ye1和第二电永磁体ye2的数量可以小于或大于4。
110.根据上述描述，包括多个电永磁体的多个收集单元和围绕多个电永磁体的覆盖单元可以设置在腔室内部，并且可以在不移动多个电永磁体的情况下执行清洗工艺。通过省略被配置成移动多个电永磁体的元件，可以简化清洗工艺。
111.当向多个电永磁体暂时施加电压时，通过使用磁力来吸附待清洗对象的性质被去除，且当再次向多个电永磁体暂时施加电压时，通过使用磁力来吸附待清洗对象的性质生成。因此，可以降低或消除触电的风险，并且可以不连续地使用电。因此，使用多个电永磁体的清洗工艺可以增加稳定性并且减少电消耗。
112.当使用多个电永磁体清洗待清洗对象时，不需要使用被配置成去除附着到待清洗对象的微粒的附加元件，例如，具有与待清洗对象对应的形状的夹具(例如，磁体夹具)。此外，由于使用了多个电永磁体，因此可以省略磁体夹具，并且因此可以不需要制造或管理磁体夹具的附加成本。此外，可以半永久性地使用多个电永磁体，并且与使用夹具的情况相比，可以减少对定期维护的需求。此外，使用多个电永磁体的清洗工艺可以去除更多的微粒。因此，可以提高清洗工艺的效率。
113.由于微粒在穿过连接到腔室的入口管道和管道过滤器之前由多个收集单元收集，因此可以减少或消除管道过滤器的堵塞现象。因此，可以提高清洗工艺的效率，并且可以减少更换管道过滤器的成本和时间。
114.尽管已经参考本发明构思的优选的实施方式描述了上述内容，但是本领域技术人员或本领域的普通技术人员将理解，在不背离权利要求中所描述的本发明构思的精神和技术领域的范围内，可以对本发明构思做出各种修改和改变。因此，本发明构思的技术范围不应限于说明书的详细描述中所描述的内容，而应权利要求确定。

技术特征：
1.一种清洗装置，包括：腔室；多个收集单元，设置在所述腔室的内部；以及电力供应单元，被配置成控制所述多个收集单元的磁力，其中，所述多个收集单元中的每个包括多个电永磁体，当从所述电力供应单元暂时施加电压时，从所述多个电永磁体去除吸附待清洗对象的性质。2.根据权利要求1所述的清洗装置，其中，所述多个收集单元中的每个还包括被配置成覆盖所述多个电永磁体的覆盖单元。3.根据权利要求2所述的清洗装置，其中：所述覆盖单元包括第一面和面对所述第一面的第二面；以及所述多个电永磁体包括布置成与所述第一面接触的第一电永磁体。4.根据权利要求2所述的清洗装置，其中：所述覆盖单元包括第一面和面对所述第一面的第二面；以及所述多个电永磁体包括布置成与所述第一面接触的第一电永磁体和布置成与所述第二面接触的第二电永磁体。5.根据权利要求1所述的清洗装置，还包括：超声波发生器，设置在所述腔室的底表面上。6.根据权利要求1所述的清洗装置，其中，所述多个电永磁体中的每个包括钕磁体。7.根据权利要求1所述的清洗装置，还包括：泵，连接到所述腔室并且被配置成生成从所述腔室的下部分向所述腔室的上部分流动的流体流。8.根据权利要求1所述的清洗装置，其中，所述多个收集单元包括多个前收集单元和多个后收集单元，所述多个前收集单元和所述多个后收集单元在其间具有空间的情况下彼此间隔开，所述待清洗对象设置在所述空间中。9.根据权利要求8所述的清洗装置，其中：所述多个前收集单元中的每个在第一方向上延伸；以及所述多个前收集单元在与所述第一方向交叉的第二方向上彼此间隔开。10.根据权利要求9所述的清洗装置，其中：所述多个后收集单元中的每个在所述第二方向上延伸；以及所述多个后收集单元在所述第一方向上彼此间隔开。11.根据权利要求10所述的清洗装置，其中，当从与所述第一方向和所述第二方向交叉的第三方向观察时，所述多个前收集单元和所述多个后收集单元彼此交叉。12.根据权利要求9所述的清洗装置，其中：所述多个后收集单元中的每个在所述第一方向上延伸；以及所述多个后收集单元在所述第二方向上彼此间隔开。13.根据权利要求8所述的清洗装置，其中：所述多个前收集单元在远离所述腔室的底表面的第一方向上布置；所述多个前收集单元在与所述第一方向交叉的第二方向上延伸；所述多个后收集单元在所述第一方向上布置；以及
所述多个后收集单元在所述第二方向上延伸。14.根据权利要求8所述的清洗装置，其中：所述前收集单元和所述后收集单元在预定方向上彼此间隔开；以及当从所述预定方向观察时，所述多个前收集单元中的至少一些与所述多个后收集单元中的至少一些重叠。15.根据权利要求1所述的清洗装置，还包括：传送单元，被配置成将所述待清洗对象传送到所述腔室的内部。16.一种清洗方法，包括：将待清洗对象设置在填充有清洗溶液的腔室中；通过使用设置在所述腔室的内部并且包括多个电永磁体的收集单元来收集附着到所述待清洗对象的微粒；将所述待清洗对象传送到所述腔室的外部；以及向所述多个电永磁体暂时施加电压以去除吸附所述待清洗对象的性质。17.根据权利要求16所述的清洗方法，其中，收集所述微粒包括：向所述多个电永磁体之中的一些第一子电永磁体暂时提供电压，以去除吸附所述待清洗对象的所述性质；以及通过使用所述多个电永磁体之中的其余的第二子电永磁体收集所述微粒。18.根据权利要求16所述的清洗方法，还包括：去除由所述收集单元收集的所述微粒。19.根据权利要求16所述的清洗方法，其中，所述收集单元还包括被配置成覆盖所述多个电永磁体的覆盖单元。20.根据权利要求16所述的清洗方法，其中：所述收集单元设置成多个；多个所述收集单元包括多个前收集单元和多个后收集单元；所述多个前收集单元和所述多个后收集单元在所述待清洗对象插置于其间的情况下彼此间隔开；以及附着到所述待清洗对象的所述微粒由设置在所述待清洗对象的两侧上的多个所述收集单元收集。

技术总结
本发明提供了清洗装置，包括：腔室；多个收集单元，设置在腔室内部；以及电力供应单元，被配置成控制多个收集单元的磁力，其中，多个收集单元中的每个可以包括多个电永磁体，当从电力供应单元施加电压时，磁力从多个电永磁体被去除。去除。去除。


技术研发人员：金栽豊 李在训 姜爀 安昶昱 林汉杰 崔炳珍
受保护的技术使用者：三星显示有限公司
技术研发日：2023.04.04
技术公布日：2023/10/19