一种增加金属镀层在硅基材上附着力设备及其方法与流程

1.本发明涉及抛光设备技术领域，具体为一种增加金属镀层在硅基材上附着力设备及其方法。


背景技术：

2.硅基材是以硅材料为基础发展起来的新型材料，包括绝缘层上的硅材料、锗硅材料、多孔硅、微晶硅以及以硅为基底异质外延其他化合物半导体材料等，在对硅基材进行生产时，需要对其表面增加金属镀层，而硅基材进行镀膜前需要进行清洁，将其表面的杂质吸附物清除掉，进而在对硅基材金属镀层时可以增加金属镀层与硅基材的附着力，增加金属镀层在硅基材上附着力设备，既是一种对硅基材进行抛光洁净的设备，在对硅基材表面进行处理后，后期进行金属镀层时可以提高硅基材与金属镀层的附着力，现有的增加金属镀层在硅基材上附着力设备在对硅基材进行打磨抛光时，不便于快速的对不同尺寸的硅基材进行限位夹持。
3.现有的增加金属镀层在硅基材上附着力设备存在的缺陷是：
4.1、专利文件cn110421477a公开了应用于五金加工的镀层抛光装置，“包括抛光装置本体，抛光装置本体上端固定连接有工作架，工作架右端连接有圆管夹具，抛光装置本体上端滑动连接有安装座，安装座位于工作架的右侧，可以通过设置内层软性磨粒球实现对圆管工件内壁的精密加工，保护圆管工件内壁不易受到磨损，减少磨痕的产生，且涂料标记层的设置使得工作人员能够简单直观地观察到内层软性磨粒球表面是否有磨损，进而能够及时更换相应的内层软性磨粒球，不易影响抛光进程，同时多个相互嵌套的二级抛光件的设置，使得本装置能够适用于多种大小的圆管工件，提高了操作的便捷性”，然而上述公开文献的应用于五金加工的镀层抛光装置，主要考虑能够及时更换相应的内层软性磨粒球，不易影响抛光进程，没有考虑到快速对不同尺寸工件进行夹持的问题，因此，有必要研究出一种可以使增加金属镀层在硅基材上附着力设备快速对不同尺寸工件进行快速夹持的结构，进而能够提高工作效率；
5.2、专利文件cn112536704a公开了一种塑料工件加工用打磨抛光装置，“包括底安装板，所述底安装板的表面开设有第一安装槽，所述第一安装槽的内部设置有第一丝杆，所述第一丝杆的表面设置有第一运动块，所述第一运动块的表面固定连接有安装块，所述安装块的表面开设有第二安装槽，所述第二安装槽的内部设置有第二丝杆，所述第二丝杆的表面设置有第二运动块，所述第二运动块的表面设置有固定结构，所述底安装板的表面且位于第一安装槽的两侧固定连接有一对侧安装板。通过打磨轮为工件进行粗加工，去除毛刺，通过多个抛光轮为工件进行抛光，抛光效果好，最后通过毛垫为工件去灰增光”，然而上述公开文献的一种塑料工件加工用打磨抛光装置，主要考虑通过多个抛光轮为工件进行抛光，没有考虑到对工件位置进行调整的问题，因此，有必要研究出一种可以对工件位置进行调整的结构，进而能够便于增加金属镀层在硅基材上附着力设备对工件不同的位置进行清洁；
6.3、专利文件cn111644972a公开了一种自动化工件表面抛光设备，“本发明的目的是提供一种抛光效率较高，抛光较全面的自动化工件表面抛光设备。技术方案：一种自动化工件表面抛光设备，包括有支架、安装箱、第一观察玻璃、加工箱、下料管等；安装箱底部前后左右四侧均设有支架，安装箱前壁中部嵌入式设有第一观察玻璃，安装箱底部设有加工箱，加工箱底部连接有下料管。本发明在使用过程中，工作人员可以按下第二开关，控制模块即可控制第二驱动电机缓慢转动，第二驱动电机带动第一齿轮缓慢转动，从而使第一齿轮带动旋转环转动，这样就可以使工件缓慢转动，从而能够使抛光轮对整根工件表面进行抛光，达到了抛光全面使工件更加光亮平整的效果”，然而上述公开文献的一种自动化工件表面抛光设备，主要考虑抛光全面使工件更加光亮平整的效果，没有考虑到对工件外壁残留物进行清除的问题，因此，有必要研究出一种可以对工件外壁残留物进行清除的结构，进而能够提高对工件的清洁效率；
7.4、专利文件cn217069947u公开了一种便于工件装卸的超声波清洗机，“本装置包括：超声波清洗组件、承载板、导向板、连接组件和抬升组件；其中所述承载板位于超声波清洗组件内，所述导向板通过连接组件与承载板的一侧边相连，所述抬升组件设置在超声波清洗组件的底部，且与所述承载板的下表面连接；所述承载板适于盛放工件，所述超声波清洗组件适于对承载板上的工件进行清洗，所述抬升组件适于抬升承载板以将清洗完的工件送出超声波清洗组件；所述抬升组件将承载板抬出超声波清洗组件后，所述导向板绕连接组件转动，以便于工件滑出所述承载板”，然而上述公开文献的一种便于工件装卸的超声波清洗机，主要考虑便于工件装卸，没有考虑到对工件进行干燥的问题，因此，有必要研究出一种可以提高增加金属镀层在硅基材上附着力设备清洁后工件干燥的效率，进而能够提高工件的干燥效率。


技术实现要素：

8.本发明的目的在于提供一种增加金属镀层在硅基材上附着力设备及其方法，以解决上述背景技术中提出的增加金属镀层在硅基材上附着力设备不便于快速对不同尺寸工件进行限位夹持的技术问题。
9.为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种增加金属镀层在硅基材上附着力设备，包括:
10.机体，所述机体的顶部设置有支撑架，所述支撑架的顶部固定设置有气缸，所述气缸的一端固定连接有方形架，所述方形架的内壁设置有第一电机，所述第一电机的输出端固定连接有转盘，所述转盘的底部固定连接有抛光轮；
11.所述机体的顶部设置有底座，且底座位于支撑架的一侧，所述底座的顶部设置有限位架，所述限位架的内壁设置有滑槽，所述滑槽的内壁对称设置有两组第二电机，所述第二电机的输出端固定连接有螺纹丝杆，所述滑槽的内壁对称设置有滑块，所述滑块的内壁固定安装有滑环，且螺纹丝杆的一端穿设在滑环的内部；
12.所述滑块的外壁固定连接有凹型架，所述凹型架的一端固定连接有夹持板。
13.优选的，所述机体的底部设置有支撑腿，机体的外壁设置有控制箱，方形架的内壁对称设置有导向槽，导向槽的内壁穿设有导向板，且导向板的一端与支撑架的底部固定连接，限位架的外壁对称设置有限位板，且限位板的一端穿设在凹型架的内部。
14.优选的，所述底座的内壁设置有第一伸缩杆，第一伸缩杆的一端固定连接有滑动块，且滑动块的顶部与限位架的底部固定连接，机体的内壁设置有安装槽，安装槽的内壁对称设置有导轨，导轨的顶部设置有滑动座，滑动座的内壁镶嵌安装有两组滑动环，安装槽的内壁对称安装有第三电机，第三电机的输出端固定连接有螺纹杆，且螺纹杆的一端穿设在对应滑动环的内部，滑动座的顶部固定安装有支撑杆，且支撑杆的一端与底座的底部固定连接。
15.优选的，所述方形架的内壁对称设置有箱体，且箱体位于第一电机的一侧，箱体的内壁设置有第一风机，方形架的底部对称设置有两组架体，架体的内壁设置有通风槽，且第一风机的输出端与通风槽的输入端密封连接。
16.优选的，所述滑槽的外形呈长方形内壁与滑块的外壁相贴合，导向槽的内壁为六边形，内壁与导向板的外壁相贴合，第一伸缩杆共有三组依次设置在限位架的内壁，滑动座的外形呈“凹”字形，架体的外形为倒“l”型与方形架固定连接。
17.优选的，所述架体的内壁安装有微型伸缩杆，架体的内壁设置有转轴，转轴的一端固定连接有喷气头，喷气头的输入端连接有软管，且软管的一端与通风槽的输出端密封连接，喷气头的外壁活动连接有驱动板，且驱动板的一端与微型伸缩杆的一端活动连接。
18.优选的，所述机体的内壁设置有清洗槽，清洗槽的内壁设置有换能器，机体的内壁设置有超声波发生器，且超声波发生器与换能器电性连接，清洗槽的底部设置有四组第二伸缩杆，清洗槽的内壁设置有四组密封圈，且第二伸缩杆的一端穿设在密封圈的内部，第二伸缩杆的顶端固定连接有格栅板，格栅板的顶部设置有风干器。
19.优选的，所述风干器的内壁设置有风筒，风筒的内壁对称设置有滤网，风筒的内壁设置有排风机，风筒的内壁设置有加热棒，且加热棒位于排风机的一侧，风干器的内壁设置有活动槽，活动槽的内壁设置有第三伸缩杆，第三伸缩杆的一端固定连接有驱动架，驱动架的底部固定连接有密封板，且密封板的一端延伸至风筒的内部，密封板以用于对风筒进行密封。
20.一种增加金属镀层在硅基材上附着力设备的使用方法，包括：
21.s1、首先在硅基材上喷涂金属镀层前，将待喷涂金属镀层的硅基材放置在限位架的上方后，使两组第二电机的输出端转动带动螺纹丝杆转动，螺纹丝杆转动时使滑环的位置移动，滑环的位置移动时带动滑块在滑槽的内部滑动位置，在滑块的位置移动时通过凹型架会带动夹持板的位置移动，夹持板的一侧与放置在限位架上方的硅基材接触后，用于对硅基材进行快速的限位夹持，达到快速对不同尺寸的硅基材进行限位夹持的目的；
22.s2、增加金属镀层在硅基材上附着力设备对硅基材的位置进行限位夹持后，使第一电机的输出端转动带动转盘转动，转盘转动时带动抛光轮转动，同时使气缸工作推动方形架的位置进行移动，方形架的位置移动时带动抛光轮进行运动，抛光轮向下与下方固定的硅基材表面接触后，可以对硅基材表面进行打磨抛光，可以对硅基材表面吸附的杂质吸附物或毛刺进行清除，进而在后续对硅基材增加金属镀层时，可以提高金属镀层与硅基材的附着力，在抛光轮对硅基材进行打磨抛光时，使第三电机的输出端转动带动螺纹杆转动，螺纹杆转动时使滑动环的位置移动，进而会带动滑动座在导轨的顶部水平滑动位置，滑动座的位置移动时通过支撑杆带动底座的位置移动，底座的位置移动时通过限位架可以带动顶部固定的硅基材进行前后运动，第一伸缩杆工作带动滑动块的位置运动，滑动块运动时
可以带动限位架进行左右运动，进而带动硅基材进行运动，可以对硅基材不同的位置进行打磨抛光，达到可以对硅基材不同位置进行打磨抛光的目的，进而提高了抛光效率；
23.s3、在抛光轮对硅基材的表面进行打磨抛光后，使微型伸缩杆工作推动驱动板进行运动，驱动板运动时会带动喷气头的一侧进行倾斜，喷气头的位置倾斜时会绕转轴进行移动，同时使第一风机工作产生风力，风力进入到通风槽的内部后，通过软管流动进入到喷气头的内部，喷气头使风力吹向打磨抛光后的硅基材表面后，可以对硅基材表面残留的吸附物进行清除，达到对打磨抛光后的硅基材表面吸附物进行清除的目的；
24.s4、清洗槽的内部装有清洁液体将抛光后的硅基材放置在清洗槽的内部后，使超声波发生器工作通过换能器产生超声波使清洗槽内部的的液体振荡，进而对硅基材进行清洁，对硅基材进行清洁后，使第二伸缩杆工作推动格栅板进行运动，格栅板运动时会推动洁净后的硅基材分离出清洁液体的内部后，对硅基材进行干燥时，使第三伸缩杆工作带动驱动架运动，驱动架运动时带动密封板移动对风筒不再进行密封，使排风机工作产生风力，同时使加热棒工作产生热量，产生的风力经过加热棒使会变为热风，进而会流动吹向硅基材的表面，使清洁后的硅基材快速的进行干燥，达到快速对清洗后硅基材进行风干的目的，可以对硅基材进行洁净，进而在后期对硅基材进行增加金属镀层时，可以提高金属镀层在硅基材上的附着力。
25.优选的，在所述步骤s1中，还包括如下步骤：
26.s11、在凹型架的位置进行运动时限位板对凹型架进行导向，使凹型架水平滑动位置；
27.在所述步骤s2中，还包括如下步骤：
28.s21、导轨的顶部与滑动座的底部相贴合，可以对滑动座进行导向；
29.在所述步骤s4中，还包括如下步骤：
30.s41、在风筒内部的空气进行流动时，滤网可以防止外界的颗粒物流动进入到风筒的内部。
31.与现有技术相比，本发明的有益效果是：
32.1.本发明通过安装有夹持板和第二电机可以使增加金属镀层在硅基材上附着力设备快速对不同工件进行限位夹持，在硅基材上喷涂金属镀层前，将待喷涂金属镀层的硅基材放置在限位架的上方后，使两组第二电机的输出端转动带动螺纹丝杆转动，螺纹丝杆转动时使滑环的位置移动，滑环的位置移动时带动滑块在滑槽的内部滑动位置，在滑块的位置移动时通过凹型架会带动夹持板的位置移动，夹持板的一侧与放置在限位架上方的硅基材接触后，用于对硅基材进行快速的限位夹持，达到快速对不同尺寸的硅基材进行限位夹持的目的；
33.2.本发明通过安装有安装槽和底座可以对增加金属镀层在硅基材上附着力设备抛光的工件位置进行调节，在抛光轮对硅基材进行打磨抛光时，使第三电机的输出端转动带动螺纹杆转动，螺纹杆转动时使滑动环的位置移动，进而会带动滑动座在导轨的顶部水平滑动位置，滑动座的位置移动时通过支撑杆带动底座的位置移动，底座的位置移动时通过限位架可以带动顶部固定的硅基材进行前后运动，第一伸缩杆工作带动滑动块的位置运动，滑动块运动时可以带动限位架进行左右运动，进而带动硅基材进行运动，可以对硅基材不同的位置进行打磨抛光，达到可以对硅基材不同位置进行打磨抛光的目的，进而提高了
抛光效率；
34.3.本发明通过安装有喷气头和第一风机可以对增加金属镀层在硅基材上附着力设备加工工件表面的吸附物进行清除，在抛光轮对硅基材的表面进行打磨抛光后，使微型伸缩杆工作推动驱动板进行运动，驱动板运动时会带动喷气头的一侧进行倾斜，喷气头的位置倾斜时会绕转轴进行移动，同时使第一风机工作产生风力，风力进入到通风槽的内部后，通过软管流动进入到喷气头的内部，喷气头使风力吹向打磨抛光后的硅基材表面后，可以对硅基材表面残留的吸附物进行清除，达到对打磨抛光后的硅基材表面吸附物进行清除的目的；
35.4.本发明通过安装有风干器可以对清洗后的工件快速的进行干燥，清洗槽的内部装有清洁液体将抛光后的硅基材放置在清洗槽的内部后，使超声波发生器工作通过换能器产生超声波使清洗槽内部的的液体振荡，进而对硅基材进行清洁，对硅基材进行清洁后，使第二伸缩杆工作推动格栅板进行运动，格栅板运动时会推动洁净后的硅基材分离出清洁液体的内部后，对硅基材进行干燥时，使第三伸缩杆工作带动驱动架运动，驱动架运动时带动密封板移动对风筒不再进行密封，使排风机工作产生风力，同时使加热棒工作产生热量，产生的风力经过加热棒使会变为热风，进而会流动吹向硅基材的表面，使清洁后的硅基材快速的进行干燥，达到快速对清洗后硅基材进行风干的目的，可以对硅基材进行洁净，进而在后期对硅基材进行增加金属镀层时，可以提高金属镀层在硅基材上的附着力。
附图说明
36.图1为本发明的整体结构示意图；
37.图2为本发明的正面结构示意图；
38.图3为本发明的限位架结构示意图；
39.图4为本发明的安装槽结构示意图；
40.图5为本发明的方形架结构示意图；
41.图6为本发明的箱体结构示意图；
42.图7为本发明的风干器结构示意图；
43.图8为本发明的工作流程图。
44.图中：1、机体；2、支撑腿；3、控制箱；4、限位架；5、支撑架；6、气缸；7、方形架；8、第一电机；9、转盘；10、抛光轮；11、导向槽；12、导向板；13、滑槽；14、第二电机；15、螺纹丝杆；16、滑块；17、滑环；18、凹型架；19、夹持板；20、限位板；21、底座；22、第一伸缩杆；23、滑动块；24、安装槽；25、导轨；26、第三电机；27、螺纹杆；28、滑动环；29、滑动座；30、支撑杆；31、箱体；32、第一风机；33、架体；34、通风槽；35、转轴；36、喷气头；37、软管；38、微型伸缩杆；39、驱动板；40、清洗槽；41、超声波发生器；42、换能器；43、第二伸缩杆；44、密封圈；45、格栅板；46、风干器；47、风筒；48、滤网；49、排风机；50、加热棒；51、活动槽；52、第三伸缩杆；53、驱动架；54、密封板。
具体实施方式
45.下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于
本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
46.在本发明的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、“外”“前端”、“后端”、“两端”、“一端”、“另一端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
47.在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置有”、“连接”等，应做广义理解，例如“连接”，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体的连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
48.请参阅图1、图2和图8，本发明提供的一种实施例：一种增加金属镀层在硅基材上附着力设备，包括机体1，机体1的顶部设置有支撑架5，支撑架5的顶部固定设置有气缸6，气缸6的一端固定连接有方形架7，方形架7的内壁设置有第一电机8，第一电机8的输出端固定连接有转盘9，转盘9的底部固定连接有抛光轮10，第一电机8的输出端转动带动转盘9转动，转盘9转动时带动抛光轮10转动，同时使气缸6工作推动方形架7的位置进行移动，方形架7的位置移动时带动抛光轮10进行运动，抛光轮10向下与下方固定的硅基材表面接触后，可以对硅基材表面进行打磨抛光，机体1的底部设置有支撑腿2，支撑腿2对增加金属镀层在硅基材上附着力设备进行支撑，机体1的外壁设置有控制箱3，控制箱3控制增加金属镀层在硅基材上附着力设备工作对硅基材进行打磨抛光，进而便于后续硅基材进行增加金属镀层时，提高金属镀层的附着力，方形架7的内壁对称设置有导向槽11，导向槽11的内壁穿设有导向板12，且导向板12的一端与支撑架5的底部固定连接，在方形架7的位置进行移动时，会带动导向槽11在导向板12的外壁垂直滑动位置，，进而可以对方形架7进行导向，限位架4的外壁对称设置有限位板20，且限位板20的一端穿设在凹型架18的内部，机体1的内壁设置有清洗槽40，清洗槽40的内壁设置有换能器42，机体1的内壁设置有超声波发生器41，且超声波发生器41与换能器42电性连接，清洗槽40的底部设置有四组第二伸缩杆43，清洗槽40的内部装有清洁液体将抛光后的硅基材放置在清洗槽40的内部后，使超声波发生器41工作通过换能器42产生超声波使清洗槽40内部的的液体振荡，进而对硅基材进行清洁，清洗槽40的内壁设置有四组密封圈44，且第二伸缩杆43的一端穿设在密封圈44的内部，第二伸缩杆43的顶端固定连接有格栅板45，格栅板45的顶部设置有风干器46，第二伸缩杆43工作推动格栅板45进行运动，格栅板45运动时会推动洁净后的硅基材分离出清洁液体的内部后，滑槽13的外形呈长方形内壁与滑块16的外壁相贴合，导向槽11的内壁为六边形，内壁与导向板12的外壁相贴合，第一伸缩杆22共有三组依次设置在限位架4的内壁，滑动座29的外形呈“凹”字形，架体33的外形为倒“l”型与方形架7固定连接。
49.请参阅图3，机体1的顶部设置有底座21，且底座21位于支撑架5的一侧，底座21的顶部设置有限位架4，限位架4的内壁设置有滑槽13，滑槽13的内壁对称设置有两组第二电机14，第二电机14的输出端固定连接有螺纹丝杆15，滑槽13的内壁对称设置有滑块16，滑块16的内壁固定安装有滑环17，且螺纹丝杆15的一端穿设在滑环17的内部，滑块16的外壁固
定连接有凹型架18，凹型架18的一端固定连接有夹持板19，在硅基材上喷涂金属镀层前，将待喷涂金属镀层的硅基材放置在限位架4的上方后，使两组第二电机14的输出端转动带动螺纹丝杆15转动，螺纹丝杆15转动时使滑环17的位置移动，滑环17的位置移动时带动滑块16在滑槽13的内部滑动位置，在滑块16的位置移动时通过凹型架18会带动夹持板19的位置移动，夹持板19的一侧与放置在限位架4上方的硅基材接触后，用于对硅基材进行快速的限位夹持，达到快速对不同尺寸的硅基材进行限位夹持的目的。
50.请参阅图2、图3和图4，底座21的内壁设置有第一伸缩杆22，第一伸缩杆22的一端固定连接有滑动块23，且滑动块23的顶部与限位架4的底部固定连接，机体1的内壁设置有安装槽24，安装槽24的内壁对称设置有导轨25，导轨25的顶部设置有滑动座29，滑动座29的内壁镶嵌安装有两组滑动环28，安装槽24的内壁对称安装有第三电机26，第三电机26的输出端固定连接有螺纹杆27，且螺纹杆27的一端穿设在对应滑动环28的内部，滑动座29的顶部固定安装有支撑杆30，且支撑杆30的一端与底座21的底部固定连接在抛光轮10对硅基材进行打磨抛光时，使第三电机26的输出端转动带动螺纹杆27转动，螺纹杆27转动时使滑动环28的位置移动，进而会带动滑动座29在导轨25的顶部水平滑动位置，滑动座29的位置移动时通过支撑杆30带动底座21的位置移动，底座21的位置移动时通过限位架4可以带动顶部固定的硅基材进行前后运动，第一伸缩杆22工作带动滑动块23的位置运动，滑动块23运动时可以带动限位架4进行左右运动，进而带动硅基材进行运动，可以对硅基材不同的位置进行打磨抛光，达到可以对硅基材不同位置进行打磨抛光的目的，进而提高了抛光效率。
51.请参阅图5和图6，方形架7的内壁对称设置有箱体31，且箱体31位于第一电机8的一侧，箱体31的内壁设置有第一风机32，方形架7的底部对称设置有两组架体33，架体33的内壁设置有通风槽34，且第一风机32的输出端与通风槽34的输入端密封连接，架体33的内壁安装有微型伸缩杆38，架体33的内壁设置有转轴35，转轴35的一端固定连接有喷气头36，喷气头36的输入端连接有软管37，且软管37的一端与通风槽34的输出端密封连接，喷气头36的外壁活动连接有驱动板39，且驱动板39的一端与微型伸缩杆38的一端活动连接，在抛光轮10对硅基材的表面进行打磨抛光后，使微型伸缩杆38工作推动驱动板39进行运动，驱动板39运动时会带动喷气头36的一侧进行倾斜，喷气头36的位置倾斜时会绕转轴35进行移动，同时使第一风机32工作产生风力，风力进入到通风槽34的内部后，通过软管37流动进入到喷气头36的内部，喷气头36使风力吹向打磨抛光后的硅基材表面后，可以对硅基材表面残留的吸附物进行清除，达到对打磨抛光后的硅基材表面吸附物进行清除的目的。
52.请参阅图2和图7，风干器46的内壁设置有风筒47，风筒47的内壁对称设置有滤网48，风筒47的内壁设置有排风机49，风筒47的内壁设置有加热棒50，且加热棒50位于排风机49的一侧，风干器46的内壁设置有活动槽51，活动槽51的内壁设置有第三伸缩杆52，第三伸缩杆52的一端固定连接有驱动架53，驱动架53的底部固定连接有密封板54，且密封板54的一端延伸至风筒47的内部，密封板54以用于对风筒47进行密封，第二伸缩杆43工作推动格栅板45进行运动，格栅板45运动时会推动洁净后的硅基材分离出清洁液体的内部后，对硅基材进行干燥时，使第三伸缩杆52工作带动驱动架53运动，驱动架53运动时带动密封板54移动对风筒47不再进行密封，使排风机49工作产生风力，同时使加热棒50工作产生热量，产生的风力经过加热棒50使会变为热风，进而会流动吹向硅基材的表面，使清洁后的硅基材快速的进行干燥，达到快速对清洗后硅基材进行风干的目的，可以对硅基材进行洁净，进而
在后期对硅基材进行增加金属镀层时，可以提高金属镀层在硅基材上的附着力。
53.一种增加金属镀层在硅基材上附着力设备的使用方法，包括：
54.s1、首先在硅基材上喷涂金属镀层前，将待喷涂金属镀层的硅基材放置在限位架4的上方后，使两组第二电机14的输出端转动带动螺纹丝杆15转动，螺纹丝杆15转动时使滑环17的位置移动，滑环17的位置移动时带动滑块16在滑槽13的内部滑动位置，在滑块16的位置移动时通过凹型架18会带动夹持板19的位置移动，夹持板19的一侧与放置在限位架4上方的硅基材接触后，用于对硅基材进行快速的限位夹持，达到快速对不同尺寸的硅基材进行限位夹持的目的；
55.s2、增加金属镀层在硅基材上附着力设备对硅基材的位置进行限位夹持后，使第一电机8的输出端转动带动转盘9转动，转盘9转动时带动抛光轮10转动，同时使气缸6工作推动方形架7的位置进行移动，方形架7的位置移动时带动抛光轮10进行运动，抛光轮10向下与下方固定的硅基材表面接触后，可以对硅基材表面进行打磨抛光，可以对硅基材表面吸附的杂质吸附物或毛刺进行清除，进而在后续对硅基材增加金属镀层时，可以提高金属镀层与硅基材的附着力，在抛光轮10对硅基材进行打磨抛光时，使第三电机26的输出端转动带动螺纹杆27转动，螺纹杆27转动时使滑动环28的位置移动，进而会带动滑动座29在导轨25的顶部水平滑动位置，滑动座29的位置移动时通过支撑杆30带动底座21的位置移动，底座21的位置移动时通过限位架4可以带动顶部固定的硅基材进行前后运动，第一伸缩杆22工作带动滑动块23的位置运动，滑动块23运动时可以带动限位架4进行左右运动，进而带动硅基材进行运动，可以对硅基材不同的位置进行打磨抛光，达到可以对硅基材不同位置进行打磨抛光的目的，进而提高了抛光效率；
56.s3、在抛光轮10对硅基材的表面进行打磨抛光后，使微型伸缩杆38工作推动驱动板39进行运动，驱动板39运动时会带动喷气头36的一侧进行倾斜，喷气头36的位置倾斜时会绕转轴35进行移动，同时使第一风机32工作产生风力，风力进入到通风槽34的内部后，通过软管37流动进入到喷气头36的内部，喷气头36使风力吹向打磨抛光后的硅基材表面后，可以对硅基材表面残留的吸附物进行清除，达到对打磨抛光后的硅基材表面吸附物进行清除的目的；
57.s4、清洗槽40的内部装有清洁液体将抛光后的硅基材放置在清洗槽40的内部后，使超声波发生器41工作通过换能器42产生超声波使清洗槽40内部的的液体振荡，进而对硅基材进行清洁，对硅基材进行清洁后，使第二伸缩杆43工作推动格栅板45进行运动，格栅板45运动时会推动洁净后的硅基材分离出清洁液体的内部后，对硅基材进行干燥时，使第三伸缩杆52工作带动驱动架53运动，驱动架53运动时带动密封板54移动对风筒47不再进行密封，使排风机49工作产生风力，同时使加热棒50工作产生热量，产生的风力经过加热棒50使会变为热风，进而会流动吹向硅基材的表面，使清洁后的硅基材快速的进行干燥，达到快速对清洗后硅基材进行风干的目的，可以对硅基材进行洁净，进而在后期对硅基材进行增加金属镀层时，可以提高金属镀层在硅基材上的附着力。
58.在步骤s1中，还包括如下步骤：
59.s11、在凹型架18的位置进行运动时限位板20对凹型架18进行导向，使凹型架18水平滑动位置；
60.在步骤s2中，还包括如下步骤：
61.s21、导轨25的顶部与滑动座29的底部相贴合，可以对滑动座29进行导向；
62.在步骤s4中，还包括如下步骤：
63.s41、在风筒47内部的空气进行流动时，滤网48可以防止外界的颗粒物流动进入到风筒47的内部。
64.工作原理，首先在硅基材上喷涂金属镀层前，将待喷涂金属镀层的硅基材放置在限位架4的上方后，使两组第二电机14的输出端转动带动螺纹丝杆15转动，螺纹丝杆15转动时使滑环17的位置移动，滑环17的位置移动时带动滑块16在滑槽13的内部滑动位置，在滑块16的位置移动时通过凹型架18会带动夹持板19的位置移动，夹持板19的一侧与放置在限位架4上方的硅基材接触后，用于对硅基材进行快速的限位夹持，达到快速对不同尺寸的硅基材进行限位夹持的目的，增加金属镀层在硅基材上附着力设备对硅基材的位置进行限位夹持后，使第一电机8的输出端转动带动转盘9转动，转盘9转动时带动抛光轮10转动，同时使气缸6工作推动方形架7的位置进行移动，方形架7的位置移动时带动抛光轮10进行运动，抛光轮10向下与下方固定的硅基材表面接触后，可以对硅基材表面进行打磨抛光，可以对硅基材表面吸附的杂质吸附物或毛刺进行清除，进而在后续对硅基材增加金属镀层时，可以提高金属镀层与硅基材的附着力，在抛光轮10对硅基材进行打磨抛光时，使第三电机26的输出端转动带动螺纹杆27转动，螺纹杆27转动时使滑动环28的位置移动，进而会带动滑动座29在导轨25的顶部水平滑动位置，滑动座29的位置移动时通过支撑杆30带动底座21的位置移动，底座21的位置移动时通过限位架4可以带动顶部固定的硅基材进行前后运动，第一伸缩杆22工作带动滑动块23的位置运动，滑动块23运动时可以带动限位架4进行左右运动，进而带动硅基材进行运动，可以对硅基材不同的位置进行打磨抛光，达到可以对硅基材不同位置进行打磨抛光的目的，进而提高了抛光效率，在抛光轮10对硅基材的表面进行打磨抛光后，使微型伸缩杆38工作推动驱动板39进行运动，驱动板39运动时会带动喷气头36的一侧进行倾斜，喷气头36的位置倾斜时会绕转轴35进行移动，同时使第一风机32工作产生风力，风力进入到通风槽34的内部后，通过软管37流动进入到喷气头36的内部，喷气头36使风力吹向打磨抛光后的硅基材表面后，可以对硅基材表面残留的吸附物进行清除，达到对打磨抛光后的硅基材表面吸附物进行清除的目的，清洗槽40的内部装有清洁液体将抛光后的硅基材放置在清洗槽40的内部后，使超声波发生器41工作通过换能器42产生超声波使清洗槽40内部的的液体振荡，进而对硅基材进行清洁，对硅基材进行清洁后，使第二伸缩杆43工作推动格栅板45进行运动，格栅板45运动时会推动洁净后的硅基材分离出清洁液体的内部后，对硅基材进行干燥时，使第三伸缩杆52工作带动驱动架53运动，驱动架53运动时带动密封板54移动对风筒47不再进行密封，使排风机49工作产生风力，同时使加热棒50工作产生热量，产生的风力经过加热棒50使会变为热风，进而会流动吹向硅基材的表面，使清洁后的硅基材快速的进行干燥，达到快速对清洗后硅基材进行风干的目的，可以对硅基材进行洁净，进而在后期对硅基材进行增加金属镀层时，可以提高金属镀层在硅基材上的附着力。
65.对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有
变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

技术特征：
1.一种增加金属镀层在硅基材上附着力设备，其特征在于，包括:机体(1)，所述机体(1)的顶部设置有支撑架(5)，所述支撑架(5)的顶部固定设置有气缸(6)，所述气缸(6)的一端固定连接有方形架(7)，所述方形架(7)的内壁设置有第一电机(8)，所述第一电机(8)的输出端固定连接有转盘(9)，所述转盘(9)的底部固定连接有抛光轮(10)；所述机体(1)的顶部设置有底座(21)，且底座(21)位于支撑架(5)的一侧，所述底座(21)的顶部设置有限位架(4)，所述限位架(4)的内壁设置有滑槽(13)，所述滑槽(13)的内壁对称设置有两组第二电机(14)，所述第二电机(14)的输出端固定连接有螺纹丝杆(15)，所述滑槽(13)的内壁对称设置有滑块(16)，所述滑块(16)的内壁固定安装有滑环(17)，且螺纹丝杆(15)的一端穿设在滑环(17)的内部；所述滑块(16)的外壁固定连接有凹型架(18)，所述凹型架(18)的一端固定连接有夹持板(19)。2.根据权利要求1所述的一种增加金属镀层在硅基材上附着力设备，其特征在于：所述机体(1)的底部设置有支撑腿(2)，机体(1)的外壁设置有控制箱(3)，方形架(7)的内壁对称设置有导向槽(11)，导向槽(11)的内壁穿设有导向板(12)，且导向板(12)的一端与支撑架(5)的底部固定连接，限位架(4)的外壁对称设置有限位板(20)，且限位板(20)的一端穿设在凹型架(18)的内部。3.根据权利要求1所述的一种增加金属镀层在硅基材上附着力设备，其特征在于：所述底座(21)的内壁设置有第一伸缩杆(22)，第一伸缩杆(22)的一端固定连接有滑动块(23)，且滑动块(23)的顶部与限位架(4)的底部固定连接，机体(1)的内壁设置有安装槽(24)，安装槽(24)的内壁对称设置有导轨(25)，导轨(25)的顶部设置有滑动座(29)，滑动座(29)的内壁镶嵌安装有两组滑动环(28)，安装槽(24)的内壁对称安装有第三电机(26)，第三电机(26)的输出端固定连接有螺纹杆(27)，且螺纹杆(27)的一端穿设在对应滑动环(28)的内部，滑动座(29)的顶部固定安装有支撑杆(30)，且支撑杆(30)的一端与底座(21)的底部固定连接。4.根据权利要求2所述的一种增加金属镀层在硅基材上附着力设备，其特征在于：所述方形架(7)的内壁对称设置有箱体(31)，且箱体(31)位于第一电机(8)的一侧，箱体(31)的内壁设置有第一风机(32)，方形架(7)的底部对称设置有两组架体(33)，架体(33)的内壁设置有通风槽(34)，且第一风机(32)的输出端与通风槽(34)的输入端密封连接。5.根据权利要求1-4任意一项所述的一种增加金属镀层在硅基材上附着力设备，其特征在于：所述滑槽(13)的外形呈长方形内壁与滑块(16)的外壁相贴合，导向槽(11)的内壁为六边形，内壁与导向板(12)的外壁相贴合，第一伸缩杆(22)共有三组依次设置在限位架(4)的内壁，滑动座(29)的外形呈“凹”字形，架体(33)的外形为倒“l”型与方形架(7)固定连接。6.根据权利要求4所述的一种增加金属镀层在硅基材上附着力设备，其特征在于：所述架体(33)的内壁安装有微型伸缩杆(38)，架体(33)的内壁设置有转轴(35)，转轴(35)的一端固定连接有喷气头(36)，喷气头(36)的输入端连接有软管(37)，且软管(37)的一端与通风槽(34)的输出端密封连接，喷气头(36)的外壁活动连接有驱动板(39)，且驱动板(39)的一端与微型伸缩杆(38)的一端活动连接。
7.根据权利要求3所述的一种增加金属镀层在硅基材上附着力设备，其特征在于：所述机体(1)的内壁设置有清洗槽(40)，清洗槽(40)的内壁设置有换能器(42)，机体(1)的内壁设置有超声波发生器(41)，且超声波发生器(41)与换能器(42)电性连接，清洗槽(40)的底部设置有四组第二伸缩杆(43)，清洗槽(40)的内壁设置有四组密封圈(44)，且第二伸缩杆(43)的一端穿设在密封圈(44)的内部，第二伸缩杆(43)的顶端固定连接有格栅板(45)，格栅板(45)的顶部设置有风干器(46)。8.根据权利要求7所述的一种增加金属镀层在硅基材上附着力设备，其特征在于：所述风干器(46)的内壁设置有风筒(47)，风筒(47)的内壁对称设置有滤网(48)，风筒(47)的内壁设置有排风机(49)，风筒(47)的内壁设置有加热棒(50)，且加热棒(50)位于排风机(49)的一侧，风干器(46)的内壁设置有活动槽(51)，活动槽(51)的内壁设置有第三伸缩杆(52)，第三伸缩杆(52)的一端固定连接有驱动架(53)，驱动架(53)的底部固定连接有密封板(54)，且密封板(54)的一端延伸至风筒(47)的内部，密封板(54)以用于对风筒(47)进行密封。9.一种增加金属镀层在硅基材上附着力设备的使用方法，适用于权利要求1-8任意一项所述的一种增加金属镀层在硅基材上附着力设备，其特征在于，包括：s1、首先在硅基材上喷涂金属镀层前，将待喷涂金属镀层的硅基材放置在限位架(4)的上方后，使两组第二电机(14)的输出端转动带动螺纹丝杆(15)转动，螺纹丝杆(15)转动时使滑环(17)的位置移动，滑环(17)的位置移动时带动滑块(16)在滑槽(13)的内部滑动位置，在滑块(16)的位置移动时通过凹型架(18)会带动夹持板(19)的位置移动，夹持板(19)的一侧与放置在限位架(4)上方的硅基材接触后，用于对硅基材进行快速的限位夹持，达到快速对不同尺寸的硅基材进行限位夹持的目的；s2、增加金属镀层在硅基材上附着力设备对硅基材的位置进行限位夹持后，使第一电机(8)的输出端转动带动转盘(9)转动，转盘(9)转动时带动抛光轮(10)转动，同时使气缸(6)工作推动方形架(7)的位置进行移动，方形架(7)的位置移动时带动抛光轮(10)进行运动，抛光轮(10)向下与下方固定的硅基材表面接触后，可以对硅基材表面进行打磨抛光，可以对硅基材表面吸附的杂质吸附物或毛刺进行清除，进而在后续对硅基材增加金属镀层时，可以提高金属镀层与硅基材的附着力，在抛光轮(10)对硅基材进行打磨抛光时，使第三电机(26)的输出端转动带动螺纹杆(27)转动，螺纹杆(27)转动时使滑动环(28)的位置移动，进而会带动滑动座(29)在导轨(25)的顶部水平滑动位置，滑动座(29)的位置移动时通过支撑杆(30)带动底座(21)的位置移动，底座(21)的位置移动时通过限位架(4)可以带动顶部固定的硅基材进行前后运动，第一伸缩杆(22)工作带动滑动块(23)的位置运动，滑动块(23)运动时可以带动限位架(4)进行左右运动，进而带动硅基材进行运动，可以对硅基材不同的位置进行打磨抛光，达到可以对硅基材不同位置进行打磨抛光的目的，进而提高了抛光效率；s3、在抛光轮(10)对硅基材的表面进行打磨抛光后，使微型伸缩杆(38)工作推动驱动板(39)进行运动，驱动板(39)运动时会带动喷气头(36)的一侧进行倾斜，喷气头(36)的位置倾斜时会绕转轴(35)进行移动，同时使第一风机(32)工作产生风力，风力进入到通风槽(34)的内部后，通过软管(37)流动进入到喷气头(36)的内部，喷气头(36)使风力吹向打磨抛光后的硅基材表面后，可以对硅基材表面残留的吸附物进行清除，达到对打磨抛光后的
硅基材表面吸附物进行清除的目的；s4、清洗槽(40)的内部装有清洁液体将抛光后的硅基材放置在清洗槽(40)的内部后，使超声波发生器(41)工作通过换能器(42)产生超声波使清洗槽(40)内部的的液体振荡，进而对硅基材进行清洁，对硅基材进行清洁后，使第二伸缩杆(43)工作推动格栅板(45)进行运动，格栅板(45)运动时会推动洁净后的硅基材分离出清洁液体的内部后，对硅基材进行干燥时，使第三伸缩杆(52)工作带动驱动架(53)运动，驱动架(53)运动时带动密封板(54)移动对风筒(47)不再进行密封，使排风机(49)工作产生风力，同时使加热棒(50)工作产生热量，产生的风力经过加热棒(50)使会变为热风，进而会流动吹向硅基材的表面，使清洁后的硅基材快速的进行干燥，达到快速对清洗后硅基材进行风干的目的，可以对硅基材进行洁净，进而在后期对硅基材进行增加金属镀层时，可以提高金属镀层在硅基材上的附着力。10.根据权利要求9所述的一种增加金属镀层在硅基材上附着力设备的使用方法，其特征在于，在所述步骤s1中，还包括如下步骤：s11、在凹型架(18)的位置进行运动时限位板(20)对凹型架(18)进行导向，使凹型架(18)水平滑动位置；在所述步骤s2中，还包括如下步骤：s21、导轨(25)的顶部与滑动座(29)的底部相贴合，可以对滑动座(29)进行导向；在所述步骤s4中，还包括如下步骤：s41、在风筒(47)内部的空气进行流动时，滤网(48)可以防止外界的颗粒物流动进入到风筒(47)的内部。

技术总结
本发明公开了一种增加金属镀层在硅基材上附着力设备及其方法，包括:所述机体的顶部设置有底座，且底座位于支撑架的一侧，所述底座的顶部设置有限位架，所述限位架的内壁设置有滑槽，所述滑槽的内壁对称设置有两组第二电机，所述第二电机的输出端固定连接有螺纹丝杆，所述滑槽的内壁对称设置有滑块，所述滑块的内壁固定安装有滑环。本发明通过安装有夹持板和第二电机可以使增加金属镀层在硅基材上附着力设备快速对不同工件进行限位夹持，在硅基材上喷涂金属镀层前，将待喷涂金属镀层的硅基材放置在限位架的上方后，第二电机的输出端转动带动夹持板的位置移动，夹持板的一侧与放置在限位架上方的硅基材接触后，用于对硅基材进行快速的限位夹持。进行快速的限位夹持。进行快速的限位夹持。


技术研发人员：王黎明
受保护的技术使用者：江苏晟驰微电子有限公司
技术研发日：2023.07.03
技术公布日：2023/10/6