光照射装置以及光照射方法与流程

1.本说明书中公开的主题涉及光照射装置以及光照射方法。


背景技术：

2.以往，使用一种通过激光照射等光照射来加工对象物的光加工技术(例如，专利文献1)。
3.专利文献1：日本特开2006—272430号公报
4.例如，在显示面板的制造工序中，有时通过利用脉冲激光器输出的脉冲光等速地扫描基材的表面，来在基材的表面等间隔地描绘点状的图案(点图案)。另外，为了抑制制造成本及缩短制造工序，有时针对一张基材设定多个面板区域，即进行所谓的排版。在设定有这样的排版的基材上描绘上述点图案的情况下，在扫描方向上排列的面板区域之间，有时会发生应周期性地描绘的点图案的位置偏移即“相位偏移”。
5.在面板区域之间发生这样的相位偏移的情况下，在以往的光照射装置中，需要针对每个面板区域进行相位对准来描绘点图案。在这种情况下，每当对一个面板区域进行扫描时，进行脉冲激光的灭灯和亮灯，因此，加工时间会变长。
6.为了缩短加工时间，也可以考虑使用多个脉冲激光。通过使各个脉冲激光的发光的相位与各面板区域中的点图案的位置(相位)对准，能够对多个面板区域以不同的相位描绘点图案。但是，在这种情况下，由于脉冲激光通常价格昂贵，因此，装置成本根据脉冲激光的数量而增加。


技术实现要素：

7.本发明的目的在于，提供一种即使在发生点图案的相位偏移的情况下也能够容易地应对的技术。
8.为了解决上述问题，第一方式光照射装置，向基材的表面照射光，其中，具有：保持部，保持基材；脉冲光源，输出规定周期的脉冲光；至少一个扫描部，利用所述脉冲光在第一方向上扫描所述基材的表面；至少一个衍射型偏转元件，其为能够变更所述脉冲光的衍射角的元件，通过变更所述衍射角，使所述脉冲光在所述基材上的位置在所述第一方向上位移；以及控制部，控制至少一个所述扫描部和至少一个所述衍射型偏转元件。
9.第二方式的光照射装置，在第一方式的光照射装置中，所述基材具有在所述第一方向上彼此相邻的第一区域和第二区域，所述控制部在完成所述第一区域的扫描后，在开始所述第二区域的扫描之前，根据所述第二区域的位置来变更所述衍射型偏转元件的所述衍射角。
10.第三方式的光照射装置，在第二方式的光照射装置，所述控制部在从完成所述第一区域的扫描之后到开始所述第二区域的扫描之前的期间，关闭对所述基材的所述脉冲光的照射。
11.第四方式的光照射装置，在第三方式的光照射装置，所述控制部通过控制所述衍
射型偏转元件，来关闭对所述基材的所述脉冲光的照射。
12.第五方式的光照射装置，在第一方式至第四方式中的任一方式所述的光照射装置中，所述光照射装置还具有分支部，所述分支部使从所述脉冲光源输出的所述脉冲光分支为多个脉冲光，所述光照射装置具有与多个所述脉冲光对应的多个所述扫描部和多个所述衍射型偏转元件。
13.第六方式的光照射装置，在第一方式至第五方式中的任一方式所述的光照射装置中，所述衍射型偏转元件包括声光元件(aod)或电光元件(eod)。
14.第七方式的光照射装置，在第一方式至第六方式中的任一方式所述的光照射装置中，所述扫描部包括用于使所述脉冲光在所述第一方向上摆动的第一电流镜。
15.第八方式的光照射装置，在第七方式的光照射装置中，所述扫描部包括用于使所述脉冲光在与所述第一方向交叉的第二方向上摆动的第二电流镜。
16.第九方式的光照射装置，在第七方式或第八方式的光照射装置中，所述光照射装置还具有至少一个fθ透镜，至少一个所述fθ透镜在所述脉冲光的光路上位于所述第一电流镜和所述基材之间。
17.第十方式的光照射方法，向基材的表面照射光，其中，包括：工序a)，将基材保持于保持部；以及工序b)，在所述工序a)之后，利用由能够变更衍射角的衍射型偏转元件衍射的脉冲光在第一方向上扫描所述基材，所述衍射型偏转元件通过变更所述衍射角来使所述脉冲光在所述基材上的位置在第一方向上位移，所述工序b)包括：将所述衍射型偏转元件的所述衍射角从第一衍射角变更为第二衍射角的工序。
18.根据第一方式至第九方式的光照射装置，通过变更脉冲光的衍射角，能够使脉冲光在第一方向上位移。因此，在扫描中，能够使在基材上周期性地描绘的点图案的位置在第一方向上偏移。
19.根据第二方式的光照射装置，通过根据第二区域的位置来变更衍射型偏转元件的衍射方向，能够对第二区域从适当的位置开始点图案的描绘。
20.根据第三方式的光照射装置，能够抑制对第一区域的照射结束位置和第二区域的照射开始位置之间的光的照射。
21.根据第四方式的光照射装置，通过控制衍射型偏转元件，能够关闭照射。
22.根据第五方式的光照射装置，通过将从一个光源输出的脉冲光分支为多个脉冲光，与准备多台脉冲光源的情况相比，能够抑制成本。
23.根据第六方式的光照射装置，通过调节施加到声光元件或电光元件的晶体的超声波的频率，起到能够容易地控制衍射方向的效果。
24.根据第七方式的光照射装置，能够通过第一电流镜来使脉冲光在第一方向上摆动。
25.根据第八方式的光照射装置，能够使脉冲光二维地摆动。
26.根据第九方式的光照射装置，能够通过fθ透镜来将脉冲光缩小为期望的光束直径。另外，能够通过fθ透镜来将第一电流镜的等角速度运动转换为脉冲光在平面上的等速扫描。
27.根据第十方式的光照射方法，通过变更脉冲光的衍射角，能够使脉冲光在第一方向上位移。因此，在扫描中，能够使在基材上上周期性地描绘的点图案的位置在第一方向上
偏移。
附图说明
28.图1是概略地示出实施方式的光照射装置的结构的立体图。
29.图2是示出图1所示的光照射装置所具有的真空腔的内部结构和周边结构的剖视图。
30.图3是概略地示出图1和图2所示的光照射部的结构的俯视图。
31.图4是概略地示出图3所示的光照射部的结构的立体图。
32.图5是概略地示出图3和图4所示的光学系统的结构的立体图。
33.图6是概略地示出图5所示的光学系统中的脉冲光的光路的图。
34.图7是示出光照射部中的一个光学系统在基材上表面的扫描范围描绘的周期性的点图案的图。
35.图8是示出在面板区域之间点图案的相位没有偏移的情况的图。
36.图9是示出在面板区域之间点图案的相位偏移的情况的图。
37.附图标记的说明：
38.1：光照射装置
39.18：光照射部
40.22：控制部
41.31：脉冲光源
42.33：分支部
43.35：光学系统
44.42：载物台(保持部)
45.331：反射镜
46.333：分束器
47.353：声光元件(衍射型偏转元件)
48.357：电流扫描器(扫描部)
49.357a：第一电流镜
50.357b：第二电流镜
51.359：fθ透镜
52.a11：面板区域(第一区域)
53.a12：面板区域(第二区域)
具体实施方式
54.以下，参照附图对本发明的实施方式进行说明。需要说明的是，本实施方式中记载的结构构件仅为示例，并非意在将本发明的范围限定于此。在附图中，为了容易理解，根据需要有时将各部位的尺寸、数量夸大或简化地图示。
55.在图1及以后的各图中，有时示出了彼此交叉的分别表示x轴、y轴以及z轴的箭头。优选地，x轴、y轴以及z轴彼此正交。另外，将各箭头的顶端朝向的方向设为+(正)侧，将+侧的相反一侧设为-(负)侧。
56.在以下的说明中，将沿z轴的方向设为铅垂方向，将沿x轴和y轴的各方向设为与水平面平行的水平方向。另外，将+z侧设为“上侧”，将-z设为“下侧”来进行说明。但是，这些各方向并不限定装置结构的位置关系。
57.＜1.实施方式》
58.图1是概略地示出实施方式的光照射装置1的结构的立体图。在图1中，为了方便，省略了图示支撑真空腔12的腔框架或实际连接的布线等。
59.如图1所示，光照射装置1包括真空腔12、外部固定部14、波纹管16a、光照射部18、真空泵21以及控制部22。
60.真空腔12具有在内部容纳基材w的空间。基材w例如是半导体晶片、液晶显示装置用玻璃基板、有机el(electroluminescence，电致发光)显示装置等的fpd(flat panel display，平板显示器)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用玻璃基板、陶瓷基板、场发射显示器(fed：field emission display)用基板或太阳能电池用基板。此外，该基材w例如是在上表面形成有薄膜的状态的基板。
61.另外，真空腔12的侧面具有在搬入和搬出基材w时用于供基材w通过的开口部12a。当真空腔12内变为真空状态时，开口部12a适当地关闭。
62.外部固定部14例如是石台。波纹管16a连接真空腔12和外部固定部14。波纹管16a例如是由不锈钢等形成的伸缩性构件。作为伸缩性构件的波纹管16a也可以由不锈钢以外的金属或树脂形成。另外，伸缩性构件不一定必须是波纹形状。
63.光照射部18向真空腔12内照射光。光照射部18朝向容纳在真空腔12内的基材w的上表面照射光。光照射部18例如通过照射脉冲光来进行基材w的烧蚀(ablation)加工。
64.光照射部18经由未图示的照射窗(例如，由石英等形成的透明板)从真空腔12的外部向容纳在真空腔12内的基材w的上表面照射光。另外，通过使真空腔12内的基材w相对于光照射部18相对地移动或者通过光照射部18中的光学系统35的控制，使光扫描基材w的上表面。光照射部18位于安装在外部固定部14的台架24的上表面。
65.真空泵21使真空腔12内成为真空状态。在本发明中，“真空”优选为高真空(例如，0.00001pa)，以防止基材w的特性劣化，但也包括未达到该高真空程度的真空度。例如，真空腔12内的真空度也可以是比真空腔12外的大气压低的程度的真空度。
66.控制部22包括存储装置、处理电路、输入装置以及输出装置。存储装置例如由包括硬盘驱动器(hdd)、随机存取存储器(ram)、只读存储器(rom)、闪存器、易失性或非易失性的半导体存储器、磁盘、软盘、光盘、压缩盘、迷你盘或者dvd等的存储器(存储介质)构成。处理电路例如由执行存储装置中存储的程序的中央运算处理装置(cpu)构成。输入装置例如由鼠标、键盘、触摸面板或各种开关等可输入信息的装置构成。输出装置例如由显示器、液晶显示装置或灯等可输出信息的装置构成。
67.控制部22控制光照射装置1所具有的各驱动部。控制部22例如进行光照射部18的驱动控制及发光控制、真空泵21的驱动控制、后述的线性马达机构50的驱动控制等。
68.图2是示出图1所示的光照射装置1所具有的真空腔12的内部结构和周边结构的剖视图。如图2所示，在真空腔12内配置有载物台42、滑动件44、基座46、线性引导件48、线性马达机构50以及升降销机构52。
69.载物台42具有配置基材w的上表面。滑动件44能够在y轴方向上移动，并且从下方
支撑载物台42。基座46与真空腔12独立地安装于外部固定部14。线性引导件48安装于基座46，并且沿y轴方向延伸。线性马达机构50使滑动件44沿线性引导件48在y轴方向上移动。升降销机构52具有贯通形成于载物台42的贯通孔(未图示)而支撑基材w的升降销52a。升降销机构52例如安装于基座46。
70.载物台42使基材w的加工面朝向上方并将基材w保持为大致水平。滑动件44通过线性马达机构50沿y轴方向移动，并且来自光照射部18的光沿x轴方向移动，由此，在俯视下，通过光扫描基材w的整个加工区域。
71.线性马达机构50经由形成于真空腔12的-x侧面的开口部12b安装于位于真空腔12的+x侧和-x侧的外部固定部14。具体而言，线性马达机构50安装于穿过与开口部12b焊接的波纹管16a之中的中空的柱状构件14a的端部。与线性马达机构50连接的布线等穿过柱状构件14a的内部而被适当地导出至真空腔12的外部。柱状构件14a与波纹管16a分离地配置。
72.基座46经由形成于真空腔12的底面的开口部12c固定于位于真空腔12的-z侧的外部固定部14。具体而言，基座46安装于穿过与开口部12c焊接的波纹管16b之中的柱状构件14c的端部。柱状构件14c安装于外部固定部14所包括的外部构件14b。柱状构件14c与连接到真空腔12的底面的波纹管16b分离配置。
73.此外，在图2所示的例子中，外部固定部14遍及真空腔12的+x侧、-x侧以及-z侧的各位置配置，但外部固定部14在这些位置未必是连续的，也可以分散地配置在这些位置。另外，外部固定部14也可以配置在真空腔12的+x侧、-x侧以及-z侧的各位置中的一部分。另外，真空腔12也可以与波纹管16b分开地被腔框架(未图示)从铅垂方向下方支撑并被固定，但该腔框架也可以与外部固定部14独立地配置。
74.图3是概略地示出图1和图2所示的光照射部18的结构的俯视图。图4是概略地示出图3所示的光照射部18的结构的立体图。如图3和图4所示，光照射部18具有脉冲光源31、分支部33以及8个光学系统35。此外，在图4中仅示出了8个光学系统35中的3个光学系统35。需要说明的是，光学系统35的数量不限于8个。光学系统35的数量可以是7个以下，也可以是9个以上。
75.脉冲光源31是输出规定周期的脉冲光的脉冲激光。分支部33具有多个(例如5个)反射镜331和多个(例如7个)分束器333。分支部33将从脉冲光源31输出的脉冲光利用各分束器333分支为8个脉冲光。被分支部33分支的各脉冲光输入到各光学系统35。通过将各分束器333设定为适当的反射率和适当的透射率，将脉冲光分支为输入到各光学系统35的脉冲光的光量相同。
76.光学系统35将输入的脉冲光引导至保持在载物台42的基材w。8个光学系统35在x方向上等间距地配置。
77.图5是概略地示出图3和图4所示的光学系统35的结构的立体图。在图5中示出了8个光学系统35中从+x侧数起的第三个光学系统35。如图5所示，光学系统35具有楔形板(wedge plate)351、声光元件(aod：acousto-optic device)353、光束扩展器355、电流扫描器357以及fθ透镜359。
78.楔形板351位于声光元件353的跟前(脉冲光源31侧)。楔形板351使脉冲光偏转，以使从声光元件353射出的1次光的光路与入射到楔形板351的光平行。并且，在声光元件353的后方配置有倾斜的平行平板(未图示)。通过该平行平板，从声光元件353射出的1次光的
光路返回到向楔形板351入射之前的光轴。
79.输入到光学系统35的脉冲光在通过楔形板351后输入到声光元件353。声光元件353是衍射型偏转元件的一例。声光元件353是通过利用压电元件使可透射脉冲光的晶体振动，来在晶体内形成折射率的周期性的变动(疏密波)，并将该疏密波作为衍射光栅来利用的光学元件。
80.声光元件353中的衍射光栅的光栅宽度通过施加于晶体的振动频率来调整。通过该光栅宽度的调整，脉冲光的衍射角(衍射方向)根据布拉格定律变更为任意的角度。在晶体中形成的衍射光栅相对于光栅面的角度(即布拉格角)为θ的情况下，衍射角为2θ。施加于声光元件353的晶体的振动频率基于控制部22的控制信号而变更。即，声光元件353的衍射角基于控制部22的指令而变更。
81.需要说明的是，衍射型偏转元件不限于声光元件。作为衍射型偏转元件也可以使用例如电光元件(eod：electro optical device)。电光元件具有脉冲光能够透射的晶体，即通过施加电流(施加电压)来使折射率等光学特性变化的晶体。
82.光束扩展器355将从声光元件353输出的脉冲光的光束直径扩大到所需的大小。光束扩展器355由多个透镜构成。
83.电流扫描器357是将从光束扩展器355输出的脉冲光在x轴方向和y轴方向上摆动的机构。电流扫描器357具有第一电流镜(galvanometer mirror)357a和第二电流镜357b。第一电流镜357a具有与y轴平行的反射面，并且以沿y轴方向延伸的轴为中心在规定角度的范围内旋转驱动。第二电流镜357b具有与z轴平行的反射面，以沿z轴方向延伸的轴为中心在规定角度的范围内旋转驱动。从光束扩展器355输出的脉冲光先被第二电流镜357b反射，然后被第一电流镜357a反射。第一电流镜357a和第二电流镜357b的驱动由控制部22控制。此外，第一电流镜357a和第二电流镜357b的朝向或姿势等可以根据装置的制约等任意地设定。例如，可以使电流镜357b相对于z轴围绕y轴倾斜规定的角度(例如，5～15
°
)。在该情况下，声光元件353也相对于z轴围绕y轴倾斜相同的角度。
84.电流扫描器357是扫描部的一例。需要说明的是，扫描部不限于电流扫描器357，也可以具有多面反射镜。另外，也可以通过使基材w相对于电流扫描器357的脉冲光沿x轴方向移动，来进行x轴方向的扫描。
85.声光元件353和电流扫描器357以在光束扩展器355光学系统中成为大致共轭关系的位置关系配置。通过这样的配置，可以减小电流扫描器357的反射镜尺寸，因此有利于高速扫描。
86.fθ透镜359在脉冲光的光路上位于电流扫描器357和基材w之间。fθ透镜359将从电流扫描器357输出的脉冲光的光束直径缩小为期望的光束直径。另外，fθ透镜359将电流扫描器357的等角速度运动转换为在基材w的平面上的脉冲光的等速扫描。
87.图6是概略地示出光学系统35中的脉冲光的光路的图。在声光元件353中，如果使施加到晶体的振动频率微小地变化，则声光元件353的衍射角发生变化，1次光l1的光路发生微小地变化。例如，图6中，如箭头所示，1次光l1从用虚线表示的位置向用实线表示的位置移动。
88.声光元件353配置为通过衍射角的变更来使基材w上的脉冲光的照射位置在x轴方向上变化。因此，通过在扫描中调节声光元件353的衍射角，能够使脉冲光相对于基材w的照
射位置在x轴方向上瞬时地位移。
89.另外，如图6所示，在声光元件353中，当关闭向晶体施加的超声波时，透过了声光元件353的晶体的脉冲光(0次光l0)入射到遮光板36。由此，停止对基材w的脉冲光的照射。此外，也可以通过在脉冲光的光路上配置遮光构件来遮蔽脉冲光，而不将脉冲光调制为0次光l0。
90.图7是示出光照射部18中的一个光学系统35在基材w上表面的扫描范围r1描绘的周期性的点图案d1的图。控制部22通过驱动第一电流镜357a来进行x轴方向(第一方向)的扫描。通过该扫描，以与脉冲光源31的脉冲周期相对应的间距在基材w上描绘点图案d1。在使第一电流镜357a以恒定的角速度旋转的情况下，描绘出以等间距排列的点图案d1的列。例如，在将脉冲光源31的重复频率设为100khz，扫描速度设为10m/sec的情况下，以100μm间隔描绘点图案d1。
91.当完成1次扫描时，控制部22进行驱动第二电流镜357b，使脉冲光的照射位置在y轴方向(第二方向)上偏移1行的量，并且使第一电流镜357a返回到初始位置的返回动作。在该返回动作的期间，由声光元件353遮断脉冲光。在返回动作之后，控制部22再次进行扫描。由此，在基材w上描绘下一列的点图案d1。这样，控制部22通过反复进行1次扫描和返回动作，来在各光学系统35可扫描的扫描范围r1描绘点图案d1。此外，如图4所示，也可以设定为在x方向上相邻的光学系统35的扫描范围r1在x方向上重叠。
92.需要说明的是，也可以省略第二电流镜357b。在该情况下，电流扫描器357通过第一电流镜357a仅在x轴方向上进行一维扫描。
93.如图4所示，有时对基材w设定多个面板区域a1、即进行所谓的多面排版。以下，参照图8和图9说明在x轴方向上相邻的两个面板区域的边界部分中的点图案d1的描绘。
94.图8和图9是示出在x轴方向上相邻的面板区域a11、a12之间的边界部分br1中的点图案d1的描绘例的图。在图8和图9中，示出了施加到声光元件353的晶体的振动频率。另外，图8示出了在面板区域a11、a12之间点图案d1的相位没有偏移的情况，图9示出了在面板区域a11、a12之间点图案d1的相位发生偏移的情况。
95.在面板区域a11、a12之间，点图案d1的相位没有偏移的情况下，如图8所示，在扫描面板区域a11(第一区域)的期间和扫描面板区域a12(第二区域)的期间，控制部22施加相同的振动频率n。由此，在面板区域a11、a12的各扫描中，声光元件353的衍射角相同，因此，脉冲光不会在x轴方向上位移。因此，在面板区域a11、a12，以相同的相位描绘点图案d1。
96.此外，在边界部分br1中，不需要描绘点图案d1的情况下，如图8所示，控制部22在从面板区域a11的扫描完成到面板区域a12的扫描开始前的期间，使频率变为零，暂时停止脉冲光的照射。由此，边界部分br1中的点图案d1描绘被抑制。
97.在面板区域a11、a12之间，点图案d1的相位发生偏移的情况下，如图9所示，控制部22在面板区域a11的扫描中施加振动频率f1，而在面板区域a12的扫描中施加与振动频率fl不同的振动频率f2。由此，在面板区域a11的扫描完成后到面板区域a12的扫描开始前，声光元件353的脉冲光的衍射角从与振动频率f1对应的第一衍射角变更为与振动频率f2对应的第二衍射角。通过该衍射角的变更，脉冲光的照射位置在x轴方向(在图9所示的例中为+x方向)上位移δx。因此，在面板区域a12上描绘的点图案d1的相位位移ax。位移量δx根据面板区域a12的位置，更详细而言，根据面板区域a12中描绘点图案d1的位置来设定。
98.图9所示的例子使脉冲光的照射位置向+x位移。但是，声光元件353的衍射角也可以变更为使脉冲光的照射位置向-x方向位移。
99.如图9所示，在边界部分br1中不需要描绘点图案d1的情况下，在面板区域a11的扫描完成后到面板区域a12的扫描开始前的期间，通过将频率设定为零，暂时停止脉冲光的照射。
100.《效果》
101.根据光照射装置1，通过变更作为衍射型偏转元件的声光元件353的衍射角，来使脉冲光的照射位置在x轴方向上位移。因此，通过调节声光元件353的衍射角，能够变更点图案d1的相位。因此，即使在面板区域a11、a12之间发生点图案d1的相位偏移的情况下，也能够容易地对应。
102.另外，在声光元件353中，振动频率的变更与脉冲光源31的脉冲周期相比，能够充分高速地进行。由此，即使在利用第一电流镜357a扫描的期间，也能够迅速地使脉冲光位移。
103.另外，根据光照射装置1，通过分支部33将从脉冲光源31输出的脉冲光分支为多个脉冲光，并利用多个脉冲光来进行扫描。因此，能够抑制脉冲光源的数量，从而能够抑制装置成本。另外，根据光照射装置1，由于能够同时用多个脉冲光来扫描基材w，因此，能够扩大照射范围。另外，由于在各光学系统35中设置有声光元件353，因此，能够针对每个光学系统35变更点图案d1的相位。由此，任意的光学系统35都能够应对点图案d1的相位偏移，因此，能够对应任意的排版的图案。
104.详细说明了本发明，上述说明在所有方面均为例示，本发明并不仅限于此。应理解为在不脱离本发明的范围的情况下能够想到未例示的众多变形例。只要不相互矛盾，上述各实施方式及各变形例中所说明的各个结构能够适当组合或省略。

技术特征：
1.一种光照射装置，向基材的表面照射光，其中，具有：保持部，保持基材；脉冲光源，输出规定周期的脉冲光；至少一个扫描部，利用所述脉冲光在第一方向上扫描所述基材的表面；至少一个衍射型偏转元件，其为能够变更所述脉冲光的衍射角的元件，通过变更所述衍射角，使所述脉冲光在所述基材上的位置在所述第一方向上位移；以及控制部，控制至少一个所述扫描部和至少一个所述衍射型偏转元件。2.根据权利要求1所述的光照射装置，其中，所述基材具有在所述第一方向上彼此相邻的第一区域和第二区域，所述控制部在完成所述第一区域的扫描后，在开始所述第二区域的扫描之前，根据所述第二区域的位置来变更所述衍射型偏转元件的所述衍射角。3.根据权利要求2所述的光照射装置，其中，所述控制部在从完成所述第一区域的扫描之后到开始所述第二区域的扫描之前的期间，停止对所述基材的所述脉冲光的照射。4.根据权利要求3所述的光照射装置，其中，所述控制部通过控制所述衍射型偏转元件，来停止对所述基材的所述脉冲光的照射。5.根据权利要求1至4中任一项所述的光照射装置，其中，所述光照射装置还具有分支部，所述分支部使从所述脉冲光源输出的所述脉冲光分支为多个脉冲光，所述光照射装置具有与多个所述脉冲光对应的多个所述扫描部和多个所述衍射型偏转元件。6.根据权利要求1至5中任一项所述的光照射装置，其中，所述衍射型偏转元件包括声光元件或电光元件。7.根据权利要求1至6中任一项所述的光照射装置，其中，所述扫描部包括用于使所述脉冲光在所述第一方向上摆动的第一电流镜。8.根据权利要求7所述的光照射装置，其中，所述扫描部包括用于使所述脉冲光在与所述第一方向交叉的第二方向上摆动的第二电流镜。9.根据权利要求7或8所述的光照射装置，其中，所述光照射装置还具有至少一个fθ透镜，至少一个所述fθ透镜在所述脉冲光的光路上位于所述第一电流镜和所述基材之间。10.一种光照射方法，向基材的表面照射光，其中，包括：工序a)，将基材保持于保持部；以及工序b)，在所述工序a)之后，利用由能够变更衍射角的衍射型偏转元件衍射的脉冲光在第一方向上扫描所述基材，所述衍射型偏转元件通过变更所述衍射角来使所述脉冲光在所述基材上的位置在第一方向上位移，
所述工序b)包括：将所述衍射型偏转元件的所述衍射角从第一衍射角变更为第二衍射角的工序。

技术总结
本发明提供一种即使在发生点图案的相位偏移的情况下也能够容易地应对的技术。光照射装置(1)向基材(W)的表面照射光。光照射装置(1)具有：载物台(42)，保持基材；脉冲光源(31)，输出规定周期的脉冲光；至少一个电流扫描器(357)，利用脉冲光在X轴方向上扫描基材(W)的表面；至少一个声光元件(353)，其为能够变更脉冲光的衍射角的元件，通过变更衍射角，使脉冲光在基材(W)上的位置在X轴方向上移动；以及控制部(22)，控制电流扫描器(357)和声光元件(353)。(353)。(353)。


技术研发人员：冈淳一
受保护的技术使用者：株式会社斯库林集团
技术研发日：2023.03.21
技术公布日：2023/9/26