硅片切割液回收系统及方法与流程

1.本技术涉及单晶硅切片技术领域，特别是涉及硅片切割液回收系统及方法。


背景技术：

2.光伏行业或半导体行业在对硅片进行切片操作时,会产生大量的切割液废水，直接排放不但会造成切割液的浪费，还会造成环境污染，基于此，各生产车间会对硅片切割液进行回收处理。
3.目前硅片切割液回收过程主要如下：将车间产生的切割废液经压滤后形成压滤水排放至清液罐，同时清液罐还连通持续流入的纯水和新切割液，清液罐用于将压滤水、纯水和新切割液三者混合后的清液水供车间切割使用，并以此进行循坏。
4.但上述循坏过程中每一次循坏所形成的清液水中的成分比例难以一致，清液水的形成容易受到车间用水量大小的影响；当车间机台用水量小时所形成的切割废液量少，从而导致提供给清液罐中的压滤水量减少，使得最终形成的清液水中新切割液的含量相对较高，容易导致切割良率波动大；当车间机台用水量大时所形成的切割废液量多，从而导致提供给清液罐中的压滤水量增多，使得最终形成的清液水中新切割液的含量相对较低，容易引起断线率的上升。


技术实现要素：

5.基于此，有必要针对目前每一次循环形成的清液水中的成分比例难以保持一致的问题，提供一种硅片切割液回收系统及方法。
6.一种硅片切割液回收系统，所述硅片切割液回收系统包括控制单元、废水压滤单元、水质调节单元和清液回用单元，其中：
7.所述废水压滤单元用于压滤车间切割废液后形成压滤水并输送所述压滤水至所述水质调节单元；
8.所述水质调节单元包括与所述废水压滤单元相连通的清液罐、与所述清液罐相连通的补水模块和新切割液补充模块，所述补水模块用于输送自身存储的纯水至所述清液罐，所述新切割液补充模块用于输送自身存储的新切割液至所述清液罐，所述清液罐中的所述纯水、所述新切割液及所述压滤水三者混合形成清液水；
9.所述控制单元包括控制模块及设置于所述清液罐的采集模块，所述采集模块用于采集所述清液罐内液体的液位，所述控制模块与所述采集模块、所述废水压滤单元、所述补水模块及所述新切割液补充模块通信连接，所述控制模块根据所述液位依次控制所述补水模块、所述新切割液补充模块及所述废水压滤单元的输液启停；
10.所述清液回用单元的一端与所述清液罐相连通，另一端与车间切割设备相连通，用于输送所述清液水至所述切割设备。
11.在其中一个实施例中，所述清液回用单元包括清液进水管、缓冲罐、清液回流管及进水泵，所述清液进水管的两端分别连通所述清液罐与所述缓冲罐，所述清液回流管的两
端分别连通所述缓冲罐与所述切割设备，所述进水泵设置于所述清液进水管。
12.在其中一个实施例中，所述控制单元包括在线检测模块，所述在线检测模块设置于所述清液罐并与所述控制模块通信连接，所述在线检测模块用于监测所述清液水的水质指标，所述控制模块在所述废水压滤单元停止输液后根据所述水质指标控制所述清液回用单元的启停。
13.在其中一个实施例中，所述废水压滤单元包括依次相连通的废液收集池、压滤模块及传送模块，所述传送模块与所述清液罐相连通且与所述控制模块通信连接，所述压滤模块用于压滤所述车间传送至所述废液收集池中的所述切割废液后形成所述压滤水，所述传送模块用于输送所述压滤模块中的所述压滤水至所述清液罐。
14.在其中一个实施例中，所述压滤模块包括第一传送管、压滤罐及压滤机，所述第一传送管的两端分别与所述废液收集池和所述压滤罐相连通，所述压滤机设置于所述第一传送管。
15.在其中一个实施例中，所述压滤模块还包括脏水箱及第二传送管，所述脏水箱设置于所述废液收集池与所述压滤机之间，所述第二传送管的两端分别与所述废液收集池和所述脏水箱相连通，所述第一传送管的两端分别与所述脏水箱和所述压滤罐相连通。
16.在其中一个实施例中，所述传送模块包括第三传送管及第一输送泵，所述第三传送管的两端分别与所述压滤模块和所述清液罐相连通，所述第一输送泵设置于所述第三传送管且与所述控制模块通信连接。
17.在其中一个实施例中，所述补水模块包括纯水罐、纯水管及第二输送泵，所述纯水管的两端分别与所述纯水罐和所述清液罐相连通，所述第二输送泵设置于所述纯水管且与所述控制模块通信连接。
18.在其中一个实施例中，所述新切割液补充模块包括补液罐、补液管及第三输送泵，所述补液管的两端分别与所述补液罐和所述清液罐相连通，所述第三输送泵设置于所述补液管且与所述控制模块通信连接。
19.上述硅片切割液回收系统，通过设置控制模块根据采集模块反馈的清液罐内的液位，先控制补水模块输送纯水并在纯水液位达到设定值后依次控制新切割液补充模块及废水压滤单元的输液，以此实现纯水、压滤水及新切割液三者按设定比例配置，并在三者按设定比例配置形成清液水后，利用清液回用单元将清液水输送至切割设备。通过上述设置，将现有技术中的纯水、新切割液及压滤水三者持续动态性的向切割设备的输入，改为待上述三种液体按设定比例配置形成清液水后再输送至切割设备，较为方便地实现了每次循环后清液水中三种成分的比例一致。
20.本技术还提供了一种如上述任一实施例所述的硅片切割液回收系统的回收方法，包括如下步骤：
21.所述采集模块采集所述清液罐内液体的液位，并将所述液位传送至所述控制模块；
22.所述控制模块根据所述液位依次控制所述补水模块、所述新切割液补充模块及所述废水压滤单元一一对应地将自身存储的纯水、新切割液及压滤水按预设量输送至所述清液罐；
23.所述清液回用单元将所述清液罐中所述纯水、所述新切割液及所述压滤水三者混
合形成的清液水输送至所述切割设备。
24.上述基于硅片切割液回收系统的回收方法，通过步骤s1采集模块采集清液罐内液体的液位并将液位传送至控制模块；便于步骤s2中控制模块根据液位，先控制补水模块输送纯水至清液罐并在纯水液位达到设定值后，再控制新切割液补充模块按预设量输送新切割液至清液罐，然后控制废水压滤单元按预设量输送压滤水至清液罐，以此实现纯水、压滤水及新切割液三者按设定比例配置；接着通过步骤s3、利用清液回用单元将清液罐中纯水、压滤水及新切割液三者按设定比例配置形成清液水输送至切割设备。通过上述设置，将现有技术中的纯水、新切割液及压滤水三者持续动态性的向切割设备的输入，改为待上述三种液体按设定比例配置形成清液水后再输送至切割设备，较为方便地实现了每次循环后清液水中三种成分的比例一致。
附图说明
25.图1为本技术提供的硅片切割液回收系统的示意图。
26.图2为本技术提供的基于硅片切割液回收系统的回收方法。
27.其中：
28.10、硅片切割液回收系统；20、车间；
29.100、废水压滤单元；110、废液收集池；120、压滤模块；121、第一传送管；122、压滤罐；123、压滤机；124、脏水箱；125、第二传送管；130、传送模块；131、第三传送管；
30.200、水质调节单元；210、清液罐；220、补水模块；221、纯水罐；222、纯水管；230、新切割液补充模块；231、补液罐；232、补液管；
31.300、清液回用单元；310、清液进水管；320、缓冲罐；330、清液回流管。
具体实施方式
32.为使本技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本技术。但是本技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本技术内涵的情况下做类似改进，因此本技术不受下面公开的具体实施例的限制。
33.在本技术的描述中，需要理解的是，若有出现这些术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等，这些术语指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
34.此外，若有出现这些术语“第一”、“第二”，这些术语仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本技术的描述中，若有出现术语“多个”，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
35.在本技术中，除非另有明确的规定和限定，若有出现术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等，这些术语应做广义理解。例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一
体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
36.在本技术中，除非另有明确的规定和限定，若有出现第一特征在第二特征“上”或“下”等类似的描述，其含义可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
37.需要说明的是，若元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。若一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。如若存在，本技术所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
38.参阅图1，图1示出了本技术一实施例中的硅片切割液回收系统10的示意图，本技术一实施例提供的硅片切割液回收系统10包括控制单元、及依次相连通的废水压滤单元100、水质调节单元200和清液回用单元300，其中：
39.废水压滤单元100用于压滤车间切割废液后形成压滤水并输送压滤水至水质调节单元200，在具体设置时，车间20切割设备使用后产生的切割废液通过管道输送至废水压滤单元100，废水压滤单元100对切割废液进行压滤实现硅粉与液体的固液分离，并将分离出的压滤水输送至水质调节单元200；
40.水质调节单元200包括与废水压滤单元100相连通的清液罐210、与清液罐210相连通的补水模块220和新切割液补充模块230，补水模块220用于输送自身存储的纯水至清液罐210，新切割液补充模块230用于输送自身存储的新切割液至清液罐210，清液罐210中的纯水、新切割液及压滤水三者混合形成清液水；在具体设置时，废水压滤单元100将压滤水输送至清液罐210，通过上述设置，实现了输送至清液罐210的压滤水和纯水对输送至清液罐210的新切割液进行稀释混合后形成清液水；
41.控制单元包括控制模块及设置于清液罐210的采集模块，采集模块用于采集清液罐210内液体的液位，控制模块与采集模块、废水压滤单元100、补水模块220及新切割液补充模块230通信连接，控制模块根据液位依次控制补水模块220、新切割液补充模块230及废水压滤单元100的输液启停；在具体工作时，控制模块内设置有第一预设值、第二预设值及第三预设值，第一预设值为补充纯水需要的液位值，第二预设值为补充纯水与补充新切割液的总值，第三预设值为补充纯水、补充新切割液及补充压滤水需要的总值，清液罐210为空时优先控制补水模块220向清液罐210输送纯水并根据采集模块反馈的液位判断纯水的输入量是否达到第一预设值，当达到第一预设值时停止输入纯水；然后控制新切割液补充模块230向清液罐210输送新切割液并根据采集模块反馈的液位判断罐内液体是否达到第二预设值，当达到第二预设值时停止输入新切割液；再控制废水压滤单元100向清液罐210输送压滤水并根据采集模块反馈的液位判断罐内液体是否达到第三预设值，当达到第三预设值时停止输入压滤水，以此实现纯水、压滤水及新切割液三者按设定比例配置；
42.清液回用单元300的一端与清液罐210相连通，清液回用单元300的另一端与车间20切割设备相连通，清液回用单元300用于输送清液罐210中调配好的清液水至切割设备。在具体设置时，待清液罐210中的纯水、压滤水及新切割液三者按设定比例配置形成清液水后，清液回用单元300将清液水输送至切割设备。
43.上述硅片切割液回收系统10，通过设置控制模块根据采集模块反馈的清液罐210内的液位，先控制补水模块220输送纯水并在纯水液位达到设定值后依次控制新切割液补充模块230及废水压滤单元100的输液，以此实现纯水、压滤水及新切割液三者按设定比例配置，并在三者按设定比例配置形成清液水后，利用清液回用单元300将清液水输送至切割设备。通过上述设置，将现有技术中的纯水、新切割液及压滤水三者持续动态性的向切割设备的输入，改为待上述三种液体按设定比例配置形成清液水后再输送至切割设备，较为方便地实现了每次循环后清液水中三种成分的比例一致。
44.为了保证向切割设备输入的清液水比例一致的同时，硅片切割液系统还保持动态循环，不需要每循环一次后停止车间20切割直至清液水形成再启动，一种优选实施方式，清液回用单元300用于存储清液罐210输送来的清液水再将清液水输送至切割设备，通过将清液水直接从清液罐210输送至切割设备改为先将清液水输送至清液回用单元300缓存，再由清液回用单元300将自身缓存的清液水输送至切割设备，保证清液回用单元300具有足够的清液水便不影响清液罐持续调配清液水。具体实施时，清液回用单元300包括清液进水管310、缓冲罐320、清液回流管330及进水泵，清液进水管310的两端分别连通清液罐210与缓冲罐320，清液回流管330的两端分别连通缓冲罐320与切割设备，进水泵设置于清液进水管310。在具体设置时，缓冲罐320用于缓存从清液罐210输送来的清液水。
45.通过上述设置，当第一次循环在清液罐210形成清液水后，打开进水泵利用清液进水管310将清液水全部输送至缓冲罐320存储后，通过清液回流管330将缓冲罐320的清液水输送至切割设备的同时，清液罐210内进行第二次水质调配，保证在缓冲罐320中的清液水输送完毕前，清液罐210内又形成了新的清液水，以此实现片切割液系统的动态循环。在具体操作时，可以人工打开进水泵，并在输送全部清液水至缓冲罐320后人工关闭，也可以是进水泵与控制模块通信连接，控制模块在停止废水压滤单元100输送压滤水后按预设时间启停进水泵。
46.为了保证水质调节单元200调配的清液水符合水质要求，一种优选实施方式，控制单元包括在线检测模块，在线检测模块设置于清液罐210并与控制模块通信连接，在线检测模块用于监测清液水的水质指标，控制模块在废水压滤单元100停止输液后根据水质指标控制清液回用单元300的启停。在具体设置时，在线检测模块包括与控制模块通信连接的液体表面张力仪、化学需氧量(cod)仪及液体浓度剂，通过上述仪器测量清液水的表张、浓度、及cod多项指标反馈至控制模块，控制模块与进水泵通信连接，当控制模块判断出水质指标符合要求时控制进水泵的启动并在设定时间关闭进水泵；同时上述指标通过显示屏实时显示供工人查看，便于工人发现指标不对时可以手动关闭进水泵并对清液罐210内的清液水进行相关调节直至满足需求，也便于工人知晓指标符合要求后手动开启进水泵。
47.为了较为方便地实现废水压滤单元100压滤切割废液并输送压滤水，一种优选实施方式，废水压滤单元100包括依次相连通的废液收集池110、压滤模块120及传送模块130，传送模块130与清液罐210相连通且与控制模块通信连接，压滤模块120用于压滤车间传送
至废液收集池110中的切割废液后形成压滤水，传送模块130用于输送压滤模块120中的压滤水至清液罐210。在具体设置时，废液收集池110通过管道与车间20切割设备相连通并用于收集切割废液。
48.为了较为方便地形成压滤水，具体地，压滤模块120包括第一传送管121、压滤罐122及压滤机123，第一传送管121的两端分别与废液收集池110和压滤罐122相连通，压滤机123设置于第一传送管121。在具体设置时，压滤罐122用于存压滤水，通过上述设置，利用第一传送管121先输送废液收集池110中的切割废液至压滤机123，通过压滤机123实现切割废液中硅料与液体的分离，且分离出的液体顺着第一传送管121输送至压滤罐122中形成压滤水。
49.为了便于对切割废液进行压滤，更具体地，压滤模块120还包括脏水箱124及第二传送管125，脏水箱124设置于废液收集池110与所述压滤机123之间，第二传送管125的两端分别与废液收集池110和脏水箱124相连通，第一传送管121的两端分别与脏水箱124和压滤罐122相连通。在具体设置时，压滤机123设置于第一传送管121，脏水箱124中加入助滤剂提高后续的压滤效率。通过上述设置，第二传送管125将废液收集池110中的切割废液传送至脏水箱124，在脏水箱124中助滤剂的作用下使得切割废液变得清净，之后通过第一传送管121达到压滤机123进行压滤并形成压滤水，形成的压滤水顺着第一传送管121流动至压滤罐122中。
50.为了较为方便地实现传送模块130输送压滤水至清液罐210，具体地，传送模块130包括第三传送管131及第一输送泵，第三传送管131的两端分别与压滤模块120和清液罐210相连通，第一输送泵设置于第三传送管131且与控制模块通信连接。在具体设置时，第三传送管131与压滤模块120中的压滤罐122相连通。通过上述设置，启动第一输送泵可将压滤罐122中的压滤水通过第三传送管131泵入清液罐210，在达到预设液位后关闭第一输送泵。
51.为了较为方便地实现补水模块220输送纯水至清液罐210，一种优选实施方式，补水模块220包括纯水罐221、纯水管222及第二输送泵，纯水管222的两端分别与纯水罐221和清液罐210相连通，第二输送泵设置于纯水管222且与控制模块通信连接。在具体设置时，纯水罐221用于存储纯水，通过上述设置，启动第二输送泵可将纯水罐221中的纯水通过纯水管222泵入清液罐210，在达到预设液位后关闭第二输送泵。
52.为了较为方便地实现新切割液模块输送新切割液至清液罐210，一种优选实施方式，新切割液补充模块230包括补液罐231、补液管232及第三输送泵，补液管232的两端分别与补液罐231和清液罐210相连通，第三输送泵设置于补液管232且与控制模块通信连接。通过上述设置，启动第三输送泵可将补液罐231中的新切割液通过补液管232泵入清液罐210，在达到预设液位后关闭第三输送泵。在具体设置时，补液罐231用于存储新切割液，补液管232可以与纯水管222合并为一个t型管，t型管的下侧与清液罐210相连通，t型管上侧的左右两端分别与纯水罐221和补液罐231相连通，第二输送泵与第三输送泵分别对应地设置于t型管上侧的左右两端。
53.本技术还提供了一种采用上述任一实施例所述的硅片切割液回收系统10的回收方法，包括如下步骤：
54.步骤s1、采集模块采集清液罐210内液体的液位，并将液位传送至控制模块，在具体设置时，采集模块为液位计，采集模块可以是光纤水位计，采集模块还可以是玻璃管水位
计，玻璃管水位计用于显示液位值；
55.步骤s2、控制模块根据液位依次控制补水模块220、新切割液补充模块230及废水压滤单元100一一对应地将自身存储的纯水、新切割液及压滤水按预设量输送至清液罐210，不难理解地，本技术优先在清液罐210中输入纯水，然后输入新切割液，其次输入压滤水是为了更充分地稀释新切割液，使得新切割液与纯水及压滤水的混合均匀，但混合顺序不限于上述方式，纯水、新切割液及压滤水三者输入清液罐210的先后顺序可以是任意的；
56.步骤s3、清液回用单元300将清液罐210中纯水、新切割液及压滤水三者混合形成的清液水输送至切割设备，较为方便地实现了硅片切割液的回收利用。
57.需要说明的是，当采集模块是光纤水位计等具有传感功能的液位计时，控制模块可以是plc控制器，控制模块根据光纤水位计反馈的液位先控制第二输送泵工作，向清液罐210输送纯水；待纯水达到设定液位后控制第二输送泵关闭并打开第三输送泵，向清液罐210输送新切割液；待新切割液达到设定液位后控制第三输送泵关闭并打开第一输送泵，向清液罐210输送压滤水；待压滤水达到设定液位后控制第一输送泵关闭；判断此时在线检测模块反馈的指标是否符合预设值，在符合预设值时打开进水泵。
58.当采集模块是玻璃管水位计等用于显示液位值的液位计时，则依靠人工的方式实现水质的调配，取消控制模块的设置。首先人工打开第二输送泵，向清液罐210输送纯水，人工观察纯水达到所需液位后关闭第二输送泵；然后人工打开第三输送泵，向清液罐210输送新切割液，人工观察新切割液达到所需液位后关闭第三输送泵；接着打开第一输送泵，向清液罐210输送压滤水，人工观察压滤水达到所需液位后关闭第一输送泵；然后根据在线检测模块显示的指标判断清液水否符合预设值，在符合预设值时人工打开进水泵，在不符合预设指标值时人工对清液水进行调节。为了保证人工调配清液水的准确性，第三传送管131、纯水管222及补液管232上均安装有液体流量监测仪，便于根据液体流量监测仪显示的数据精准的启闭相关泵。在具体设置时，清液罐210的形状一般设置为矩形体、圆柱体等结构，方便对清液罐210的体积进行计算，也便于对纯水、新切割液及压滤水的添加量进行计算，实际添加液体量(t)＝底面积(s)
×
液位(h)。
59.上述基于硅片切割液回收系统10的回收方法，通过步骤s1采集模块采集清液罐210内液体的液位并将液位传送至控制模块；便于步骤s2中控制模块根据液位，先控制补水模块220输送纯水至清液罐210并在纯水液位达到设定值后，再控制新切割液补充模块230按预设量输送新切割液至清液罐210，然后控制废水压滤单元100按预设量输送压滤水至清液罐210，以此实现纯水、压滤水及新切割液三者按设定比例配置；接着通过步骤s3、利用清液回用单元300将清液罐210中纯水、压滤水及新切割液三者按设定比例配置形成清液水输送至切割设备。通过上述设置，将现有技术中的纯水、新切割液及压滤水三者持续动态性的向切割设备的输入，改为待上述三种液体按设定比例配置形成清液水后再输送至切割设备，较为方便地实现了每次循环后清液水中三种成分的比例一致。
60.以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
61.以上所述实施例仅表达了本技术的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对申请专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来
说，在不脱离本技术构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本技术的保护范围。因此，本技术专利的保护范围应以所附权利要求为准。

技术特征：
1.一种硅片切割液回收系统，其特征在于，所述硅片切割液回收系统包括控制单元、废水压滤单元、水质调节单元和清液回用单元，其中：所述废水压滤单元用于压滤车间切割废液后形成压滤水并输送所述压滤水至所述水质调节单元；所述水质调节单元包括与所述废水压滤单元相连通的清液罐、与所述清液罐相连通的补水模块和新切割液补充模块，所述补水模块用于输送自身存储的纯水至所述清液罐，所述新切割液补充模块用于输送自身存储的新切割液至所述清液罐，所述清液罐中的所述纯水、所述新切割液及所述压滤水三者混合形成清液水；所述控制单元包括控制模块及设置于所述清液罐的采集模块，所述采集模块用于采集所述清液罐内液体的液位，所述控制模块与所述采集模块、所述废水压滤单元、所述补水模块及所述新切割液补充模块通信连接，所述控制模块根据所述液位依次控制所述补水模块、所述新切割液补充模块及所述废水压滤单元的输液启停；所述清液回用单元的一端与所述清液罐相连通，另一端与车间切割设备相连通，用于输送所述清液水至所述切割设备。2.根据权利要求1所述的硅片切割液回收系统，其特征在于，所述清液回用单元包括清液进水管、缓冲罐、清液回流管及进水泵，所述清液进水管的两端分别连通所述清液罐与所述缓冲罐，所述清液回流管的两端分别连通所述缓冲罐与所述切割设备，所述进水泵设置于所述清液进水管。3.根据权利要求1所述的硅片切割液回收系统，其特征在于，所述控制单元包括在线检测模块，所述在线检测模块设置于所述清液罐并与所述控制模块通信连接，所述在线检测模块用于监测所述清液水的水质指标，所述控制模块在所述废水压滤单元停止输液后根据所述水质指标控制所述清液回用单元的启停。4.根据权利要求1所述的硅片切割液回收系统，其特征在于，所述废水压滤单元包括依次相连通的废液收集池、压滤模块及传送模块，所述传送模块与所述清液罐相连通且与所述控制模块通信连接，所述压滤模块用于压滤所述车间传送至所述废液收集池中的所述切割废液后形成所述压滤水，所述传送模块用于输送所述压滤模块中的所述压滤水至所述清液罐。5.根据权利要求4所述的硅片切割液回收系统，其特征在于，所述压滤模块包括第一传送管、压滤罐及压滤机，所述第一传送管的两端分别与所述废液收集池和所述压滤罐相连通，所述压滤机设置于所述第一传送管。6.根据权利要求5所述的硅片切割液回收系统，其特征在于，所述压滤模块还包括脏水箱及第二传送管，所述脏水箱设置于所述废液收集池与所述压滤机之间，所述第二传送管的两端分别与所述废液收集池和所述脏水箱相连通，所述第一传送管的两端分别与所述脏水箱和所述压滤罐相连通。7.根据权利要求4所述的硅片切割液回收系统，其特征在于，所述传送模块包括第三传送管及第一输送泵，所述第三传送管的两端分别与所述压滤模块和所述清液罐相连通，所述第一输送泵设置于所述第三传送管且与所述控制模块通信连接。8.根据权利要求1所述的硅片切割液回收系统，其特征在于，所述补水模块包括纯水罐、纯水管及第二输送泵，所述纯水管的两端分别与所述纯水罐和所述清液罐相连通，所述
第二输送泵设置于所述纯水管且与所述控制模块通信连接。9.根据权利要求1所述的硅片切割液回收系统，其特征在于，所述新切割液补充模块包括补液罐、补液管及第三输送泵，所述补液管的两端分别与所述补液罐和所述清液罐相连通，所述第三输送泵设置于所述补液管且与所述控制模块通信连接。10.一种采用如权利要求1-9任一项所述的硅片切割液回收系统的回收方法，其特征在于，包括如下步骤：所述采集模块采集所述清液罐内液体的液位，并将所述液位传送至所述控制模块；所述控制模块根据所述液位依次控制所述补水模块、所述新切割液补充模块及所述废水压滤单元一一对应地将自身存储的纯水、新切割液及压滤水按预设量输送至所述清液罐；所述清液回用单元将所述清液罐中所述纯水、所述新切割液及所述压滤水三者混合形成的清液水输送至所述切割设备。

技术总结
本申请涉及一种硅片切割液回收系统及方法。硅片切割液回收系统包括控制单元、废水压滤单元、水质调节单元和清液回用单元，水质调节单元包括清液罐、分别输送纯水和新切割液至清液罐的补水模块和新切割液补充模块；废水压滤单元用于输送压滤切割废液后形成的压滤水至清液罐；控制单元包括设于清液罐的采集模块、与采集模块、废水压滤单元、补水模块及新切割液补充模块通信连接的控制模块，控制模块根据采集模块采集的清液罐内液体的液位依次控制补水模块、新切割液补充模块及废水压滤单元的输液启停；清液回用单元用于输送清液罐中配好的清液水至切割设备。将三种液体按比例配成清液水后输送至切割设备，使得每次循环后清液水中的成分比例一致。水中的成分比例一致。水中的成分比例一致。


技术研发人员：朱超 梁海波 方保华 金小俊
受保护的技术使用者：句容协鑫光伏科技有限公司
技术研发日：2023.06.20
技术公布日：2023/9/23