一种OLED的复合柔性衬底结构的制备方法与流程

一种oled的复合柔性衬底结构的制备方法
技术领域
1.本发明属于显示器的制造技术领域，具体是指一种oled的复合柔性衬底结构的制备方法。


背景技术：

2.有机发光二极管(organiclight-emittingdiode，oled)显示器，具备自发光、高亮度、宽视角、高对比度、可挠曲、低能耗等特性，已逐步取代传统液晶显示器。现有的柔性oled显示器一般包括柔性tft背板以及设于柔性tft背板上的oled器件。
3.聚酰亚胺(pi)具有优异的柔韧性和化学稳定性，可以耐受一定的温度，而且质轻，可实现卷对卷工艺，是目前主要的柔性oled的衬底材料，但仍存在如下问题：1、表面粗糙度大，影响后续的成膜质量；2、水氧阻隔性差，水汽透过率为0.4～21g/m2.day，氧气透过率为0.04～17cm3/m2.day，影响oled器件的寿命；3、高温尺寸稳定性差，热膨胀系数为30～60ppm/k(-55～85℃)，在衬底上制备tft过程中，有些工艺需要在较高温度下完成，尤其采用ltps技术时，非晶硅到多晶硅转变温度高达400～500℃，容易造成衬底受热变形翘曲。
4.中国发明专利cn108428666a公布了一种复合柔性衬底结构，在聚酰亚胺(pi)衬底从下至上依次沉积数层相互层叠的氮化硅薄膜与氧化硅薄膜、及位于最上层的氧化铝薄膜，以改善pi衬底的表面粗糙度和提高衬底的水汽阻隔性能，但氮化硅、氧化硅、氧化铝等材料热导率较低，衬底上制备tft过程中产生的热量无法快速传导到外界，容易聚集在衬底，导致衬底受热变形翘曲。中国发明专利cn111370577a公布了另一种柔性衬底结构，其采用在聚酰亚胺(pi)衬底中引入石墨烯增强体，其中石墨烯增强体包括片层石墨烯基体和金属纳米颗粒，在保证衬底良好弯折特性和抗变形能力的同时，提高衬底的热传导性能，但是该方案只提高了衬底的热传导性能，并不能改善衬底的水汽阻隔性能和衬底表面粗糙度。


技术实现要素：

5.本发明所要解决的技术问题在于提供一种导热性好的oled的复合柔性衬底结构的制备方法，改善pi衬底的表面粗糙度，提高衬底的水汽阻隔性能。
6.本发明是这样实现的：
7.一种oled的复合柔性衬底结构的制备方法，包括如下步骤：
8.步骤s1：通过喷墨印刷、丝网印刷或狭缝涂布的方法形成高分子有机衬底层，厚度为1-5μm；
9.步骤s2：通过化学气相沉积或原子沉积的方法制备无机缓冲层，厚度为300-1000nm；
10.步骤s3：采用化学气相沉积法、磁控溅射沉积法、或脉冲激光沉积法方法制备vo2相变导热层，厚度为300-500nm。
11.进一步地，所述高分子有机衬底层，为pi、pet或pen中的其中一种。
12.进一步地，所述无机缓冲层，为氮化硅、氧化硅或氧化铝中的其中一种。
13.本发明的优点在于：
14.1、无机缓冲层可以修饰高分子有机衬底表面，为后续成膜提供平坦表面，而且无机膜较致密，可提高衬底的阻隔水氧性能；
15.2、vo2薄膜具有较低的相变温度(在60-80℃时，由单斜相转变为四方相)，可吸收后续tft制造过程中释放的热量，而且发生相变后，材料的热导率能够提高60％，进一步将热量沿横向传导至外界，避免最底下的高分子有机衬底受热变形翘曲，同时vo2薄膜较致密，能进一步提高衬底的阻隔水氧性能。
附图说明
16.下面参照附图结合实施例对本发明作进一步的描述。
17.图1是本发明的复合柔性衬底结构示意图。
具体实施方式
18.如图1所示，一种oled的复合柔性衬底结构的制备方法，包括如下步骤：
19.步骤s1：通过喷墨印刷、丝网印刷或狭缝涂布的方法形成高分子有机衬底层1，厚度为1-5μm；
20.步骤s2：通过化学气相沉积(cvd)或原子沉积(ald)的方法制备无机缓冲层，厚度为300-1000nm；
21.步骤s3：采用化学气相沉积法(cvd)、磁控溅射沉积法、或脉冲激光沉积法方法(pld)制备vo2相变导热层，厚度为300-500nm。
22.高分子有机衬底层1，为聚酰亚胺(pi)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)或聚萘二甲酸乙二醇酯(pen)中的其中一种，具有优异的柔韧性，起支撑作用。
23.无机缓冲层2，为氮化硅、氧化硅或氧化铝中的其中一种，可以修饰高分子有机衬底表面，为后续成膜提供平坦表面，保证成膜质量，而且无机膜较致密，可提高衬底的阻隔水氧性能。
24.vo2相变导热层3(也可以称为vo2薄膜)具有较低的相变温度(在60-80℃时，由单斜相转变为四方相)，可吸收后续tft制造过程中释放的热量，而且发生相变后，材料的热导率能够提高60％，进一步将热量沿横向传导至外界，避免最底下的高分子有机衬底受热变形翘曲，同时vo2薄膜较致密，能进一步提高衬底的阻隔水氧性能。
25.上述实施例和图式并非限定本发明的产品形态和式样，任何所属技术领域的普通技术人员对其所做的适当变化或修饰，皆应视为不脱离本发明的专利范畴。


技术特征：
1.一种oled的复合柔性衬底结构的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：步骤s1：通过喷墨印刷、丝网印刷或狭缝涂布的方法形成高分子有机衬底层，厚度为1-5μm；步骤s2：通过化学气相沉积或原子沉积的方法制备无机缓冲层，厚度为300-1000nm；步骤s3：采用化学气相沉积法、磁控溅射沉积法、或脉冲激光沉积法方法制备vo2相变导热层，厚度为300-500nm。2.如权利要求1所述的一种oled的复合柔性衬底结构的制备方法，其特征在于：所述高分子有机衬底层，为聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚萘二甲酸乙二醇酯中的其中一种。3.如权利要求1所述的一种oled的复合柔性衬底结构的制备方法，其特征在于：所述无机缓冲层，为氮化硅、氧化硅或氧化铝中的其中一种。

技术总结
一种OLED的复合柔性衬底结构的制备方法，包括：通过喷墨印刷、丝网印刷或狭缝涂布的方法形成高分子有机衬底层；通过化学气相沉积或原子沉积的方法制备无机缓冲层；采用化学气相沉积法、磁控溅射沉积法、或脉冲激光沉积法方法制备VO2相变导热层。无机缓冲层，为氮化硅、氧化硅或氧化铝中的其中一种。无机缓冲层可以修饰高分子有机衬底表面，为后续成膜提供平坦表面，而且无机膜较致密，可提高衬底的阻隔水氧性能；VO2薄膜具有较低的相变温度，可吸收后续TFT制造过程中释放的热量，发生相变后，材料的热导率能够提高60％，避免最底下的高分子有机衬底受热变形翘曲，同时VO2薄膜较致密，能进一步提高衬底的阻隔水氧性能。一步提高衬底的阻隔水氧性能。一步提高衬底的阻隔水氧性能。


技术研发人员：林啟维
受保护的技术使用者：华映科技（集团）股份有限公司
技术研发日：2023.06.28
技术公布日：2023/9/23