层叠体的制造方法、电路配线的制造方法、电子器件的制造方法及感光性转印材料与流程

1.本发明涉及一种层叠体的制造方法、电路配线的制造方法、电子器件的制造方法及感光性转印材料。
背景技术：
：：2.在具备静电电容型输入装置等的触摸面板的显示装置(有机电致发光(el)显示装置及液晶显示装置等)中，在触摸面板内部，设置有相当于视觉辨认部的传感器的电极图案、周边配线部分及引出配线部分的配线等的导电层图案。3.通常，在图案化的层的形成中，由于用于获得所需的图案形状的工序数量少，因此广泛使用如下方法，即，对于利用感光性转印材料设置在任意的基板上的感光性树脂组合物的层，经由具有所期望的图案的掩模进行曝光之后而显影的方法。4.并且，作为以往的感光性树脂层叠体辊，已知有专利文献1中所记载的感光性树脂层叠体辊。5.在专利文献1中，记载有一种感光性树脂层叠体辊，其通过将感光性树脂层叠体卷成辊而形成，所述感光性树脂层叠体具备支承薄膜和形成于上述支承薄膜上的包含感光性树脂组合物的感光性树脂组合物层，所述感光性树脂层叠体辊中，上述支承薄膜具有在上述支承薄膜的彼此不同的任意10处，切割0.75mm×11mm的小片时的各小片中所包含的直径2μm以上的微粒的数量在所述10处的数均为200个以下的区域，上述支承薄膜的背面包含算术平均粗糙度为0.01μm以上区域。6.专利文献1：日本特开2019-101405号公报技术实现要素：7.发明要解决的技术课题8.本发明的一实施方式所要解决的课题在于提供一种具有针孔缺陷少的树脂图案的层叠体的制造方法。9.本发明的另一实施方式所要解决的课题在于提供一种使用通过上述层叠体的制造方法得到的层叠体的电路配线的制造方法及电子器件的制造方法。10.并且，本发明的又一实施方式所要解决的课题在于提供一种可以得到针孔缺陷少的树脂图案的感光性转印材料。11.用于解决技术课题的手段12.在用于解决上述课题的方案中包含以下方式。13.《1》一种层叠体的制造方法，其包括：14.贴合工序，以具有临时支承体和包含感光性层的转印层的感光性转印材料的转印层侧与基板接触的方式，将上述感光性转印材料与上述基板贴合；曝光工序，对上述感光性层进行曝光；及显影工序，对上述感光性层进行显影而形成树脂图案，在将上述曝光工序中的感光性层的极限分辨度定义为xμm，将粒子及空隙的基准直径定义为y＝0.5×x所表示的yμm的情况下，上述曝光工序中的感光性层的表面及内部的具有yμm以上的直径的粒子及空隙的个数为15个/cm2以下。15.《2》根据《1》所述的层叠体的制造方法，其中，16.上述感光性层的厚度为5.0μm以下。17.《3》根据《1》或《2》所述的层叠体的制造方法，其中，18.上述临时支承体的厚度为16μm以下。19.《4》根据《1》至《3》中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，20.上述树脂图案具有线宽为10μm以下的树脂图案。21.《5》根据《1》至《4》中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，22.在上述贴合工序与上述曝光工序之间，包括剥离上述临时支承体的剥离工序。23.《6》根据《1》至《5》中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，24.在上述曝光工序中，使上述转印层与掩模接触而进行曝光处理。25.《7》根据《1》至《6》中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，26.上述转印层还包含热塑性树脂层及水溶性树脂层。27.《8》根据《1》至《7》中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，28.上述感光性层包含多官能聚合性化合物。29.《9》根据《1》至《8》中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，30.上述感光性层包含3官能以上的聚合性化合物。31.《10》根据《1》至《9》中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，32.上述感光性层包含具有聚环氧乙烷结构的聚合性化合物。33.《11》一种电路配线的制造方法，其依次包括：34.准备工序，准备通过《1》至《10》中任一项所述的层叠体的制造方法得到的层叠体；及蚀刻工序，对未配置有上述树脂图案的区域中的上述基板进行蚀刻处理。35.《12》一种电子器件的制造方法，其依次包括：36.准备工序，准备通过《1》至《10》中任一项所述的层叠体的制造方法得到的层叠体；及蚀刻工序，对未配置有上述树脂图案的区域中的上述基板进行蚀刻处理。37.《13》一种感光性转印材料，其具有临时支承体和包含感光性层的转印层，在将上述感光性层的极限分辨度定义为xtμm，将粒子的基准直径定义为yt＝0.5×xt所表示的ytμm的情况下，上述感光性层的表面及内部的具有ytμm以上的直径的粒子的个数为15个/cm2以下。38.《14》根据《13》所述的感光性转印材料，其中，39.上述感光性层的厚度为5.0μm以下。40.《15》根据《13》或《14》所述的感光性转印材料，其中，41.上述临时支承体的厚度为16μm以下。42.发明效果43.根据本发明的一实施方式，能够提供一种具有针孔缺陷少的树脂图案的层叠体的制造方法。44.根据本发明的另一实施方式，能够提供一种使用通过上述层叠体的制造方法得到的层叠体的电路配线的制造方法及电子器件的制造方法。45.并且，根据本发明的又一实施方式，能够提供一种可以得到针孔缺陷少的树脂图案的感光性转印材料。附图说明46.图1是表示感光性转印材料的结构的一例的示意图。47.图2是表示图案a的示意俯视图。48.图3是表示图案b的示意俯视图。具体实施方式49.以下，对本发明的内容进行说明。另外，参考附图进行说明，但有时省略符号。50.另外，在本说明书中，使用“～”表示的数值范围是指，将记载于“～”前后的数值作为下限值及上限值而包含的范围。51.并且，在本说明书中，“(甲基)丙烯酸”表示丙烯酸及甲基丙烯酸这两者或任意一种，“(甲基)丙烯酸酯”表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯这两者或任意一种，“(甲基)丙烯酰基”表示丙烯酰基及甲基丙烯酰基这两者或任意一种。52.此外，在本说明书中，关于组合物中的各成分的量，在组合物中存在多个相当于各成分的物质的情况下，只要没有特别说明，则是指组合物中存在的相应的多个物质的合计量。53.在本说明书中，“工序”这一术语不仅是指独立的工序，即使在无法与其他工序明确区分的情况下，只要达成工序的所期望的目的，则也包含在本术语中。54.在本说明书中的基团(原子团)的标记中，未标注有经取代及未经取代的标记包含不具有取代基的基团及具有取代基的基团。例如，“烷基”不仅包含不具有取代基的烷基(未经取代的烷基)，还包含具有取代基的烷基(经取代的烷基)。55.只要没有特别说明，则在本说明书中，“曝光”不仅包含使用光的曝光，还包含使用电子束、离子束等粒子束的描绘。并且，作为曝光中所使用的光，通常可以举出汞灯的明线光谱、以准分子激光为代表的远紫外线、极紫外线(euv光)、x射线、电子束等的活性光线(活性能量射线)。56.并且，本说明书中的化学结构式有时也以省略了氢原子的简略结构式记载。57.在本发明中，“质量％”和“重量％”的含义相同，“质量份”和“重量份”的含义相同。58.并且，在本发明中，2个以上的优选方式的组合为更优选的方式。59.并且，只要没有特别说明，本发明中的重均分子量(mw)及数均分子量(mn)是如下得到的分子量：通过使用tskgelgmhxl、tskgelg4000hxl、tskgelg2000hxl(均为tosohcorporation制的商品名)的管柱的凝胶渗透色谱(gpc)分析装置，利用溶剂thf(四氢呋喃)、差示折射计进行检测，并将聚苯乙烯用作标准物质进行换算。60.在本说明书中，“总固体成分”是指，从组合物的总组成中去除溶剂后的成分的总质量。并且，如上所述，“固体成分”是指，去除溶剂后的成分，例如，在25℃下可以为固体，也可以为液体。61.(层叠体的制造方法)62.本发明所涉及的层叠体的制造方法包括：贴合工序，以具有临时支承体和包含感光性层的转印层的感光性转印材料的转印层侧与基板接触的方式，将上述感光性转印材料与上述基板贴合；曝光工序，对上述感光性层进行曝光；及显影工序，对上述感光性层进行显影而形成树脂图案，在将上述曝光工序中的感光性层的极限分辨度定义为xμm，将粒子及空隙的基准直径定义为y＝0.5×x所表示的yμm的情况下，上述曝光工序中的感光性层的表面及内部的具有yμm以上的直径的粒子及空隙的个数为15个/cm2以下。63.随着导电图案的高清化，换言之，所需分辨率的提高，由感光性层的感光性层的表面及内部的异物及空隙(例如，粗大粒子、气泡等)引起的导电图案的故障(尤其，针孔)越来越明显。感光性层的表面及内部的粒子及空隙阻碍感光性层的曝光引起的固化，从而引起树脂图案的故障(例如，针孔)。例如，在用于形成导电图案的蚀刻中，将包含针孔的树脂图案用作保护膜时，导电图案中会产生针孔。因此，要求减少树脂图案中产生的针孔。64.以下对显现上述效果的推测理由进行说明。65.例如，在专利文献1中所公开的技术中，通过限制直径2μm以上的粒子的数量，避免了由临时支承体中所包含的异物引起的分辨度的降低。但是，引起曝光障碍的粒子及空隙的大小根据所需分辨度而变动。随着所需分辨度变小，在以往的技术中被允许的微小粒子及空隙也会阻碍感光性层的曝光。因此，本发明人关注于相对于感光性层的分辨度的、感光性层的表面及内部的粒子及空隙的大小及个数的关系。通过有关感光性层的分辨度与引起曝光障碍的粒子及空隙的大小的关系的验证，本发明人明确了，相对于感光性层的极限分辨度(xμm)，具有y(y＝0.5×x)μm以上的直径的粒子及空隙会导致曝光障碍的产生率增加。根据从感光性层的极限分辨度(xμm)导出的粒子及空隙的基准直径(yμm)，将感光性层的表面及内部的具有yμm以上的直径的粒子及空隙的个数调节为15个/cm2以下，由此能够降低曝光障碍的产生率。因此，根据本发明所涉及的层叠体的制造方法，可以提供一种具有针孔缺陷少的树脂图案的层叠体的制造方法。66.《感光性层的表面及内部的具有yμm以上的直径的粒子及空隙的个数》67.本发明所涉及的层叠体的制造方法中，将上述曝光工序中的感光性层的极限分辨度定义为xμm，将粒子及空隙的基准直径定义为y＝0.5×x所表示的yμm的情况下，上述曝光工序中的感光性层的表面及内部的具有yμm以上的直径的粒子及空隙的个数为15个/cm2以下，从抑制针孔缺陷的观点而言，优选为10个/cm2以下，更优选为7个/cm2以下，尤其优选为5个/cm2以下。另外，下限值为0个/cm2。68.以下示出本发明中的感光性层的极限分辨度的测定方法。69.将层叠体使用超高压汞灯经由线与空间图案掩模(占空比为1：1，线宽从1μm到20μm每隔1μm阶段性变化。)对感光性层进行曝光。70.根据需要，剥离临时支承体之后显影。关于显影，使用25℃的1.0质量％碳酸钠水溶液，通过喷淋显影进行30秒。71.通过显影感光性层，形成树脂图案。72.一边每次调节曝光量(单位：mj/cm2)一边实施上述的一系列步骤，直到得到具有与掩模的图案对应的最小线宽的树脂图案(以下，在本段中称为“基准图案”。)。采用基准图案的最小线宽作为感光性层的极限分辨度xμm。73.另外，从感光性转印材料测定的情况下，通过使用了真空层压机(mckco.，ltd.，制，辊温度：100℃，线压：1.0mpa，线速度：0.5m/分)的卷对卷方式，使感光性转印材料和pet基板贴合在厚度为100μm的聚对苯二甲酸乙二酯(pet)薄膜上，制作层叠体之后，使用高压灭菌器装置，在0.6mpa及60℃的条件下，进行30分钟加压脱泡之后，进行上述感光性层的极限分辨度的测定。74.以下示出本发明中的感光性层的表面及内部的具有yμm以上的直径的粒子及空隙的个数的测定方法。75.根据需要，使用光学显微镜目视观察剥离临时支承体之后的层叠体中的感光性层的表面中的任意10处的区域(各区域的大小：10mm×10mm，合计面积：1,000mm2)。测定包含在各区域的直径为yμm以上的异物及空隙的个数。基于在10处区域中测定的yμm以上的粒子及空隙的个数的合计值，计算测定区域的每1cm2的yμm以上的粒子及空隙的个数(个/cm2)。76.另外，粒子和空隙可以一并测定，也可以分别测定。77.本发明所涉及的层叠体的制造方法包括：贴合工序，以具有临时支承体和包含感光性层的转印层的感光性转印材料的转印层侧与基板接触的方式，将上述感光性转印材料与上述基板贴合；曝光工序，对上述感光性层进行曝光；及显影工序，对上述感光性层进行显影而形成树脂图案。78.并且，本发明所涉及的层叠体的制造方法优选在上述贴合工序与上述曝光工序之间，包括剥离上述临时支承体的剥离工序。79.此外，根据需要，本发明所涉及的层叠体的制造方法优选在上述贴合工序之前，包括剥离保护膜的保护膜剥离工序。80.《保护膜剥离工序》81.本发明所涉及的层叠体的制造方法优选包括从上述感光性转印材料剥离上述保护膜的工序。关于剥离保护膜的方法，并没有限制，能够适用公知的方法。82.《贴合工序》83.本发明所涉及的层叠体的制造方法包括贴合工序。84.在贴合工序中，优选使感光性转印材料中的上述转印层与基板(在基板的表面设置有导电层的情况下，为导电层)接触，使感光性转印材料与基板压接。若为上述方式，则感光性转印材料中的上述转印层与基板的密合性得到提高，因此曝光及显影后的图案形成的感光性层能够优选用作对导电层进行蚀刻时的蚀刻抗蚀剂。85.另外，关于本发明所涉及的层叠体的制造方法中所使用的感光性转印材料的优选方式，将在后面一并叙述。86.并且，贴合工序中，在感光性转印材料在感光性层的不与临时支承体对向的一侧的表面进一步具备除了保护膜以外的层(例如高折射率层和/或低折射率层)的情况下，成为感光性层的不具有临时支承体的一侧的表面与基板隔着该层而贴合的方式。87.作为使基板与感光性转印材料压接的方法，并没有特别限制，能够使用公知的转印方法及层压方法。88.关于感光性转印材料向基板的贴合，优选通过使感光性转印材料中的相对于上述临时支承体具有感光性层的一侧的最外层与基板重叠，并利用辊等机构进行加压及加热来进行。在贴合中，能够使用层压机、真空层压机及能够进一步提高生产率的自动切割层压机等公知的层压机。89.作为层压温度，并没有特别限制，例如，优选为70℃～130℃。90.本发明所涉及的层叠体的制造方法优选通过卷对卷方式来进行。91.以下，对卷对卷方式进行说明。92.所谓卷对卷方式，是指如下方式：作为基板使用能够卷取及卷出的基板，包括在本发明所涉及的层叠体的制造方法中所包括的任一工序之前卷出基板或包含基板的结构体的工序(也称为“卷出工序”。)和在任一工序之后卷取基板或包含基板的结构体的工序(也称为“卷取工序”。)，并且一边输送基板或包含基板的结构体一边进行至少任一工序(优选为所有的工序、或除了加热工序以外的所有的工序)。93.作为卷出工序中的卷出方法及卷取工序中的卷取方法，并没有特别限制，在适用卷对卷方式的制造方法中，使用公知的方法即可。94.《基板》95.作为本发明所涉及的层叠体的制造方法中所使用的基板，可以使用公知的基板，但优选为具有导电层的基板，更优选为在基板的表面具有导电层。96.基板根据需要可以具有除了导电层以外的任意的层。97.作为基板，例如，可以举出树脂基板、玻璃基板及半导体基板。98.作为基板的优选方式，例如，可以举出国际公开第2018/155193号的0140段中所记载的方式，其内容被编入本说明书中。99.作为构成基板的基材，例如，可以举出玻璃、硅及薄膜。100.构成基板的基材优选透明。在本说明书中，所谓“透明”是指波长400nm～700nm的光的透射率为80％以上。101.并且，构成基板的基板的折射率优选为1.50～1.52。102.作为透明的玻璃基板，可以举出以corningincorporated的大猩猩玻璃为代表的钢化玻璃。并且，作为透明的玻璃基板，能够使用日本特开2010-86684号公报、日本特开2010-152809号公报及日本特开2010-257492号公报中所使用的材料。103.在使用薄膜基板作为基板的情况下，优选使用光学应变小和/或透明度高的薄膜基板。作为这样的薄膜基板，例如，可以举出聚对苯二甲酸乙二酯(pet)、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、三乙酰纤维素及环烯烃聚合物。104.作为基板，在利用卷对卷方式制造的情况下，优选为薄膜基板。并且，在通过卷对卷方式制造触摸面板用的电路配线的情况下，优选基板为薄片状树脂组合物。105.作为基板所具有的导电层，可以举出通常的电路配线或触摸面板配线中所使用的导电层。106.作为导电层，从导电性及细线形成性的观点而言，优选为选自金属层、导电性金属氧化物层、石墨烯层、碳纳米管层及导电聚合物层中的至少1种的层，更优选为金属层，进一步优选为铜层或银层。107.基板可以单独具有1层导电层，也可以具有2层以上。在具有2层以上的导电层的情况下，优选具有不同材质的导电层。108.作为导电层的材料，可以举出金属及导电性金属氧化物。109.作为金属，可以举出al、zn、cu、fe、ni、cr、mo、ag及au。110.作为导电性金属氧化物，可以举出ito(氧化铟锡)、izo(氧化铟锌)及sio2。111.另外，在本说明书中，所谓“导电性”是指体积电阻率小于1×106ωcm。导电性金属氧化物的体积电阻率优选小于1×104ωcm。112.在使用具有多个导电层的基板来制造树脂图案的情况下，多个导电层中的至少一个导电层优选含有导电性金属氧化物。113.作为导电层，优选相当于静电电容型触摸面板中所使用的视觉辨认部的传感器的电极图案或外围引出部的配线。114.作为导电层的优选方式，例如，可以举出国际公开第2018/155193号的0141段中所记载的方式，其内容被编入本说明书中。115.作为具有导电层的基板，优选为具有透明电极及迂回布线中的至少一个的基板。如上所述的基板能够优选用作触摸面板用基板。116.透明电极能够优选作为触摸面板用电极发挥作用。透明电极优选由ito(氧化铟锡)及izo(氧化铟锌)等金属氧化膜、以及金属网及银纳米线等金属细线构成。117.作为金属细线，可以举出银、铜等细线。其中，优选银网、银纳米线等银导电性材料。118.作为迂回布线的材质，优选金属。119.作为迂回布线的材质的金属，可以举出金、银、铜、钼、铝、钛、铬、锌及锰以及由这些金属元素中的2种以上构成的合金。作为迂回布线的材质，优选铜、钼、铝或钛，尤其优选铜。120.以保护电极等(即，触摸面板用电极及触摸面板用配线的至少一方)为目的，使用本发明中所使用的感光性转印材料所形成的触摸面板用电极保护膜优选以直接或经由其他层而覆盖电极等的方式进行设置。121.《临时支承体剥离工序》122.本发明所涉及的层叠体的制造方法优选在贴合工序与曝光工序之间，包括剥离临时支承体的临时支承体剥离工序。123.关于临时支承体的剥离方法，并没有特别限制，能够使用与日本特开2010-072589号公报的0161～0162段中所记载的覆盖膜剥离机构相同的机构。124.《曝光工序》125.本发明所涉及的层叠体的制造方法包括曝光工序。126.曝光工序中的曝光处理为图案状的曝光处理(也称为“图案曝光”。)，即，存在曝光部和非曝光部的方式的曝光处理。127.关于图案曝光中的曝光区域与未曝光区域的位置关系，并没有特别限制，可以适当调整。128.关于图案曝光中的图案的详细的配置及具体的尺寸，并没有特别限制。例如，为了提高具备具有通过蚀刻方法制造的电路配线的输入装置的显示装置(例如触摸面板)的显示品质，并且减小引出配线所占的面积，图案的至少一部分(优选为触摸面板的电极图案和/或引出配线的部分)优选包含宽度为20μm以下的细线，更优选包含宽度为10μm以下的细线。129.并且，从进一步发挥本发明中的效果的观点而言，所得到的树脂图案优选具有线宽为20μm以下的树脂图案，更优选具有线宽为10μm以下的树脂图案，进一步优选具有线宽为8μm以下的树脂图案，尤其优选具有线宽为5μm以下的树脂图案。130.关于曝光中所使用的光源，只要是照射能够对感光性层进行曝光的波长的光(例如，365nm或405nm)的光源，则能够适当选定而使用。具体而言，可以举出超高压汞灯、高压汞灯、金属卤化物灯及led(lightemittingdiode：发光二极管)。131.作为曝光量，优选为5mj/cm2～200mj/cm2，更优选为10mj/cm2～100mj/cm2。132.作为曝光中所使用的光源、曝光量及曝光方法的优选方式，例如，可以举出在国际公开第2018/155193号的0146～0147段中所记载的方式，这些内容被编入本说明书中。133.在曝光工序中，可以在从转印层剥离临时支承体之后进行图案曝光，也可以在剥离临时支承体之前隔着临时支承体进行图案曝光，然后剥离临时支承体。在曝光前剥离临时支承体的情况下，掩模可以与转印层接触而进行曝光，也可以不接触而使其靠近进行曝光。在不剥离临时支承体而进行曝光的情况下，掩模可以与临时支承体接触而进行曝光，也可以不接触而使其靠近进行曝光。为了防止由转印层与掩模的接触引起的掩模污染及避免附着在掩模上的异物对曝光的影响，优选不剥离临时支承体而进行图案曝光。另外，关于曝光方式，在接触曝光的情况下，能够适当选择并使用接触曝光方式，在非接触曝光方式的情况下，能够适当选择并使用接近式曝光方式、透镜系统或反射镜系统的投影曝光方式、使用了曝光激光等的直接曝光方式。在透镜系统或反射镜系统的投影曝光的情况下，根据所需的分辨率、焦点深度，能够使用具有适当的透镜的开口数(na)的曝光机。在直接曝光方式的情况下，可以直接对感光性层进行描绘，也可以经由透镜对感光性层进行缩小投影曝光。并且，曝光不仅可以在大气下进行，也可以在减压、真空下进行，并且，也可以在光源与转印层之间隔着水等液体而进行曝光。134.并且，在曝光工序中，从分辨率的观点而言，优选使上述转印层与掩模接触而进行曝光处理。135.《显影工序》136.本发明所涉及的层叠体的制造方法包括显影工序。137.能够利用显影液来进行显影工序中的经曝光的感光性层的显影。138.作为显影液，只要能够去除感光性层的非图像部，则没有特别限制，例如，能够使用日本特开平5-72724号公报中所记载的显影液等公知的显影液。139.作为显影液，优选为以0.05mol/l～5mol/l(升)的浓度包含pka＝7～13的化合物的碱水溶液系的显影液。显影液可以含有水溶性的有机溶剂和/或表面活性剂。140.作为碱性水溶液中可以包含的碱性化合物，例如，可以举出氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸钾、碳酸氢钠、碳酸氢钾、氢氧化四甲基铵、氢氧化四乙基铵、氢氧化四丙基铵、氢氧化四丁基铵及胆碱(2-羟基乙基三甲基氢氧化铵)。141.作为显影液，也优选举出国际公开第2015/093271号的0194段中所记载的显影液。作为优选使用的显影方式，例如，可以举出国际公开第2015/093271号的0195段中所记载的显影方式。142.作为显影方式，并没有特别限制，可以为旋覆浸没式显影、喷淋显影、喷淋及旋转显影以及浸渍显影中的任一种。所谓喷淋显影，是通过利用喷淋将显影液喷射到曝光后的感光性层而去除非图像部的显影处理。143.优选在显影工序之后，通过喷淋喷射清洗剂，一边利用刷子擦拭，一边去除显影残渣。144.关于显影液的液温，并没有特别限制，优选为20℃～40℃。145.《表面附着粒子去除工序》146.本发明所涉及的层叠体的制造方法优选在曝光工序之前，优选为临时支承体剥离工序之后且曝光工序之前，包括对附着在转印层或临时支承体的表面的粒子进行去除的表面附着粒子去除工序。147.作为表面附着粒子去除工序中的粒子去除方法，可以优选举出使粘结辊或清洁辊与转印层或临时支承体的表面接触而去除的方法。148.粘结辊或清洁辊的材质、大小及接触压力等能够根据期望而适当选择。149.《其他工序》150.本发明所涉及的层叠体的制造方法可以包括除了上述工序以外的任意的工序(其他工序)。例如，可以举出以下的工序，但并不限于这些工序。151.并且，作为能够适用于本发明所涉及的层叠体的制造方法的曝光工序、显影工序及其他工序，可以举出日本特开2006-23696号公报的0035～0051段中所记载的工序。152.《用途》153.通过本发明所涉及的层叠体的制造方法制造的层叠体能够适用于各种装置中。作为具备上述层叠体的装置，例如，可以举出输入装置等，优选为触摸面板，更优选为静电电容型触摸面板。并且，上述输入装置能够适用于有机电致发光显示装置、液晶显示装置等显示装置中。154.在层叠体适用于触摸面板的情况下，所形成的树脂图案优选用作触摸面板用电极或触摸面板用配线的保护膜。155.《感光性转印材料》156.本发明所涉及的层叠体的制造方法中所使用的感光性转印材料具有临时支承体和包含感光性层的转印层，优选依次具有临时支承体、包含感光性层的转印层及保护膜。157.并且，本发明中所使用的感光性转印材料可以在临时支承体与感光性层之间、感光性层与保护膜之间等具有其他层。158.此外，本发明中所使用的感光性转印材料优选在临时支承体与感光性层之间还具有热塑性树脂层及水溶性树脂层。159.此外，上述转印层优选还包含热塑性树脂层及水溶性树脂层。160.从进一步发挥本发明中的效果的观点而言，本发明中所使用的感光性转印材料优选为辊状的感光性转印材料。161.以下示出本发明中所使用的感光性转印材料的方式的一例，但并不限于此。162.(1)“临时支承体/感光性层/折射率调整层/保护膜”163.(2)“临时支承体/感光性层/保护膜”164.(3)“临时支承体/水溶性树脂层/感光性层/保护膜”165.(4)“临时支承体/热塑性树脂层/水溶性树脂层/感光性层/保护膜”166.另外，在上述各结构中，感光性层优选为负型感光性层。并且，也优选感光性层为着色树脂层。本发明中所使用的感光性转印材料优选用作蚀刻抗蚀剂用感光性转印材料。167.设为蚀刻抗蚀剂用感光性转印材料的情况下，作为感光性转印材料的结构，例如，优选为上述的(2)～(4)的结构。168.在感光性转印材料中，在感光性层的与临时支承体侧相反的一侧还具有其他层的结构的情况下，配置在感光性层的与临时支承体侧相反的一侧的其他层的合计厚度相对于感光性层的层厚，优选为0.1％～30％，更优选为0.1％～20％。169.以下，举出具体的实施方式的一例，对本发明中所使用的感光性转印材料进行说明。170.以下，举出一例，对感光性转印材料进行说明。171.图1所示的感光性转印材料20依次具有临时支承体11、包含热塑性树脂层13、水溶性树脂层15及感光性层17的转印层12、以及保护膜19。172.并且，图1所示的感光性转印材料20为配置热塑性树脂层13及水溶性树脂层15的方式，但也可以不配置热塑性树脂层13及水溶性树脂层15。173.以下，对构成感光性转印材料的各要件进行说明。174.〔临时支承体〕175.本发明中所使用的感光性转印材料具有临时支承体。176.临时支承体为支承感光性层或包括感光性层的层叠体且可剥离的支承体。177.从在对感光性层进行图案曝光时能够进行经由临时支承体的感光性层的曝光的观点而言，临时支承体优选具有透光性。另外，在本说明书中，“具有透光性”是指，在图案曝光中所使用的波长的光的透射率为50％以上。178.从提高感光性层的曝光灵敏度的观点而言，临时支承体在图案曝光中所使用的波长(更优选为波长365nm)的光的透射率优选为60％以上，更优选为70％以上。179.另外，所谓感光性转印材料所具备的层的透射率，是使光沿与层的主表面垂直的方向(厚度方向)入射时的、通过层而射出的射出光的强度相对于入射光的强度的比率，使用otsukaflectronicsco.，ltd.制的mcpdseries进行测定。180.作为构成临时支承体的材料，例如，可以举出玻璃基板、树脂薄膜及纸，从强度、挠性及透光性的观点而言，优选为树脂薄膜。181.作为树脂薄膜，可以举出聚对苯二甲酸乙二酯(pet：polyethyleneterephthalate)薄膜、三乙酸纤维素薄膜、聚苯乙烯薄膜及聚碳酸酯薄膜。其中，优选pet薄膜，更优选双轴拉伸pet薄膜。182.关于临时支承体的厚度(层厚)，并没有特别限制，从作为支承体的强度、与电路配线形成用基板的贴合中所要求的挠性及在最初的曝光工序中所要求的透光性的观点而言，根据材质选择即可。183.临时支承体的厚度优选为5μm～100μm的范围，从易操作性及通用性的方面而言，更优选为10μm～50μm的范围，进一步优选为10μm～20μm的范围，尤其优选为10μm～16μm的范围。184.并且，从树脂图案的缺陷抑制性、分辨率及线性的观点而言，临时支承体的厚度优选为50μm以下，更优选为25μm以下，进一步优选为20μm以下，尤其优选为16μm以下。185.并且，优选在用作临时支承体的薄膜中没有褶皱等变形、划痕、缺陷等。186.从经由临时支承体进行图案曝光时的图案形成性及临时支承体的透明性的观点而言，优选临时支承体中所包含的微粒、异物、缺陷、析出物等的数量少。关于直径1μm以上的微粒、异物、缺陷的数量，优选为50个/10mm2以下，更优选为10个/10mm2以下，进一步优选为3个/10mm2以下，尤其优选为0个/10mm2。187.从树脂图案的缺陷抑制性、分辨率及临时支承体的透明性的观点而言，优选临时支承体的雾度小。具体而言，临时支承体的雾度值优选为2％以下，更优选为1.5％以下，进一步优选小于1.0％，尤其优选为0.5％以下。188.本发明中的雾度值通过按照jisk7105：1981年的方法，使用雾度计(ndh-2000、nippondenshokuindustriesco.，ltd.制)来测定。189.从赋予操作性的观点而言，可以在临时支承体的表面设置含有微小粒子的层(润滑剂层)。润滑剂层可以设置于临时支承体的单面，也可以设置于两面。润滑剂层中所包含的粒子的直径例如能够设为0.05μm～0.8μm。并且，润滑剂层的层厚例如能够设为0.05μm～1.0μm。190.从输送性、树脂图案的缺陷抑制性及分辨率的观点而言，临时支承体中的与上述感光性层侧相反的一侧的面的算术平均粗糙度ra优选为临时支承体中的上述感光性层侧的面的算术平均粗糙度ra以上。191.从输送性、树脂图案的缺陷抑制性及分辨率的观点而言，临时支承体中的与上述感光性层侧相反的一侧的面的算术平均粗糙度ra优选为100nm以下，更优选为50nm以下，进一步优选为20nm以下，尤其优选为10nm以下。192.从临时支承体的剥离性、树脂图案的缺陷抑制性及分辨率的观点而言，临时支承体中的上述感光性层侧的面的算术平均粗糙度ra优选为100nm以下，更优选为50nm以下，进一步优选为20nm以下，尤其优选为10nm以下。193.并且，从输送性、树脂图案的缺陷抑制性及分辨率的观点而言，临时支承体中的与上述感光性层侧相反的一侧的面的算术平均粗糙度ra-临时支承体中的上述感光性层侧的面的算术平均粗糙度ra的值优选为0nm～10nm，更优选为0nm～5nm。194.本发明中的临时支承体或保护膜的表面的算术平均粗糙度ra通过以下的方法来测定。195.使用三维光学轮廓仪(newview7300，zygocorporation制)，在以下的条件下，测定临时支承体或保护膜的表面，得到薄膜的表面轮廓。196.作为测定·分析软件，使用metroprover8.3.2的microscopeapplication。接着，利用上述分析软件显示surfacemap画面，在surfacemap画面中得到直方图数据。根据所得到的直方图数据计算算术平均粗糙度，得到临时支承体或保护膜的表面的ra值。197.临时支承体或保护膜贴合于感光性层等的情况下，从感光性层剥离临时支承体或保护膜，测定所剥离的一侧的表面的ra值即可。198.从通过卷对卷方式再次输送卷取的层叠体时，由上下层叠的层叠体与层叠体的粘接引起的临时支承体的剥离抑制性的观点而言，临时支承体的剥离力，具体而言，临时支承体与感光性层或热塑性树脂层之间的剥离力优选为0.5mn/mm以上，更优选为0.5mn/mm～2.0mn/mm。199.本发明中的临时支承体的剥离力如下测定。200.在厚度100μm的聚对苯二甲酸乙二酯(pet)薄膜上，利用溅射法制作厚度200nm的铜层，并制作带铜层的pet基板。201.从所制作的感光性转印材料剥离保护膜，在层压辊温度100℃、线压0.6mpa、线速度(层压速度)1.0m/min的层压条件下，层压于上述带铜层的pet基板。接着，在临时支承体的表面贴上胶带(nittodenkocorporation.制printack)之后，将在带铜层的pet基板上至少具有临时支承体及感光性层的层叠体切割成70mm×10mm而制作样品。将上述样品的pet基板侧固定在试样台上。202.使用拉伸压缩试验机(imada-sscorporation制、sv-55)，沿180度的方向，以5.5mm/秒拉伸胶带，在感光性层或热塑性树脂层与临时支承体之间进行剥离，测定剥离所需的力(剥离力)密合力。203.作为临时支承体的优选方式，例如，在日本特开2014-85643号公报的0017段～0018段、日本特开2016-27363号公报的0019～0026段、国际公开第2012/081680号的0041～0057段、国际公开第2018/179370号的0029～0040段、日本特开2019-101405号公报的0012段～0032段中有记载，这些公报的内容被编入本说明书中。204.〔感光性层〕205.本发明中所使用的感光性转印材料具有感光性层。206.感光性层优选为负型感光性层。207.感光性层优选包含碱溶性树脂、聚合性化合物及光聚合引发剂，以上述感光性层的总质量基准计，更优选包含碱溶性树脂：10质量％～90质量％；烯属不饱和化合物：5质量％～70质量％；及光聚合引发剂：0.01质量％～20质量％。208.以下，依次对各成分进行说明。209.《聚合性化合物》210.感光性层优选包含聚合性化合物。另外，在本说明书中，“聚合性化合物”是指，受到后述的光聚合引发剂的作用而聚合的化合物，并且是与上述的碱溶性树脂不同的化合物。211.作为聚合性化合物所具有的聚合性基团，只要是参与聚合反应的基团，则没有特别限制，例如，可以举出乙烯基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、苯乙烯基及马来酰亚胺基等具有烯属不饱和基团的基团；以及环氧基及氧杂环丁烷基等具有阳离子性聚合性基团的基团。212.作为聚合性基团，优选具有烯属不饱和基团的基团，更优选丙烯酰基或甲基丙烯酰基。213.并且，作为聚合性化合物，优选包含烯属不饱和化合物，更优选包含(甲基)丙烯酸酯化合物。214.从分辨率及图案形成性的观点而言，感光性层优选包含2官能以上的聚合性化合物(多官能聚合性化合物)，更优选包含3官能以上的聚合性化合物。215.在此，2官能以上的聚合性化合物是指，在一个分子中具有2个以上聚合性基团的化合物。216.并且，从分辨率及剥离性优异的方面而言，聚合性化合物在一个分子中所具有的聚合性基团的数量优选为6个以下。217.从感光性层的感光性与分辨率及剥离性的平衡更优异的方面而言，感光性层优选包含2官能或3官能烯属不饱和化合物，更优选包含2官能烯属不饱和化合物。218.从剥离性优异的方面而言，感光性层中的、2官能或3官能烯属不饱和化合物的含量相对于烯属不饱和化合物的总含量优选为60质量％以上，更优选超过70质量％，进一步优选为90质量％以上。关于上限，并没有特别限制，可以为100质量％。即，感光性层中所包含的烯属不饱和化合物可以全部为2官能烯属不饱和化合物。219.从分辨率及图案形成性的观点而言，感光性层优选包含具有聚环氧烷结构的聚合性化合物，更优选包含具有聚环氧乙烷结构的聚合性化合物。220.作为具有聚环氧烷结构的聚合性化合物，可以优选举出后述的聚亚烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯等。[0221]-烯属不饱和化合物b1-[0222]感光性层优选含有具有芳香环及2个烯属不饱和基团的烯属不饱和化合物b1。烯属不饱和化合物b1是上述的烯属不饱和化合物中的在1个分子中具有1个以上的芳香环的2官能烯属不饱和化合物。[0223]从分辨率更优异的方面而言，感光性层中烯属不饱和化合物b1的含量相对于烯属不饱和化合物的含量的质量比优选为40质量％以上，更优选为50质量％以上，进一步优选为55质量％以上，尤其优选为60质量％以上。关于上限，并没有特别限制，但从剥离性的方面而言，优选为99质量％以下，更优选为95质量％以下，进一步优选为90质量％以下，尤其优选为85质量％以下。[0224]作为烯属不饱和化合物b1所具有的芳香环，例如，可以举出苯环、萘环及蒽环等芳香烃环、噻吩环、呋喃环、吡咯环、咪唑环、三唑环及吡啶环等芳香族杂环、以及它们的稠环，优选芳香烃环，更优选苯环。另外，上述芳香环也可以具有取代基。[0225]烯属不饱和化合物b1可以仅具有1个芳香环，也可以具有2个以上的芳香环。[0226]从通过抑制因显影液引起的感光性层的溶胀而提高分辨率的方面而言，烯属不饱和化合物b1优选具有双酚结构。[0227]作为双酚结构，例如，可以举出来源于双酚a(2，2-双(4-羟基苯基)丙烷)的双酚a结构、来源于双酚f(2，2-双(4-羟基苯基)甲烷)的双酚f结构及来源于双酚b(2，2-双(4-羟基苯基)丁烷)的双酚b结构，优选双酚a结构。[0228]作为具有双酚结构的烯属不饱和化合物b1，例如，可以举出具有双酚结构和键合于该双酚结构的两端的2个聚合性基团(优选为(甲基)丙烯酰基)的化合物。[0229]双酚结构的两端和2个聚合性基团可以直接键合，也可以经由1个以上的亚烷基氧基而键合。作为加成到双酚结构的两端的亚烷基氧基，优选亚乙基氧基或亚丙基氧基，更优选亚乙基氧基。关于加成到双酚结构的亚烷基氧基的加成数，并没有特别限制，但在每1个分子中优选4～16个，更优选6～14个。[0230]对于具有双酚结构的烯属不饱和化合物b1，在日本特开2016-224162号公报的0072～0080段中有记载，该公报中所记载的内容被编入本说明书中。[0231]作为烯属不饱和化合物b1，优选为具有双酚a结构的2官能烯属不饱和化合物，更优选为2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚烷氧基)苯基)丙烷。[0232]作为2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚烷氧基)苯基)丙烷，例如，可以举出2，2-双(4-(甲基丙烯酰氧基二乙氧基)苯基)丙烷(fa-324m，hitachichemicalco.，ltd.制)、2，2-双(4-(甲基丙烯酰氧基乙氧基丙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-(甲基丙烯酰氧基五乙氧基)苯基)丙烷(bpe-500，shin-nakamurachemicalco.，ltd.制)、2，2-双(4-(甲基丙烯酰氧基十二乙氧基四丙氧基)苯基)丙烷(fa-3200my，hitachichemicalco.，ltd.制)、2，2-双(4-(甲基丙烯酰氧基十五乙氧基)苯基)丙烷(bpe-1300，shin-nakamurachemicalco.，ltd.制)、2，2-双(4-(甲基丙烯酰氧基二乙氧基)苯基)丙烷(bpe-200，shin-nakamurachemicalco.，ltd.制)及乙氧基化(10)双酚a二丙烯酸酯(nkestera-bpe-10，shin-nakamurachemicalco.，ltd.制)。[0233]作为烯属不饱和化合物b1，能够使用下述式(bis)所表示的化合物。[0234][化学式1][0235][0236]式(bis)中，r1及r2分别独立地表示氢原子或甲基，a为c2h4，b为c3h6，n1及n3分别独立地为1～39的整数且n1+n3为2～40的整数，n2及n4分别独立地为0～29的整数且n2+n4为0～30的整数，-(a-o)-及-(b-o)-的重复单元的排列可以是无规也可以是嵌段。而且，嵌段的情况下，-(a-o)-与-(b-o)-中的任一个可以在双酚结构侧。[0237]在一方式中，n1+n2+n3+n4优选为2～20的整数，更优选为2～16的整数，进一步优选为4～12的整数。并且，n2+n4优选为0～10的整数，更优选为0～4的整数，进一步优选为0～2的整数，尤其优选为0。[0238]烯属不饱和化合物b1可以单独使用1种，也可以并用2种以上。[0239]从分辨率更优异的方面而言，感光性层中的烯属不饱和化合物b1的含量相对于感光性层的总质量优选为10质量％以上，更优选为20质量％以上。关于上限，并没有特别限制，但从转印性及边缘熔融(感光性层中的成分从感光性转印材料的端部渗出的现象)的方面而言，优选为70质量％以下，更优选为60质量％以下。[0240]感光性层也可以含有除了上述的烯属不饱和化合物b1以外的烯属不饱和化合物。[0241]关于除了烯属不饱和化合物b1以外的烯属不饱和化合物，并没有特别限制，能够从公知的化合物中适当选择。例如，可以举出在1个分子中具有1个烯属不饱和基团的化合物(单官能烯属不饱和化合物)、不具有芳香环的2官能烯属不饱和化合物及3官能以上的烯属不饱和化合物。[0242]作为单官能烯属不饱和化合物，例如，可以举出(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基琥珀酸酯、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯。[0243]作为不具有芳香环的2官能烯属不饱和化合物，例如，可以举出亚烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚亚烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯、氨基甲酸酯二(甲基)丙烯酸酯及三羟甲基丙烷二丙烯酸酯。[0244]作为亚烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯，例如，可以举出三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯(a-dcp，shin-nakamurachemicalco.，ltd.制)、三环癸烷二甲醇二甲基丙烯酸酯(dcp，shin-nakamurachemicalco.，ltd.制)、1，9-壬二醇二丙烯酸酯(a-nod-n，shin-nakamurachemicalco.，ltd.制)、1，6-己二醇二丙烯酸酯(a-hd-n，shin-nakamurachemicalco.，ltd.制)、乙二醇二甲基丙烯酸酯、1，10-癸二醇二丙烯酸酯及新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯。[0245]作为聚亚烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯，例如，可以举出聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯及聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯。[0246]作为氨基甲酸酯二(甲基)丙烯酸酯，例如，可以举出环氧丙烷改性氨基甲酸酯二(甲基)丙烯酸酯以及环氧乙烷及环氧丙烷改性氨基甲酸酯二(甲基)丙烯酸酯。作为市售品，例如，可以举出8ux-015a(taiseifinechemicalco.，ltd.制)、ua-32p(shin-nakamurachemicalco.，ltd.制)及ua-1100h(shin-nakamurachemicalco.，ltd.制)。[0247]作为3官能以上的烯属不饱和化合物，例如，可以举出二季戊四醇(三/四/五/六)(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇(三/四)(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸三(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯以及它们的环氧烷改性物。[0248]在此，“(三/四/五/六)(甲基)丙烯酸酯”是包含三(甲基)丙烯酸酯、四(甲基)丙烯酸酯、五(甲基)丙烯酸酯及六(甲基)丙烯酸酯的概念，“(三/四)(甲基)丙烯酸酯”是包含三(甲基)丙烯酸酯及四(甲基)丙烯酸酯的概念。在一方式中，感光性层优选包含上述的烯属不饱和化合物b1及3官能以上的烯属不饱和化合物，更优选包含上述的烯属不饱和化合物b1及2种以上的3官能以上的烯属不饱和化合物。在这种情况下，烯属不饱和化合物b1与3官能以上的烯属不饱和化合物的质量比优选为(烯属不饱和化合物b1的合计质量)∶(3官能以上的烯属不饱和化合物的合计质量)＝1∶1～5∶1，更优选为1.2∶1～4∶1，进一步优选为1.5∶1～3∶1。[0249]并且，在一方式中，感光性层优选包含上述的烯属不饱和化合物b1及2种以上的3官能的烯属不饱和化合物。[0250]作为3官能以上的烯属不饱和化合物的环氧烷改性物，可以举出己内酯改性(甲基)丙烯酸酯化合物(nipponkayakuco.，ltd.制kayarad(注册商标)dpca-20、shin-nakamurachemicalco.，ltd.制a-9300-1cl等)、环氧烷改性(甲基)丙烯酸酯化合物(nipponkayakuco.，ltd.制kayaradrp-1040、shin-nakamurachemicalco.，ltd.制atm-35e及a-9300、daicel-allnexltd.制ebecryl(注册商标)135等)、乙氧基化甘油三丙烯酸酯(shin-nakamurachemicalco.，ltd.制a-gly-9e等)、aronix(注册商标)to-2349(toagoseico.，ltd.制)、aronixm-520(toagoseico.，ltd.制)以及aronixm-510(toagoseico.，ltd.制)。[0251]并且，作为除了烯属不饱和化合物b1以外的烯属不饱和化合物，可以使用日本特开2004-239942号公报的0025～0030段中所记载的具有酸基的烯属不饱和化合物。[0252]从分辨率及线性的观点而言，感光性层中的烯属不饱和化合物的含量mm与碱溶性树脂的含量mb之比mm/mb的值优选为1.0以下，更优选为0.9以下，尤其优选为0.5以上且0.9resinsb.v.制)、1-羟基环己基苯基酮(商品名：omnirad184，igmresinsb.v.制)、2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙烷-1-酮(商品名：omnirad651，igmresinsb.v.制)、2，4，6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦(商品名：omniradtpoh，igmresinsb.v.制)、双(2，4，6-三甲基苯甲酰基)苯基氧化膦(商品名：omnirad819，igmresinsb.v.制)、肟酯系的光聚合引发剂(商品名：lunar6，dkshholdingltd.制)、2，2’‑双(2-氯苯基)-4，4’，5，5’‑四苯基双咪唑(2-(2-氯苯基)-4，5-二苯基咪唑二聚体)(商品名：b-cim，hampford公司制)及2-(邻氯苯基)-4，5-二苯基咪唑二聚体(商品名：bctb，tokyochemicalindustryco.，ltd.制)。[0267]光阳离子聚合引发剂(光产酸剂)是接受活性光线而产生酸的化合物。作为光阳离子聚合引发剂，优选为感应于波长300nm以上优选为波长300～450nm的活性光线而产生酸的化合物，但对于其化学结构，并没有限制。并且，对于不直接感应于波长300nm以上的活性光线的光阳离子聚合引发剂，只要是通过与增敏剂并用而感应于波长300nm以上的活性光线而产生酸的化合物，则能够与增敏剂组合而优选使用。[0268]作为光阳离子聚合引发剂，优选为产生pka为4以下的酸的光阳离子聚合引发剂，更优选为产生pka为3以下的酸的光阳离子聚合引发剂，尤其优选为产生pka为2以下的酸的光阳离子聚合引发剂。关于pka的下限值，并没有特别规定，例如优选为-10.0以上。[0269]作为光阳离子聚合引发剂，可以举出离子性光阳离子聚合引发剂及非离子性光阳离子聚合引发剂。[0270]作为离子性光阳离子聚合引发剂，例如，可以举出二芳基碘鎓盐类及三芳基锍盐类等鎓盐化合物以及季铵盐类。[0271]作为离子性光阳离子聚合引发剂，可以使用日本特开2014-85643号公报的0114～0133段中所记载的离子性光阳离子聚合引发剂。[0272]作为非离子性光阳离子聚合引发剂，例如，可以举出三氯甲基均三嗪类、重氮甲烷化合物、酰亚胺磺酸酯化合物及肟磺酸酯化合物。作为三氯甲基均三嗪类、重氮甲烷化合物及酰亚胺磺酸酯化合物，可以使用日本特开2011-221494号公报的0083～0088段中所记载的化合物。并且，作为肟磺酸酯化合物，可以使用国际公开第2018/179640号的0084～0088段中所记载的化合物。[0273]感光性层可以单独含有1种光聚合引发剂，也可以含有2种以上。[0274]关于感光性层中的光聚合引发剂的含量，并没有特别限制，但相对于感光性层的总质量，优选为0.1质量％以上，更优选为0.5质量％以上，进一步优选为1.0质量％以上。关于上限，并没有特别限制，但相对于感光性层的总质量，优选为10质量％以下，更优选为5质量％以下。[0275]《碱溶性树脂》[0276]感光性层优选包含碱溶性树脂。[0277]另外，在本说明书中，“碱溶性”是指，在液温22℃下，碳酸钠的1质量％水溶液100g中的溶解度为0.1g以上。[0278]作为碱溶性树脂，并没有特别限制，例如，可以优选举出蚀刻抗蚀剂中所使用的公知的碱溶性树脂。[0279]并且，碱溶性树脂优选为粘合剂聚合物。[0280]作为碱溶性树脂，优选为具有酸基的碱溶性树脂。[0281]其中，作为碱溶性树脂，优选后述的聚合物a。[0282]-聚合物a-[0283]作为碱溶性树脂，优选包含聚合物a。[0284]从通过抑制因显影液引起的感光性层的溶胀而分辨率更优异的方面而言，聚合物a的酸值优选为220mgkoh/g以下，更优选小于200mgkoh/g，进一步优选小于190mgkoh/g。[0285]关于聚合物a的酸值的下限，并没有特别限制，但从显影性更优异的方面而言，优选为60mgkoh/g以上，更优选为120mgkoh/g以上，进一步优选为150mgkoh/g以上，尤其优选为170mgkoh/g以上。[0286]另外，酸值是中和试样1g所需要的氢氧化钾的质量[mg]，[0287]在本说明书中，将单位记载为mgkoh/g。关于酸值，例如，能够根据化合物中的酸基的平均含量来计算。[0288]关于聚合物a的酸值，根据构成聚合物a的结构单元的种类及含有酸基的结构单元的含量来调整即可。[0289]聚合物a的重均分子量优选为5,000～500,000。从提高分辨率及显影性的观点而言，优选将重均分子量设为500,000以下。更优选将重均分子量设为100,000以下，进一步优选设为60,000以下，尤其优选设为50,000以下。另一方面，从控制显影凝聚物的性状、以及制成感光性树脂层叠体时的边缘熔融性及切屑性等未曝光膜的性状的观点而言，优选将重均分子量设为5,000以上。更优选将重均分子量设为10,000以上，进一步优选设为20,000以上，尤其优选设为30,000以上。边缘熔融性是指在将感光性转印材料卷取成卷状的情况下，感光性层从辊的端面溢出的容易程度。切屑性是指在用刀具切割未曝光膜的情况下，切屑飞溅的容易程度。若该切屑附着在感光性树脂层叠体的上表面等，则在之后的曝光工序等中会转印在掩模上而成为不良品的原因。聚合物a的分散度优选为1.0～6.0，更优选为1.0～5.0，进一步优选为1.0～4.0，进一步优选为1.0～3.0。在本发明中，分子量为使用凝胶渗透色谱法测定而得到的值。并且，分散度为重均分子量相对于数均分子量之比(重均分子量/数均分子量)。[0290]从抑制曝光时的焦点位置偏移时的线宽变粗或分辨度的恶化的观点而言，感光性层优选包含具有芳香烃的单体成分作为聚合物a。另外，作为这种芳香烃，例如，可以举出经取代或未经取代的苯基或经取代或未经取代的芳烷基。关于聚合物a中的具有芳香烃的单体成分的含有比例，以总单体成分的合计质量为基准，优选为20质量％以上，更优选为30质量％以上，进一步优选为40质量％以上，尤其优选为45质量％以上，最优选为50质量％以上。作为上限，并没有特别限定，但优选为95质量％以下，更优选为85质量％以下。另外，含有多种聚合物a时的具有芳香烃的单体成分的含有比例作为重量平均值而求出。[0291]作为上述具有芳香烃的单体，例如，可以举出具有芳烷基的单体、苯乙烯及可聚合的苯乙烯衍生物(例如，甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、叔丁氧基苯乙烯、乙酰氧基苯乙烯、4-乙烯基苯甲酸、苯乙烯二聚物、苯乙烯三聚物等)。其中，优选具有芳烷基的单体或苯乙烯。在一方式中，在聚合物a中的具有芳香烃的单体成分为苯乙烯的情况下，以总单体成分的合计质量为基准，苯乙烯单体成分的含有比例优选为20质量％～50质量％，更优选为25质量％～45质量％，进一步优选为30质量％～40质量％，尤其优选为30质量％～35质量％。[0292]作为芳烷基，可以举出经取代或未经取代的苯基烷基(苄基除外)或者经取代或未经取代的苄基等，优选为经取代或未经取代的苄基。[0293]作为具有苯基烷基的单体，可以举出(甲基)丙烯酸苯基乙酯等。[0294]作为具有苄基的单体，可以举出具有苄基的(甲基)丙烯酸酯，例如，(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸氯苄酯等；具有苄基的乙烯基单体，例如，乙烯基苄氯、乙烯基苄醇等。其中，优选(甲基)丙烯酸苄酯。在一方式中，在聚合物a中的具有芳香烃的单体成分为(甲基)丙烯酸苄酯的情况下，以总单体成分的合计质量为基准，(甲基)丙烯酸苄酯单体成分的含有比例优选为50质量％～95质量％，更优选为60质量％～90质量％，进一步优选为70质量％～90质量％，尤其优选为75质量％～90质量％。[0295]含有具有芳香烃的单体成分的聚合物a优选通过将具有芳香烃的单体与后述的第一单体中的至少1种和/或后述的第二单体中的至少1种聚合而得到。[0296]不含有具有芳香烃的单体成分的聚合物a优选通过将后述的第一单体中的至少1种聚合而得到，更优选通过将第一单体中的至少1种与后述的第二单体中的至少1种共聚而得到。[0297]第一单体是在分子中具有羧基的单体。作为第一单体，例如，可以举出(甲基)丙烯酸、富马酸、肉桂酸、巴豆酸、衣康酸、4-乙烯基苯甲酸、马来酸酐、马来酸半酯等。在这些之中，优选(甲基)丙烯酸。[0298]以总单体成分的合计质量为基准，聚合物a中的第一单体的含有比例优选为5质量％～50质量％，更优选为10质量％～40质量％，进一步优选为15质量％～30质量％。[0299]以总单体成分的合计质量为基准，第一单体的共聚比例优选为10质量％～50质量％。从显现良好的显影性的观点、控制边缘熔融性等的观点而言，优选将上述共聚比例设为10质量％以上，更优选设为15质量％以上，进一步优选设为20质量％以上。从抗蚀图案的高分辨率及卷边形状的观点而言，进一步从抗蚀图案的耐化学性的观点而言，优选将上述共聚比例设为50质量％以下，在这些观点中，更优选设为35质量％以下，进一步优选设为30质量％以下，尤其优选设为27质量％以下。[0300]第二单体是非酸性且在分子中至少具有1个聚合性不饱和基团的单体。作为第二单体，例如，可以举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等(甲基)丙烯酸酯类；乙酸乙烯酯等乙烯醇的酯类；以及(甲基)丙烯腈等。其中，优选(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯及(甲基)丙烯酸正丁酯，尤其优选(甲基)丙烯酸甲酯。[0301]以总单体成分的合计质量为基准，聚合物a中的第二单体的含有比例优选为5质量％～60质量％，更优选为15质量％～50质量％，进一步优选为20质量％～45质量％。[0302]从抑制曝光时的焦点位置偏移时的线宽变粗或分辨度的恶化的观点而言，优选含有具有芳烷基的单体和/或苯乙烯作为单体。例如，优选为包含甲基丙烯酸、甲基丙烯酸苄酯及苯乙烯的共聚物、包含甲基丙烯酸、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸苄酯及苯乙烯的共聚物等。[0303]在一方式中，聚合物a优选为包含25质量％～40质量％的具有芳香烃的单体成分、20质量％～35质量％的第一单体成分、30质量％～45质量％的第二单体成分的聚合物。并且，在另一方式中，优选为包含70质量％～90质量％的具有芳香烃的单体成分、10质量％～25质量％的第一单体成分的聚合物。[0304]聚合物a可以在侧链具有直链结构、支链结构及脂环结构中的任一种。通过使用含有在侧链具有支链结构的基团的单体或含有在侧链具有脂环结构的基团的单体，能够将支链结构或脂环结构导入到聚合物a的侧链中。具有脂环结构的基团可以为单环或多环。[0305]作为含有在侧链具有支链结构的基团的单体的具体例，例如可以举出(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸异戊酯、(甲基)丙烯酸叔戊酯、(甲基)丙烯酸仲异戊酯、(甲基)丙烯酸2-辛酯、(甲基)丙烯酸3-辛酯、(甲基)丙烯酸叔辛酯等。在这些之中，优选为(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸异丁酯或甲基丙烯酸叔丁酯，更优选为甲基丙烯酸异丙酯或甲基丙烯酸叔丁酯。[0306]作为含有在侧链具有脂环结构的基团的单体，可以举出具有单环的脂肪族烃基的单体、具有多环的脂肪族烃基的单体，可以举出碳原子数(碳原子数(carbonatomnumber))5～20个的脂环式烃基的(甲基)丙烯酸酯。作为更具体的例子，例如可以举出(甲基)丙烯酸(双环[2.2.1]庚基-2)酯、(甲基)丙烯酸-1-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸-2-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸-3-甲基-1-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸-3，5-二甲基-1-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸-3-乙基金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸-3-甲基-5-乙基-1-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸-3，5，8-三乙基-1-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸-3，5-二甲基-8-乙基-1-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸2-甲基-2-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸2-乙基-2-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸3-羟基-1-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸八氢-4，7-甲桥茚(methanoindene)-5-基酯、(甲基)丙烯酸八氢-4，7-甲桥茚-1-基甲酯、(甲基)丙烯酸-1-薄荷酯、(甲基)丙烯酸三环癸烷、(甲基)丙烯酸-3-羟基-2，6，6-三甲基-双环[3.1.1]庚酯、(甲基)丙烯酸-3，7，7-三甲基-4-羟基双环[4.1.0]庚酯、(甲基)丙烯酸(降)冰片基酯、(甲基)丙烯酸异冰片基酯、(甲基)丙烯酸葑酯、(甲基)丙烯酸-2，2，5-三甲基环己酯、(甲基)丙烯酸环己酯等。在这些(甲基)丙烯酸酯之中，优选(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸(降)冰片基酯、(甲基)丙烯酸异冰片基酯、(甲基)丙烯酸-1-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸-2-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸葑酯、(甲基)丙烯酸-1-薄荷酯或(甲基)丙烯酸三环癸烷，尤其优选(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸(降)冰片基酯、(甲基)丙烯酸异冰片基酯、(甲基)丙烯酸-2-金刚烷基酯或(甲基)丙烯酸三环癸烷。[0307]聚合物a能够单独使用1种，或者也可以混合使用2种以上。在混合使用2种以上的情况下，优选混合使用2种包含具有芳香烃的单体成分的聚合物a，或者混合使用包含具有芳香烃的单体成分的聚合物a及不包含具有芳香烃的单体成分的聚合物a。后者的情况下，包含具有芳香烃的单体成分的聚合物a的使用比例相对于聚合物a的全部，优选为50质量％以上，更优选为70质量％以上，优选为80质量％以上，更优选为90质量％以上。[0308]关于聚合物a的合成，优选如下进行：向用丙酮、甲基乙基酮、异丙醇等溶剂稀释上述中所说明的一种或多种单体而成的溶液中，添加适量过氧化苯甲酰、偶氮异丁腈等自由基聚合引发剂，并进行加热搅拌。有时也会一边将混合物的一部分滴加到反应液中一边进行合成。反应结束后，有时也会进一步加入溶剂而调整成所期望的浓度。作为合成方法，除了溶液聚合以外，还可以使用本体聚合、悬浮聚合或乳化聚合。[0309]聚合物a的玻璃化转变温度tg优选为30℃以上且135℃以下。通过在感光性层中使用具有135℃以下的tg的聚合物a，能够抑制曝光时的焦点位置偏移时的线宽变粗或分辨度的恶化。从该观点而言，聚合物a的tg更优选为130℃以下，进一步优选为120℃以下，尤其优选为110℃以下。并且，从提高耐边缘熔融性的观点而言，优选使用具有30℃以上的tg的聚合物a。从该观点而言，聚合物a的tg更优选为40℃以上，进一步优选为50℃以上，尤其优选为60℃以上，最优选为70℃以上。[0310]感光性层可以含有除了碱溶性树脂以外的树脂。[0311]作为除了碱溶性树脂以外的树脂，可以举出丙烯酸树脂、苯乙烯-丙烯酸共聚物(其中，苯乙烯含有率为40质量％以下)、聚氨酯树脂、聚乙烯醇、聚乙烯醇缩甲醛、聚酰胺树脂、聚酯树脂、聚酰胺树脂、环氧树脂、聚缩醛树脂、聚羟基苯乙烯树脂、聚酰亚胺树脂、聚苯并噁唑树脂、聚硅氧烷树脂、聚乙烯亚胺、聚烯丙基胺及聚亚烷基二醇。[0312]碱溶性树脂能够单独使用1种，或者也可以混合使用2种以上。[0313]碱溶性树脂相对于感光性层的总质量的比例优选为10质量％～90质量％的范围，更优选为30质量％～70质量％，进一步优选为40质量％～60质量％。从控制显影时间的观点而言，优选将碱溶性树脂相对于感光性层的比例设为90质量％以下。另一方面，从提高耐边缘熔融性的观点而言，优选将碱溶性树脂相对于感光性层的比例设为10质量％以上。[0314]《色素》[0315]从曝光部及非曝光部的视觉辨认度、显影后的图案视觉辨认度及分辨率的观点而言，感光性层优选含有色素，更优选含有显色时的波长范围400nm～780nm处的最大吸收波长为450nm以上且通过酸、碱或自由基而最大吸收波长发生变化的色素(也简称为“色素n”。)。在含有色素n时，虽然详细的机理尚不明确，但与相邻的层(例如，临时支承体及第1树脂层)的密合性提高，并且分辨率更优异。[0316]在本说明书中，色素“通过酸、碱或自由基而极大吸收波长发生变化”可以是指，处于显色状态的色素通过酸、碱或自由基而脱色的方式、处于脱色状态的色素通过酸、碱或自由基而显色的方式、以及处于显色状态的色素变为其他色相的显色状态的方式中的任一个方式。[0317]具体而言，色素n可以是通过曝光从脱色状态发生变化而显色的化合物，也可以是通过曝光从显色状态发生变化而脱色的化合物。在这种情况下，可以是通过曝光而在感光性层内产生酸、碱或自由基并发挥作用，从而显色或脱色的状态发生变化的色素，也可以是通过酸、碱或自由基而感光性层内的状态(例如ph)发生变化，从而显色或脱色的状态发生变化的色素。并且，也可以是不通过曝光而直接受到酸、碱或自由基作为刺激从而显色或脱色的状态发生变化的色素。[0318]其中，从曝光部及非曝光部的视觉辨认度以及分辨率的观点而言，色素n优选为通过酸或自由基而最大吸收波长发生变化的色素，更优选为通过自由基而最大吸收波长发生变化的色素。[0319]从曝光部及非曝光部的视觉辨认度以及分辨率的观点而言，感光性层优选含有通过自由基而最大吸收波长发生变化的色素作为色素n及光自由基聚合引发剂这两者。[0320]并且，从曝光部及非曝光部的视觉辨认度的观点而言，色素n优选为通过酸、碱或自由基而显色的色素。[0321]作为本发明中的色素n的显色机构的例，可以举出如下方式：向感光性层中添加光chemicalindustriesco.，ltd.制)、油红5b(orientchemicalindustriesco.，ltd.制)、油猩红(oilscarlet)#308(orientchemicalindustriesco.，ltd.制)、油红og(orientchemicalindustriesco.，ltd.制)、油红rr(orientchemicalindustriesco.，ltd.制)、油绿#502(orientchemicalindustriesco.，ltd.制)、史必隆红(spilonred)beh特殊(hodogayachemicalco.，ltd.制)、间甲酚紫、甲酚红、罗丹明b、罗丹明6g、磺基罗丹明b、金胺、4-对二乙基氨基苯基亚氨基萘醌、2-羧基苯胺基-4-对二乙基氨基苯基亚氨基萘醌、2-羧基十八烷基氨基-4-对-n，n-双(羟基乙基)氨基-苯基亚氨基萘醌、1-苯基-3-甲基-4-对二乙基氨基苯基亚氨基-5-吡唑啉酮及1-β-萘基-4-对二乙基氨基苯基亚氨基-5-吡唑啉酮。[0333]作为色素n中的无色化合物的具体例，可以举出p，p’，p”‑六甲基三氨基三苯基甲烷(无色结晶紫)、pergascriptbluesrb(ciba-geigy公司制)、结晶紫内酯、孔雀绿内酯、苯甲酰无色亚甲基蓝、2-(n-苯基-n-甲基氨基)-6-(n-对甲苯基-n-乙基)氨基荧烷、2-苯胺基-3-甲基-6-(n-乙基-对甲苯胺基)荧烷、3，6-二甲氧荧烷、3-(n，n-二乙基氨基)-5-甲基-7-(n，n-二苄基氨基)荧烷、3-(n-环己基-n-甲基氨基)-6-甲基-7-苯胺基荧烷、3-(n，n-二乙基氨基)-6-甲基-7-苯胺基荧烷、3-(n，n-二乙基氨基)-6-甲基-7-二甲基苯胺基荧烷、3-(n，n-二乙基氨基)-6-甲基-7-氯荧烷、3-(n，n-二乙基氨基)-6-甲氧基-7-氨基荧烷、3-(n，n-二乙基氨基)-7-(4-氯苯胺基)荧烷、3-(n，n-二乙基氨基)-7-氯荧烷、3-(n，n-二乙基氨基)-7-苄基氨基荧烷、3-(n，n-二乙基氨基)-7，8-苯并荧烷、3-(n，n-二丁基氨基)-6-甲基-7-苯胺基荧烷、3-(n，n-二丁基氨基)-6-甲基-7-二甲基苯胺基荧烷、3-氢吡啶基-6-甲基-7-苯胺基荧烷、3-吡咯烷基-6-甲基-7-苯胺基荧烷、3，3-双(1-乙基-2-甲基吲哚-3-基)苯酞、3，3-双(1-正丁基-2-甲基吲哚-3-基)苯酞、3，3-双(对二甲基氨基苯基)-6-二甲基氨基苯酞、3-(4-二乙基氨基-2-乙氧基苯基)-3-(1-乙基-2-甲基吲哚-3-基)-4-氮杂苯酞、3-(4-二乙基氨基苯基)-3-(1-乙基-2-甲基吲哚-3-基)苯酞及3’，6’‑双(二苯基氨基)螺异苯并呋喃-1(3h)，9’‑[9h]呫吨-3-酮。[0334]从曝光部及非曝光部的视觉辨认度、显影后的图案视觉辨认度、以及分辨率的观点而言，色素n优选为通过自由基而最大吸收波长发生变化的色素，更优选为通过自由基而显色的色素。[0335]作为色素n，优选为无色结晶紫、结晶紫内酯、亮绿或维多利亚纯蓝-萘磺酸盐。[0336]色素可以单独使用1种，也可以使用2种以上。[0337]从曝光部及非曝光部的视觉辨认度、显影后的图案视觉辨认度及分辨率的观点而言，色素的含量相对于感光性层的总质量优选为0.1质量％以上，更优选为0.1质量％～10质量％，进一步优选为0.1质量％～5质量％，尤其优选为0.1质量％～1质量％。[0338]并且，从曝光部及非曝光部的视觉辨认度、显影后的图案视觉辨认度及分辨率的观点而言，色素n的含量相对于感光性层的总质量优选为0.1质量％以上，更优选为0.1质量％～10质量％，进一步优选为0.1质量％～5质量％，尤其优选为0.1质量％～1质量％。[0339]色素n的含量是指，使感光性层中所包含的所有色素n处于显色状态时的色素的含量。以下，以通过自由基而显色的色素为例，对色素n的含量的定量方法进行说明。[0340]制备在甲基乙基酮100ml中溶解色素0.001g或0.01g而成的2种溶液。通过向所得到的各溶液中加入光自由基聚合引发剂irgacureoxe01(商品名，basfjapanltd.)，照射365nm的光而产生自由基，使所有色素成为显色状态。然后，在大气气氛下，使用分光光度计(uv3100，shimadzucorporation制)，测定液温为25℃的各溶液的吸光度，并制作校准曲线。[0341]接着，除了代替色素而将感光性层3g溶解于甲基乙基酮以外，以与上述相同的方法，测定使色素全部显色的溶液的吸光度。根据所得到的含有感光性层的溶液的吸光度，基于校准曲线计算感光性层中所包含的色素的含量。[0342]《热交联性化合物》[0343]从所得到的固化膜的强度及所得到的未固化膜的粘结性的观点而言，感光性层优选包含热交联性化合物。另外，在本说明书中，后述的具有烯属不饱和基团的热交联性化合物不作为聚合性化合物来处理，而是作为热交联性化合物来处理。[0344]作为热交联性化合物，可以举出羟甲基化合物及封端异氰酸酯化合物。其中，从所得到的固化膜的强度及所得到的未固化膜的粘结性的观点而言，优选封端异氰酸酯化合物。[0345]由于封端异氰酸酯化合物与羟基及羧基进行反应，因此，例如在树脂和/或聚合性化合物等具有羟基及羧基中的至少一方的情况下，形成的膜的亲水性降低，存在将使感光性层固化而成的膜用作保护膜时的功能增强的倾向。[0346]另外，封端异氰酸酯化合物是指“具有用封端剂保护(所谓的掩蔽(mask))异氰酸酯的异氰酸酯基的结构的化合物”。[0347]关于封端异氰酸酯化合物的解离温度，并没有特别限制，优选为100℃～160℃，更优选为130℃～150℃。[0348]封端异氰酸酯的解离温度是指，“使用差示扫描量热计并通过dsc(differentialscanningcalorimetry：差示扫描量热法)分析测定时的伴随封端异氰酸酯的脱保护反应的吸热峰的温度”。[0349]作为差示扫描量热计，例如，能够优选使用seikoinstrumentsinc.制的差示扫描量热计(型号：dsc6200)。但是，差示扫描量热计并不限定于此。[0350]作为解离温度为100℃～160℃的封端剂，可以举出活性亚甲基化合物〔丙二酸二酯(丙二酸二甲酯、丙二酸二乙酯、丙二酸二正丁酯、丙二酸二2-乙基己酯等)〕、肟化合物(甲醛肟、乙醛肟、丙酮肟、甲基乙基酮肟及环己酮肟等在分子内具有-c(＝n-oh)-所表示的结构的化合物)。[0351]在这些之中，作为解离温度为100℃～160℃的封端剂，例如，从保存稳定性的观点而言，优选包含肟化合物。[0352]例如，从改良膜的脆性、提高与被转印体的密合力等的观点而言，封端异氰酸酯化合物优选具有异氰脲酸酯结构。[0353]具有异氰脲酸酯结构的封端异氰酸酯化合物例如通过将六亚甲基二异氰酸酯进行异氰脲酸酯化来进行保护而得到。[0354]在具有异氰脲酸酯结构的封端异氰酸酯化合物中，具有将肟化合物用作封端剂的肟结构的化合物与不具有肟结构的化合物相比，从容易使解离温度设在优选范围内且容易减少显影残渣的观点而言，更优选。[0355]封端异氰酸酯化合物可以具有聚合性基团。sh21pa、toraysiliconesh28pa、toraysiliconesh29pa、toraysiliconesh30pa、toraysiliconesh8400(以上为dowcorningtorayco.，ltd.制)以及x-22-4952、x-22-4272、x-22-6266、kf-351a、k354l、kf-355a、kf-945、kf-640、kf-642、kf-643、x-22-6191、x-22-4515、kf-6004、kp-341、kf-6001、kf-6002、kp-101、kp-103、kp-104、kp-105、kp-106、kp-109、kp-109、kp-112、kp-120、kp-121、kp-124、kp-125、kp-301、kp-306、kp-310、kp-322、kp-323、kp-327、kp-341、kp-368、kp-369、kp-611、kp-620、kp-621、kp-626、kp-652(以上为shin-etsuchemicalco.，ltd.制)、f-4440、tsf-4300、tsf-4445、tsf-4460、tsf-4452(以上为momentiveperformancematerialsinc.制)、byk300、byk306、byk307、byk310、byk320、byk323、byk325、byk330、byk313、byk315n、byk331、byk333、byk345、byk347、byk348、byk349、byk370、byk377、byk378、byk323(以上为bykchemie公司制)等。[0382]感光性层可以单独含有1种表面活性剂，也可以含有2种以上。[0383]表面活性剂的含量相对于感光性层的总质量，优选为0.001质量％～10质量％，更优选为0.01质量％～3质量％。[0384]-添加剂-[0385]感光性层除了上述成分以外，根据需要还可以含有公知的添加剂。[0386]作为添加剂，例如，可以举出阻聚剂、增敏剂、增塑剂、杂环状化合物、苯并三唑类、羧基苯并三唑类、吡啶类(异烟酰胺等)、嘌呤碱(腺嘌呤等)及溶剂。感光性层可以单独含有1种各添加剂，也可以含有2种以上。[0387]感光性层也可以含有阻聚剂。作为阻聚剂优选为自由基阻聚剂。[0388]作为阻聚剂，例如，可以举出日本专利第4502784号公报的0018段中所记载的热阻聚剂。其中，优选为吩噻嗪、吩噁嗪或4-甲氧基苯酚。作为其他阻聚剂，可以举出萘胺、氯化亚铜、亚硝基苯基羟基胺铝盐、二苯基亚硝基胺等。为了不损害感光性树脂组合物的灵敏度，优选将亚硝基苯基羟基胺铝盐用作阻聚剂。[0389]作为苯并三唑类，例如，可以举出1，2，3-苯并三唑、1-氯-1，2，3-苯并三唑、双(n-2-乙基己基)氨基亚甲基-1，2，3-苯并三唑、双(n-2-乙基己基)氨基亚甲基-1，2，3-甲苯基三唑、双(n-2-羟基乙基)氨基亚甲基-1，2，3-苯并三唑等。[0390]作为羧基苯并三唑类，例如，可以举出4-羧基-1，2，3-苯并三唑、5-羧基-1，2，3-苯并三唑、n-(n，n-二-2-乙基己基)氨基亚甲基羧基苯并三唑、n-(n，n-二-2-羟基乙基)氨基亚甲基羧基苯并三唑、n-(n，n-二-2-乙基己基)氨基亚乙基羧基苯并三唑等。作为羧基苯并三唑类，例如，能够使用cbt-1(johokuchemicalco.，ltd制，商品名)等市售品。[0391]阻聚剂、苯并三唑类及羧基苯并三唑类的合计含量相对于感光性层的总质量优选为0.01质量％～3质量％，更优选为0.05质量％～1质量％。从对感光性树脂组合物赋予保存稳定性的观点而言，优选将上述含量设为0.01质量％以上。另一方面，从维持灵敏度并抑制染料的脱色的观点而言，优选将上述含量设为3质量％以下。[0392]感光性层可以含有增敏剂。[0393]关于增敏剂，并没有特别限制，能够使用公知的增敏剂、染料及颜料。作为增敏剂，例如，可以举出二烷基氨基二苯甲酮化合物、吡唑啉化合物、蒽化合物、香豆素化合物、呫吨酮(xanthone)化合物、噻吨酮(thioxanthone)化合物、吖啶酮化合物、噁唑化合物、苯并噁唑化合物、噻唑化合物、苯并噻唑化合物、三唑化合物(例如，1，2，4-三唑)、茋化合物、三嗪化合物、噻吩化合物、萘二甲酰亚胺化合物、三芳基胺化合物及氨基吖啶化合物。[0394]感光性层可以单独含有1种增敏剂，也可以含有2种以上。[0395]在感光性层含有增敏剂的情况下，增敏剂的含量能够根据目的适当选择，但从提高对光源的灵敏度及通过聚合速度与链转移的平衡而提高固化速度的观点而言，相对于感光性层的总质量优选为0.01质量％～5质量％，更优选为0.05质量％～1质量％。[0396]感光性层可以含有选自增塑剂及杂环状化合物中的至少1种。[0397]作为增塑剂及杂环状化合物，可以举出国际公开第2018/179640号的0097～0103及0111～0118段中所记载的化合物。[0398]感光性层可以含有溶剂。在由包含溶剂的感光性树脂组合物形成感光性层的情况下，有时溶剂会残留在感光性层中。[0399]并且，感光性层还可以含有金属氧化物粒子、抗氧化剂、分散剂、酸增殖剂、显影促进剂、导电性纤维、热自由基聚合引发剂、热产酸剂、紫外线吸收剂、增稠剂、交联剂及有机或无机的防沉淀剂等公知的添加剂。[0400]关于感光性层中所包含的添加剂，在日本特开2014-85643号公报的0165～0184段中有所记载，该公报的内容被编入本说明书中。[0401]《杂质等》[0402]感光性层可以包含规定量的杂质。[0403]作为杂质的具体例，可以举出钠、钾、镁、钙、铁、锰、铜、铝、钛、铬、钴、镍、锌、锡、卤素及它们的离子。其中，卤化物离子、钠离子及钾离子容易作为杂质而混入，因此优选设为下述含量。[0404]感光性层中的杂质的含量以质量基准计优选为80ppm以下，更优选为10ppm以下，进一步优选为2ppm以下。杂质的含量以质量基准计能够设为1ppb以上，也可以设为0.1ppm以上。[0405]作为将杂质设在上述范围内的方法，可以举出选择杂质的含量少的原料作为组合物的原料的方法、在制作感光性层时防止杂质混入的方法及清洗去除的方法。通过这种方法，能够将杂质量设在上述范围内。[0406]杂质例如能够通过icp(inductivelycoupledplasma：电感耦合等离子体)发光分光分析法、原子吸收分光法及离子色谱法等公知的方法进行定量。[0407]优选感光性层中的苯、甲醛、三氯乙烯、1，3-丁二烯、四氯化碳、氯仿、n，n-二甲基甲酰胺、n，n-二甲基乙酰胺及己烷等化合物的含量少。作为这些化合物相对于感光性层的总质量的含量，以质量基准计优选为100ppm以下，更优选为20ppm以下，进一步优选为4ppm以下。[0408]下限以质量基准计相对于感光性层的总质量，能够设为10ppb以上，也能够设为100ppb以上。这些化合物能够通过与上述金属的杂质相同的方法来抑制含量。并且，能够通过公知的测定法进行定量。[0409]从提高可靠性及层压性的观点而言，感光性层中的水的含量优选为0.01质量％～1.0质量％，更优选为0.05质量％～0.5质量％。[0410]《残留单体》[0411]感光性层有时包含与上述的碱溶性树脂的各结构单元对应的残留单体。[0412]从图案形成性及可靠性的方面而言，残留单体的含量相对于碱溶性树脂总质量优选为5,000质量ppm以下，更优选为2,000质量ppm以下，进一步优选为500质量ppm以下。关于下限，并没有特别限制，但优选为1质量ppm以上，更优选为10质量ppm以上。[0413]从图案形成性及可靠性的方面而言，碱溶性树脂的各结构单元的残留单体相对于感光性层的总质量优选为3,000质量ppm以下，更优选为600质量ppm以下，进一步优选为100质量ppm以下。关于下限，并没有特别限制，但优选为0.1质量ppm以上，更优选为1质量ppm以上。[0414]通过高分子反应合成碱溶性树脂时的单体的残留单体量也优选设在上述范围内。例如，在使丙烯酸缩水甘油酯与羧酸侧链进行反应而合成碱溶性树脂的情况下，优选将丙烯酸缩水甘油酯的含量设在上述范围内。[0415]残留单体的量能够通过液相色谱及气相色谱等公知的方法进行测定。[0416]《物性等》[0417]感光性层的层厚优选为0.1μm～300μm，更优选为0.2μm～100μm，进一步优选为0.5μm～50μm，更进一步优选为0.5μm～15μm，尤其优选为0.5μm～10μm，最优选为0.5μm～8μm。由此，能够提高感光性层的显影性，提高分辨率。[0418]并且，从进一步发挥分辨率及本发明中的效果的观点而言，感光性层的层厚(厚度)优选为10μm以下，更优选为5.0μm以下，进一步优选为0.5μm～4.0μm，尤其优选为0.5μm～3.0μm。[0419]关于感光性转印材料或层叠体所具备的各层的层厚，通过如下进行测定：利用扫描式电子显微镜(sem：scanningelectronmicroscope)观察相对于感光性转印材料的主表面垂直的方向的剖面，基于所得到的观察图像对各层的厚度测量10点以上，并计算其平均值。[0420]并且，从密合性更优异的方面而言，感光性层的波长365nm的光的透射率优选为10％以上，优选为30％以上，更优选为50％以上。关于上限，并没有特别限制，但优选为99.9％以下。[0421]《形成方法》[0422]关于感光性层的形成方法，只要是能够形成含有上述成分的层的方法，则没有特别限制。[0423]作为感光性层的形成方法，例如，可以举出如下方法：制备含有碱溶性树脂、聚合性化合物、光聚合引发剂及溶剂等的感光性树脂组合物，在临时支承体等表面上涂布感光性树脂组合物，并通过对感光性树脂组合物的涂膜进行干燥而形成。[0424]作为感光性层的形成中所使用的感光性树脂组合物，例如，可以举出含有碱溶性树脂、聚合性化合物、光聚合引发剂、上述任意成分及溶剂的组合物。[0425]为了调节感光性树脂组合物的粘度而易于形成感光性层，感光性树脂组合物优选含有溶剂。[0426]-溶剂-[0427]作为感光性树脂组合物中所含有的溶剂，只要能够溶解或分散碱溶性树脂、聚合性化合物、光聚合引发剂及上述的任意成分，则没有特别限制，能够使用公知的溶剂。[0428]作为溶剂，例如，可以举出亚烷基二醇醚溶剂、亚烷基二醇醚乙酸酯溶剂、醇溶剂(甲醇及乙醇等)、酮溶剂(丙酮及甲基乙基酮等)、芳香烃溶剂(甲苯等)、非质子性极性溶剂(n，n-二甲基甲酰胺等)、环状醚溶剂(四氢呋喃等)、酯溶剂、酰胺溶剂、内酯溶剂以及包含它们中的2种以上的混合溶剂。[0429]在制作具备临时支承体、热塑性树脂层、水溶性树脂层、感光性层及保护膜的感光性转印材料的情况下，感光性树脂组合物优选含有选自亚烷基二醇醚溶剂及亚烷基二醇醚乙酸酯溶剂中的至少1种。其中，更优选为包含选自亚烷基二醇醚溶剂及亚烷基二醇醚乙酸酯溶剂中的至少1种和选自酮溶剂及环状醚溶剂中的至少1种的混合溶剂，进一步优选为至少包含选自亚烷基二醇醚溶剂及亚烷基二醇醚乙酸酯溶剂中的至少1种、酮溶剂以及环状醚溶剂这3种的混合溶剂。[0430]作为亚烷基二醇醚溶剂，例如，可以举出乙二醇单烷基醚、乙二醇二烷基醚、丙二醇单烷基醚、丙二醇二烷基醚、二乙二醇二烷基醚、二丙二醇单烷基醚及二丙二醇二烷基醚。[0431]作为亚烷基二醇醚乙酸酯溶剂，例如，可以举出乙二醇单烷基醚乙酸酯、丙二醇单烷基醚乙酸酯、二乙二醇单烷基醚乙酸酯及二丙二醇单烷基醚乙酸酯。[0432]作为溶剂，可以使用国际公开第2018/179640号的0092～0094段中所记载的溶剂及日本特开2018-177889号公报的0014段中所记载的溶剂，这些内容被编入本说明书中。[0433]感光性树脂组合物可以单独含有1种溶剂，也可以含有2种以上。[0434]涂布感光性树脂组合物时的溶剂的含量相对于感光性树脂组合物中的总固体成分100质量份，优选为50质量份～1,900质量份，更优选为100质量份～900质量份。[0435]关于感光性树脂组合物的制备方法，并没有特别限制，例如，可以举出如下方法：预先制备将各成分溶解于上述溶剂而成的溶液，将所得到的溶液以规定的比例进行混合，从而制备感光性树脂组合物。[0436]从yμm以上的粒子的去除性的观点而言，感光性树脂组合物在形成感光性层之前，优选利用过滤器进行过滤，更优选利用孔径0.2μm～10μm的过滤器进行过滤，进一步优选利用孔径0.2μm～7μm的过滤器进行过滤，尤其优选利用孔径0.2μm～5μm的过滤器进行过滤。[0437]对于过滤器的材质及形状，并没有特别限制，能够使用公知的材质及形状。[0438]并且，上述过滤优选进行1次以上，并且也优选进行多次。[0439]关于感光性树脂组合物的涂布方法，并没有特别限制，利用公知的方法涂布即可。作为涂布方法，例如，可以举出狭缝涂布、旋转涂布、帘式涂布及喷墨涂布。[0440]并且，感光性层也可以通过将感光性树脂组合物涂布在后述的保护膜上并使其干燥而形成。[0441]并且，从分辨率及临时支承体的剥离性的观点而言，本发明中的感光性转印材料优选在上述临时支承体与上述感光性层之间具有其他层。[0442]作为其他层，可以优选举出水溶性树脂层、热塑性树脂层、保护膜等。[0443]其中，作为上述转印层，优选具有水溶性树脂层，更优选具有热塑性树脂层及水溶性树脂层。[0444]〔水溶性树脂层〕[0445]感光性转印材料在临时支承体与感光性层之间，具有后述的热塑性树脂层的情况下，优选在热塑性树脂层与感光性层之间具有水溶性树脂层。根据水溶性树脂层，能够抑制在形成多个层时及保存时的成分的混合。[0446]从显影性、以及抑制涂布多层时及涂布后保存时的成分的混合的观点而言，水溶性树脂层优选为水溶性的层。在本发明中，“水溶性”是指，在液温为22℃的ph7.0的水100g中的溶解度为0.1g以上。[0447]作为水溶性树脂层，例如，可以举出在日本特开平5-72724号公报中作为“分离层”所记载的具有阻氧功能的阻氧层。通过水溶性树脂层为阻氧层，曝光时的灵敏度提高，曝光机的时间负荷降低，其结果生产率提高。用作水溶性树脂层的阻氧层从公知的层中适当选择即可。用作水溶性树脂层的阻氧层优选为显示出低透氧性且分散或溶解于水或碱水溶液(22℃的碳酸钠的1质量％水溶液)的阻氧层。[0448]并且，从阻氧性、分辨率及图案形成性的观点而言，水溶性树脂层优选包含无机层状化合物。[0449]作为无机层状化合物，可以举出具有薄平板状的形状的粒子，例如，天然云母、合成云母等云母化合物、式：3mgo·4sio·h2o所表示的滑石、带云母(taeniolite)、蒙脱石、皂石、水辉石(hectorite)、磷酸锆等。[0450]作为云母化合物，例如，可以举出式：a(b，c)2-5d4o10(oh，f，o)2〔其中，a为k、na、ca中的任一种，b及c为fe(ii)、fe(iii)、mn、al、mg、v中的任一种，d为si或al。〕所表示的天然云母、合成云母等云母组。[0451]在云母组中，作为天然云母，可以举出白云母(muscovite)、钠云母(paragonite)、金云母(phlogopite)、黑云母(biotite)及锂云母(lepidolite)。作为合成云母，可以举出氟金云母kmg3(alsi3o10)f2、钾四硅云母kmg2.5si4o10)f2等非溶胀性云母、及na四硅云母namg2.5(si4o10)f2、na或li带云母(na，li)mg2li(si4o10)f2、蒙脱石系的na或li水辉石(hectorite)(na，li)1/8mg2/5li1/8(si4o10)f2等溶胀性云母等。此外，合成蒙脱石也有用。[0452]作为无机层状化合物的形状，从扩散控制的观点而言，厚度越薄越好，平面尺寸在不阻碍涂布面的平滑性或活性光线的透射性的范围内越大越好。因此，纵横比优选为20以上，更优选为100以上，尤其优选为200以上。纵横比是长径相对于粒子厚度之比，例如，能够从基于粒子的显微镜照片的投影图中测定。纵横比越大，所得到的效果就越大。[0453]无机层状化合物的粒径的平均长径优选为0.3μm～20μm，更优选为0.5μm～10μm，尤其优选为1μm～5μm。粒子的平均的厚度优选为0.1μm以下，更优选为0.05μm以下，尤其优选为0.01μm以下。具体而言，例如，作为代表性化合物的溶胀性合成云母的情况下，作为优选方式，厚度为1nm～50nm左右，面尺寸(长径)为1μm～20μm左右。[0454]从阻氧性、分辨率及图案形成性的观点而言，无机层状化合物的含量相对于水溶性树脂层的总质量，优选为0.1质量％～50质量％，更优选为1质量％～20质量％。[0455]水溶性树脂层优选包含树脂。作为水溶性树脂层中所包含的树脂，例如，可以举出聚乙烯醇系树脂、聚乙烯吡咯烷酮系树脂、纤维素系树脂、丙烯酰胺系树脂、聚环氧乙烷系树脂、明胶、乙烯基醚系树脂、聚酰胺树脂及它们的共聚物。水溶性树脂层中所包含的树脂优选为水溶性树脂。[0456]从抑制多个层间的成分的混合的观点而言，水溶性树脂层中所包含的树脂优选为与负型感光性层中所包含的聚合物a及热塑性树脂层中所包含的热塑性树脂(碱溶性树脂)均不同的树脂。[0457]并且，从阻氧性、显影性、分辨率及图案形成性的观点而言，水溶性树脂层优选包含水溶性化合物，更优选包含水溶性树脂。[0458]作为水溶性化合物，并没有特别的限定，但从阻氧性、显影性、分辨率及图案形成性的观点而言，优选为选自水溶性纤维素衍生物、多元醇类、多元醇类的氧化物加成物、聚醚类、酚衍生物及酰胺化合物中的1种以上的化合物，更优选为选自聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、羟丙基纤维素及羟丙基甲基纤维素中的至少1种水溶性树脂。[0459]作为水溶性树脂，例如，可以举出水溶性纤维素衍生物、聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、丙烯酰胺树脂、(甲基)丙烯酸酯树脂、聚环氧乙烷树脂、明胶、乙烯基醚树脂、聚酰胺树脂及它们的共聚物等树脂。[0460]其中，从阻氧性、显影性、分辨率及图案形成性的观点而言，水溶性化合物优选包含聚乙烯醇，更优选包含聚乙烯醇。[0461]关于聚乙烯醇的水解度，并没有特别的限定，但从阻氧性、显影性、分辨率及图案形成性的观点而言，优选为73mol％～99mol％。[0462]并且，从阻氧性、显影性、分辨率及图案形成性的观点而言，聚乙烯醇优选包含乙烯作为单体单元。[0463]从阻氧性以及抑制涂布多层时及涂布后保存时的成分的混合的观点而言，水溶性树脂层优选包含聚乙烯醇，更优选包含聚乙烯醇及聚乙烯吡咯烷酮。[0464]水溶性树脂层可以包含单独1种或2种以上的树脂。[0465]从阻氧性以及抑制涂布多层时及涂布后保存时的成分的混合的观点而言，水溶性树脂层中的水溶性化合物的含有比例相对于水溶性树脂层的总质量优选为50质量％～100质量％，更优选为70质量％～100质量％，进一步优选为80质量％～100质量％，尤其优选为90质量％～100质量％。[0466]并且，水溶性树脂层根据需要也可以包含添加剂。作为添加剂，例如，可以举出表面活性剂。[0467]关于水溶性树脂层的厚度，没有限制。水溶性树脂层的平均厚度优选为0.1μm～5μm，更优选为0.5μm～3μm。通过水溶性树脂层的厚度在上述范围内，能够在不降低阻氧性的情况下，抑制形成多个层时及保存时的成分的混合，并且，能够抑制显影时的水溶性树脂层的去除时间的增加。[0468]关于水溶性树脂层的形成方法，只要是能够形成包含上述成分的层的方法，则没有限制。作为水溶性树脂层的形成方法，例如，可以举出在热塑性树脂层或感光性层的表面上涂布水溶性树脂层组合物之后，使水溶性树脂层组合物的涂膜干燥的方法。[0469]作为水溶性树脂层组合物，例如，可以举出包含树脂及任意添加剂的组合物。为了调节水溶性树脂层组合物的粘度而易于形成水溶性树脂层，水溶性树脂层组合物优选包含溶剂。作为溶剂，只要是能够溶解或分散树脂的溶剂，则没有限制。溶剂优选为选自水及水混溶性(watermiscibility)的有机溶剂中的至少1种，更优选为水或水与水混溶性的有机溶剂的混合溶剂。[0470]作为水混溶性的有机溶剂，例如，可以举出碳原子数为1～3的醇、丙酮、乙二醇及甘油。水混溶性的有机溶剂优选为碳原子数为1～3的醇，更优选为甲醇或乙醇。[0471]〔热塑性树脂层〕[0472]本发明中所使用的感光性转印材料可以具有热塑性树脂层。感光性转印材料优选在临时支承体与感光性层之间具有热塑性树脂层。这是因为，通过感光性转印材料在临时支承体与感光性层之间具有热塑性树脂层，对粘附物的追随性得到提高，粘附物与感光性转印材料之间的气泡混入得到抑制，其结果层间的密合性得到提高。[0473]热塑性树脂层优选包含碱溶性树脂作为热塑性树脂。[0474]作为碱溶性树脂，例如，可以举出丙烯酸树脂、聚苯乙烯树脂、苯乙烯-丙烯酸共聚物、聚氨酯树脂、聚乙烯醇、聚乙烯醇缩甲醛、聚酰胺树脂、聚酯树脂、聚酰胺树脂、环氧树脂、聚缩醛树脂、聚羟基苯乙烯树脂、聚酰亚胺树脂、聚苯并噁唑树脂、聚硅氧烷树脂、聚乙烯亚胺、聚烯丙基胺及聚亚烷基二醇。[0475]从显影性及与相邻于热塑性树脂层的层的密合性的观点而言，碱溶性树脂优选为丙烯酸树脂。其中，“丙烯酸树脂”是指，具有选自来源于(甲基)丙烯酸的结构单元、来源于(甲基)丙烯酸酯的结构单元及来源于(甲基)丙烯酸酰胺的结构单元中的至少1种的树脂。[0476]在丙烯酸树脂中，来源于(甲基)丙烯酸的结构单元、来源于(甲基)丙烯酸酯的结构单元及来源于(甲基)丙烯酸酰胺的结构单元的合计含量的比例相对于丙烯酸树脂的总质量优选为50质量％以上。在丙烯酸树脂中，来源于(甲基)丙烯酸的结构单元及来源于(甲基)丙烯酸酯的结构单元的合计含量的比例相对于丙烯酸树脂的总质量优选为30质量％～100质量％，更优选为50质量％～100质量％。[0477]并且，碱溶性树脂优选为具有酸基的聚合物。作为酸基，例如，可以举出羧基、磺基、磷酸基及膦酸基，优选为羧基。[0478]从显影性的观点而言，碱溶性树脂优选为酸值为60mgkoh/g以上的碱溶性树脂，更优选为酸值为60mgkoh/g以上的含有羧基的丙烯酸树脂。关于酸值的上限，没有限制。碱溶性树脂的酸值优选为200mgkoh/g以下，更优选为150mgkoh/g以下。[0479]作为酸值为60mgkoh/g以上的含有羧基的丙烯酸树脂，并没有限制，能够从公知的树脂中适当选择而使用。作为酸值为60mgkoh/g以上的含有羧基的丙烯酸树脂，例如，可以举出日本特开2011-95716号公报的0025段中所记载的聚合物中酸值为60mgkoh/g以上的含有羧基的丙烯酸树脂、日本特开2010-237589号公报的0033段～0052段中所记载的聚合物中酸值为60mgkoh/g以上的含有羧基的丙烯酸树脂、及日本特开2016-224162号公报的0053段～0068段中所记载的粘合剂聚合物中酸值为60mgkoh/g以上的含有羧基的丙烯酸树脂。[0480]含有羧基的丙烯酸树脂中的具有羧基的结构单元的含有比例相对于含有羧基的丙烯酸树脂的总质量，优选为5质量％～50质量％，更优选为10质量％～40质量％，尤其优选为12质量％～30质量％。[0481]从显影性及与相邻于热塑性树脂层的层的密合性的观点而言，碱溶性树脂尤其优选为具有来源于(甲基)丙烯酸的结构单元的丙烯酸树脂。[0482]碱溶性树脂可以具有反应性基团。反应性基团例如只要是可加成聚合的基团即可。作为反应性基团，例如，可以举出烯属不饱和基团、缩聚性基团(例如，羟基及羧基)及加聚反应性基团(例如，环氧基及(封端)异氰酸酯基)。[0483]碱溶性树脂的重均分子量(mw)优选为1,000以上，更优选为1万～10万，尤其优选为2万～5万。[0484]热塑性树脂层可以单独包含1种或2种以上的碱溶性树脂。[0485]从显影性及与相邻于热塑性树脂层的层的密合性的观点而言，碱溶性树脂的含有比例相对于热塑性树脂层的总质量，优选为10质量％～99质量％，更优选为20质量％～90质量％，进一步优选为40质量％～80质量％，尤其优选为50质量％～70质量％。[0486]热塑性树脂层优选包含色素(以下，有时称为“色素b”。)，该色素在显色时的波长范围的400nm～780nm处的最大吸收波长为450nm以上，且通过酸、碱或自由基而最大吸收波长发生变化。关于色素b的优选方式，除了后述的点以外，与上述的色素n的优选方式相同。[0487]从曝光部的视觉辨认度、非曝光部的视觉辨认度及分辨率的观点而言，色素b优选为通过酸或自由基而最大吸收波长发生变化的色素，更优选为通过酸而最大吸收波长发生变化的色素。[0488]从曝光部的视觉辨认度、非曝光部的视觉辨认度及分辨率的观点而言，热塑性层优选包含作为色素b的通过酸而最大吸收波长发生变化的色素及通过后述的光而产生酸的化合物。[0489]热塑性树脂层也可以单独包含1种或2种以上的色素b。[0490]从曝光部的视觉辨认度及非曝光部的视觉辨认度的观点而言，色素b的含有比例相对于热塑性树脂层的总质量，优选为0.2质量％以上，更优选为0.2质量％～6质量％，进一步优选为0.2质量％～5质量％，尤其优选为0.25质量％～3.0质量％。[0491]在此，色素b的含有比例是指，使热塑性树脂层中所包含的所有色素b处于显色状态时的色素的含有比例。以下，以通过自由基而显色的色素为例，对色素b的含有比例的定量方法进行说明。制备在甲基乙基酮(100ml)中分别溶解色素(0.001g)及色素(0.01g)的2种溶液。通过向所得到的各溶液中加入irgacureoxe-01(basf公司)作为光自由基聚合引发剂之后照射365nm的光而产生自由基，使所有色素成为显色状态。接着，在大气气氛下，使用分光光度计(uv3100，shimadzucorporation)，测定液温为25℃的各溶液的吸光度，制作校准曲线。接着，代替色素而将热塑性树脂层(0.1g)溶解于甲基乙基酮中，除此以外，以与上述相同的方法，测定使色素全部显色的溶液的吸光度。根据所得到的含有热塑性树脂层的溶液的吸光度，基于校准曲线，计算热塑性树脂层中所包含的色素的量。[0492]热塑性树脂层也可以包含通过光而产生酸、碱或自由基的化合物(以下，有时称为“化合物c”。)。化合物c优选为接受活性光线(例如，紫外线及可见光线)而产生酸、碱或自由基的化合物。作为化合物c，可以举出公知的光产酸剂、光产碱剂及光自由基聚合引发剂(光自由基产生剂)。化合物c优选为光产酸剂。[0493]从分辨率的观点而言，热塑性树脂层优选包含光产酸剂。作为光产酸剂，可以举出上述的感光性层中可以包含的光阳离子聚合引发剂，除了后述的点以外，优选方式也相同。[0494]从灵敏度及分辨率的观点而言，光产酸剂优选包含选自鎓盐化合物及肟磺酸酯化合物中的至少1种，从灵敏度、分辨率及密合性的观点而言，更优选包含肟磺酸酯化合物。[0495]并且，光产酸剂也优选为具有以下结构的光产酸剂。[0496][化学式3][0497][0498]热塑性树脂层也可以包含光产碱剂。作为光产碱剂，例如，可以举出2-硝基苄基环己基氨基甲酸酯、三苯基甲醇、邻氨基甲酰基羟基酰胺、邻氨基甲酰基肟、[[(2，6-二硝基苄基)氧基]羰基]环己基胺、双[[(2-硝基苄基)氧基]羰基]己烷1，6-二胺、4-(甲硫基苯甲酰基)-1-甲基-1-吗啉基乙烷、(4-吗啉基苯甲酰基)-1-苄基-1-二甲基氨基丙烷、n-(2-硝基苄氧基羰基)吡咯烷、六氨基钴(iii)三(三苯基甲基硼酸盐)、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉基苯基)丁酮、2，6-二甲基-3，5-二乙酰基-4-(2-硝基苯基)-1，4-二氢吡啶及2，6-二甲基-3，5-二乙酰基-4-(2，4-二硝基苯基)-1，4-二氢吡啶。[0499]热塑性树脂层也可以包含光自由基聚合引发剂。作为光自由基聚合引发剂，例如，可以举出上述的感光性层中可以包含的光自由基聚合引发剂，优选方式也相同。[0500]热塑性树脂层也可以单独包含1种或2种以上的化合物c。[0501]从曝光部的视觉辨认度、非曝光部的视觉辨认度及分辨率的观点而言，化合物c的含有比例相对于热塑性树脂层的总质量，优选为0.1质量％～10质量％，更优选为0.5质量％～5质量％。[0502]从分辨率、与相邻于热塑性树脂层的层的密合性及显影性的观点而言，热塑性树脂层优选包含增塑剂。[0503]增塑剂的分子量(对于低聚物或聚合物的分子量，是指重均分子量(mw)。以下，在本段中相同。)优选比碱溶性树脂的分子量小。增塑剂的分子量优选为200～2,000。[0504]增塑剂只要是与碱溶性树脂相溶而显现出增塑性的化合物，则没有限制。从赋予增塑性的观点而言，增塑剂优选为在分子中具有亚烷基氧基的化合物，更优选为聚亚烷基二醇化合物。增塑剂中所包含的亚烷基氧基优选具有聚乙烯氧基结构或聚丙烯氧基结构。[0505]从分辨率及保存稳定性的观点而言，增塑剂优选包含(甲基)丙烯酸酯化合物。从相容性、分辨率及与相邻于热塑性树脂层的层的密合性的观点而言，更优选碱溶性树脂为丙烯酸树脂且增塑剂包含(甲基)丙烯酸酯化合物。[0506]作为用作增塑剂的(甲基)丙烯酸酯化合物，例如，可以举出在上述烯属不饱和化合物中所记载的(甲基)丙烯酸酯化合物。在感光性转印材料中，在热塑性树脂层与感光性层直接接触而配置的情况下，热塑性树脂层及感光性层分别优选包含相同的(甲基)丙烯酸酯化合物。这是因为，通过热塑性树脂层及感光性层分别包含相同的(甲基)丙烯酸酯化合物，层间的成分扩散得到抑制，保存稳定性得到提高。[0507]在热塑性树脂层包含(甲基)丙烯酸酯化合物作为增塑剂的情况下，从与相邻于热塑性树脂层的层的密合性的观点而言，优选(甲基)丙烯酸酯化合物在曝光后的曝光部也不聚合。[0508]在一实施方式中，从分辨率、与相邻于热塑性树脂层的层的密合性及显影性的观点而言，用作增塑剂的(甲基)丙烯酸酯化合物优选为在一个分子中具有2个以上(甲基)丙烯酰基的(甲基)丙烯酸酯化合物。[0509]在一实施方式中，用作增塑剂的(甲基)丙烯酸酯化合物优选为具有酸基的(甲基)丙烯酸酯化合物或氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物。[0510]热塑性树脂层也可以单独包含1种或2种以上的增塑剂。[0511]从分辨率、与相邻于热塑性树脂层的层的密合性及显影性的观点而言，增塑剂的含有比例相对于热塑性树脂层的总质量，优选为1质量％～70质量％，更优选为10质量％～60质量％，尤其优选为20质量％～50质量％。[0512]从厚度的均匀性的观点而言，热塑性树脂层优选包含表面活性剂。作为表面活性剂，例如，可以举出上述的感光性层中可以包含的表面活性剂，优选方式也相同。[0513]热塑性树脂层也可以单独包含1种或2种以上的表面活性剂。[0514]表面活性剂的含有比例相对于热塑性树脂层的总质量，优选为0.001质量％～10质量％，更优选为0.01质量％～3质量％。[0515]热塑性树脂层也可以包含增敏剂。作为增敏剂，例如，可以举出上述的负型感光性层中可以包含的增敏剂。[0516]热塑性树脂层也可以单独包含1种或2种以上的增敏剂。[0517]从提高对光源的灵敏度、曝光部的视觉辨认度及非曝光部的视觉辨认度的观点而言，增敏剂的含有比例相对于热塑性树脂层的总质量，优选为0.01质量％～5质量％，更优选为0.05质量％～1质量％。[0518]热塑性树脂层除了上述成分以外，根据需要还可以包含公知的添加剂。[0519]并且，对于热塑性树脂层，在日本特开2014-85643号公报的0189段～0193段中有所记载。上述公报的内容通过参考被编入本说明书中。[0520]关于热塑性树脂层的厚度，没有限制。从与相邻于热塑性树脂层的层的密合性的观点而言，热塑性树脂层的平均厚度优选为1μm以上，更优选为2μm以上。关于热塑性树脂层的平均厚度的上限，没有限制。从显影性及分辨率的观点而言，热塑性树脂层的平均厚度优选为20μm以下，更优选为10μm0下，尤其优选为5μm以下。[0521]关于热塑性树脂层的形成方法，只要是能够形成包含上述成分的层的方法，则没有限制。作为热塑性树脂层的形成方法，例如，可以举出在临时支承体的表面上涂布热塑性树脂组合物，并使热塑性树脂组合物的涂膜干燥的方法。[0522]作为热塑性树脂组合物，例如，可以举出包含上述成分的组合物。为了调节热塑性树脂组合物的粘度而易于形成热塑性树脂层，热塑性树脂组合物优选包含溶剂。[0523]作为热塑性树脂组合物中所包含的溶剂，只要是能够溶解或分散热塑性树脂层中所包含的成分的溶剂，则没有限制。作为溶剂，可以举出上述的感光性树脂组合物可以包含的溶剂，优选方式也相同。[0524]热塑性树脂组合物可以单独包含1种或2种以上的溶剂。[0525]热塑性树脂组合物中的溶剂的含有比例相对于热塑性树脂组合物中的总固体成分100质量份，优选为50质量份～1,900质量份，更优选为100质量份～900质量份。[0526]关于热塑性树脂组合物的制备及热塑性树脂层的形成，只要按照上述的感光性树脂组合物的制备方法及负型感光性层的形成方法进行即可。例如，预先制备将热塑性树脂层中所包含的各成分溶解于溶剂中的溶液，将所得到的各溶液以规定的比例进行混合，由此制备出热塑性树脂组合物之后，在临时支承体的表面上涂布所得到的热塑性树脂组合物，并使热塑性树脂组合物的涂膜干燥，由此形成热塑性树脂层。并且，也可以在保护膜上形成负型感光性层之后，在负型感光性层的表面上形成热塑性树脂层。[0527]〔保护膜〕[0528]感光性转印材料具有保护膜。[0529]另外，保护膜不包含在上述转印层中。[0530]感光性层与保护膜优选直接接触。[0531]作为构成保护膜的材料，可以举出树脂薄膜及纸，从强度及挠性的观点而言，优选树脂薄膜。[0532]作为树脂薄膜，可以举出聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚对苯二甲酸乙二酯薄膜、三乙酸纤维素薄膜、聚苯乙烯薄膜及聚碳酸酯薄膜。其中，优选聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜或聚对苯二甲酸乙二酯薄膜。[0533]关于保护膜的厚度(层厚)，并没有特别限制，但优选为5μm～100μm，更优选为10μm～50μm。[0534]从输送性、树脂图案的缺陷抑制性及分辨率的观点而言，保护膜中的与上述感光性层侧相反的一侧的面的算术平均粗糙度ra优选为保护膜中的上述感光性层侧的面的算术平均粗糙度ra以下，更优选比保护膜中的上述感光性层侧的面的算术平均粗糙度ra小。[0535]从输送性及卷取性的观点而言，保护膜中的与上述感光性层侧相反的一侧的面的算术平均粗糙度ra优选为300nm以下，更优选为100nm以下，进一步优选为70nm以下，尤其优选为50nm以下。[0536]并且，从分辨率更优异的方面而言，保护膜中的上述感光性层侧的面的算术平均粗糙度ra优选为300nm以下，更优选为100nm以下，进一步优选为70nm以下，尤其优选为50nm以下。认为这是因为，通过保护膜的表面的ra值在上述范围内，感光性层及所形成的树脂图案的层厚的均匀性得到提高。[0537]关于保护膜的表面的ra值的下限，并没有特别限制，但两面均分别优选为1nm以上，更优选为10nm以上，尤其优选为20nm以上。[0538]并且，保护膜的剥离力优选比临时支承体的剥离力小。[0539]感光性转印材料可以具备除了上述的层以外的层(以下，也称为“其他层”。)。作为其他层，例如，可以举出对比度增强层。[0540]关于对比度增强层，在国际公开第2018/179640号的0134段中有所记载。并且，关于其他层，在日本特开2014-85643号公报的0194～0196段中有所记载。这些公报的内容被编入本说明书中。[0541]感光性转印材料的总厚度优选为5μm～55μm，更优选为10μm～50μm，尤其优选为20μm～40μm。感光性转印材料的总厚度通过按照上述各层的厚度的测定方法的方法进行测定。[0542]从进一步发挥本发明中的效果的观点而言，感光性转印材料中的除了临时支承体及保护膜以外的各层的总厚度优选为20μm以下，更优选为10μm以下，进一步优选为8μm以下，尤其优选为2μm以上且8μm以下。[0543]并且，从进一步发挥本发明中的效果的观点而言，感光性转印材料中的感光性层、水溶性树脂层及热塑性树脂层的总厚度优选为20μm以下，更优选为10μm以下，进一步优选为8μm以下，尤其优选为2μm以上且8μm以下。[0544]〔感光性转印材料的制造方法〕[0545]关于本发明中所使用的感光性转印材料的制造方法，并没有特别限制，能够使用公知的制造方法，例如，公知的各层的形成方法。[0546]以下，参考图1，对本发明中所使用的感光性转印材料的制造方法进行说明。但是，本发明中所使用的感光性转印材料不限于具有图1所示的结构的感光性转印材料。[0547]图1是表示本发明中所使用的感光性转印材料的一实施方式中的层结构的一例的示意剖视图。图1所示的感光性转印材料20具有依次层叠有临时支承体11、热塑性树脂层13、水溶性树脂层15、感光性层17及保护膜19而成的结构。并且，图1中的转印层12为热塑性树脂层13、水溶性树脂层15及感光性层17。[0548]作为上述的感光性转印材料20的制造方法，例如，可以举出包括如下工序的方法：在临时支承体11的表面上涂布热塑性树脂组合物之后，使热塑性树脂组合物的涂膜干燥，由此形成热塑性树脂层13的工序；在热塑性树脂层13的表面上涂布水溶性树脂层组合物之后，使水溶性树脂层组合物的涂膜干燥而形成水溶性树脂层15的工序；及在水溶性树脂层15的表面上涂布含有烯属不饱和化合物的感光性树脂组合物之后，使感光性树脂组合物的涂膜干燥而形成感光性层16的工序。[0549]在上述的制造方法中，优选使用如下组合物：含有选自亚烷基二醇醚溶剂及亚烷基二醇醚乙酸酯溶剂中的至少1种的热塑性树脂组合物；含有选自水及水混溶性的有机溶剂中的至少1种的水溶性树脂层组合物；及含有粘合剂聚合物、烯属不饱和化合物、以及选自亚烷基二醇醚溶剂及亚烷基二醇醚乙酸酯溶剂中的至少1种的感光性树脂组合物。由此，能够抑制对热塑性树脂层13的表面的水溶性树脂层组合物的涂布和/或在具有水溶性树脂层组合物的涂膜的层叠体的保存期间中的热塑性树脂层13中所含有的成分与水溶性树脂层15中所含有的成分的混合，并且能够抑制对水溶性树脂层15的表面的感光性树脂组合物的涂布和/或在具有感光性树脂组合物的涂膜的层叠体的保存期间中的水溶性树脂层15中所含有的成分与感光性层16中所含有的成分的混合。[0550]通过使保护膜19压接在利用上述的制造方法制造的层叠体的感光性层17上而制造感光性转印材料20。[0551]作为本发明中所使用的感光性转印材料的制造方法，优选通过包括以与感光性层17的第2面接触的方式设置保护膜19的工序而制造具备临时支承体11、热塑性树脂层13、水溶性树脂层15、感光性层17及保护膜19的感光性转印材料20。[0552]可以在通过上述的制造方法制造感光性转印材料20之后，将感光性转印材料20进行卷取，由此制作及保管卷形态的感光性转印材料。卷形态的感光性转印材料能够以该形态直接提供到后述的卷对卷方式中的与基板的贴合工序中。[0553]本发明中所使用的感光性转印材料能够优选用于需要基于光刻法的精密微细加工的各种用途中。将感光性层进行图案化后，可以将感光性层作为被膜进行蚀刻，也可以进行以电镀为主体的电铸。并且，通过图案化而得到的固化膜可以用作永久膜，例如，可以用作层间绝缘膜、配线保护膜、具有折射率匹配层的配线保护膜等。并且，本发明中所使用的感光性转印材料能够优选使用于半导体封装、印刷基板、传感器基板的各种配线形成用途、触摸面板、电磁屏蔽件材料、薄膜加热器等导电性薄膜、液晶密封材料、微机械或微电子领域中的结构物的形成等用途中。[0554]并且，本发明中所使用的感光性转印材料也可以优选举出感光性层为包含颜料的着色树脂层的方式。[0555]作为着色树脂层的用途，除了上述以外，例如，适用于如下用途：形成用于液晶显示装置(lcd)以及固体摄像元件〔例如，ccd(charge-coupleddevice：电荷耦合器件)及cmos(complementarymetaloxidesemiconductor：互补金属氧化物半导体)〕的滤色器等的着色像素或黑矩阵。[0556]关于着色树脂层中的除了颜料以外的方式，与上述的方式相同。[0557]《颜料》[0558]感光性层可以为包含颜料的着色树脂层。[0559]近年来的电子设备所具有的液晶显示窗中，为了保护液晶显示窗，有时安装有在透明的玻璃基板等背面周缘部形成有黑色的框状遮光层的盖玻璃(coverglass)。为了形成这种遮光层，可以使用着色树脂层。[0560]作为颜料，只要根据所期望的色相适当选择即可，能够从黑色颜料、白色颜料、除了黑色及白色以外的彩色颜料中选择。其中，在形成黑色系图案的情况下，作为颜料，优选选择黑色颜料。[0561]作为黑色颜料，只要在不损害本发明中的效果的范围内，则能够适当选择公知的黑色颜料(有机颜料或无机颜料等)。其中，从光密度的观点而言，作为黑色颜料，例如，可以优选举出炭黑、氧化钛、碳化钛、氧化铁、氧化钛及石墨等，尤其优选炭黑。作为炭黑，从表面电阻的观点而言，优选表面的至少一部分被树脂涂覆的炭黑。[0562]从分散稳定性的观点而言，黑色颜料的粒径以数均粒径计，优选为0.001μm～0.1μm，更优选为0.01μm～0.08μm。[0563]其中，粒径是指从由电子显微镜拍摄的颜料粒子的照片图像求出颜料粒子的面积并考虑了与颜料粒子的面积相同面积的圆时的圆的直径，数均粒径是针对任意100个粒子求出上述的粒径并将所求出的100个粒径进行平均而得到的平均值。[0564]作为除了黑色颜料以外的颜料，对于白色颜料，能够使用日本特开2005-007765号公报的0015及0114段中所记载的白色颜料。具体而言，在白色颜料中，作为无机颜料，优选为氧化钛、氧化锌、锌钡白、轻质碳酸钙、白碳墨、氧化铝、氢氧化铝或硫酸钡，更优选为氧化钛或氧化锌，进一步优选为氧化钛。作为无机颜料，进一步优选为金红石型或锐钛矿型的氧化钛，尤其优选为金红石型的氧化钛。[0565]并且，氧化钛的表面可以实施二氧化硅处理、氧化铝处理、二氧化钛处理、氧化锆处理或有机物处理，也可以实施两种以上的处理。由此，氧化钛的催化活性得到抑制，耐热性及褪光性等得到改善。[0566]从使加热后的感光性层的厚度变薄的观点而言，作为对氧化钛的表面的表面处理，优选氧化铝处理及氧化锆处理中的至少一方，尤其优选氧化铝处理及氧化锆处理这两者。[0567]并且，在感光性层为着色树脂层的情况下，从转印性的观点而言，也优选感光性层还包含除了黑色颜料及白色颜料以外的彩色颜料。在包含彩色颜料的情况下，作为彩色颜料的粒径，从分散性更优异的方面而言，优选为0.1μm以下，更优选为0.08μm以下。[0568]作为彩色颜料，例如，可以举出维多利亚纯蓝bo(colorindex(比色指数)(以下c.i.)42595)、金胺(c.i.41000)、脂肪黑(fatblack)hb(c.i.26150)、莫诺莱特黄(monolightyellow)gt(c.i.颜料黄12)、永久黄(permanentyellow)gr(c.i.颜料黄17)、永久黄hr(c.i.颜料黄83)、永久胭脂红(permanentcarmine)fbb(c.i.颜料红146)、赫斯塔巴姆红(hostapermred)esb(c.i.颜料紫19)、永久宝石红(permanentruby)fbh(c.i.颜料红11)、法斯特尔粉红(pastelpink)b司普拉(supura)(c.i.颜料红81)、莫纳斯特拉坚牢蓝(monastralfastblue)(c.i.颜料蓝15)、莫诺莱特坚牢黑b(c.i.颜料黑1)及碳、c.i.颜料红97、c.i.颜料红122、c.i.颜料红149、c.i.颜料红168、c.i.颜料红177、c.i.颜料红180、c.i.颜料红192、c.i.颜料红215、c.i.颜料绿7、c.i.颜料蓝15∶1、c.i.颜料蓝15∶4、c.i.颜料蓝22、c.i.颜料蓝60、c.i.颜料蓝64及c.i.颜料紫23等。其中，优选c.i.颜料红177。[0569]在感光性层包含颜料的情况下，作为颜料的含量，相对于感光性层的总质量，优选为超过3质量％且40质量％以下，更优选为超过3质量％且35质量％以下，进一步优选为超过5质量％且35质量％以下，尤其优选为10质量％以上且35质量％以下。[0570]在感光性层包含除了黑色颜料以外的颜料(白色颜料及彩色颜料)的情况下，除了黑色颜料以外的颜料的含量相对于黑色颜料优选为30质量％以下，更优选为1质量％～20质量％，进一步优选为3质量％～15质量％。[0571]另外，在感光性层包含黑色颜料，且感光性层由感光性树脂组合物形成的情况下，黑色颜料(优选为炭黑)优选以颜料分散液的方式导入到感光性树脂组合物中。[0572]分散液可以通过将预先混合黑色颜料和颜料分散剂而得到的混合物加入到有机溶剂(或载体)中并用分散机使其分散而制备。颜料分散剂只要根据颜料及溶剂选择即可，例如能够使用市售的分散剂。另外，载体是指制成颜料分散液时使颜料分散的介质部分，其为液状，包含将黑色颜料以分散状态保持的粘合剂成分和溶解及稀释粘合剂成分的溶剂成分(有机溶剂)。[0573]作为分散机，并没有特别限制，例如，可以举出捏合机、辊磨机、磨碎机(attritor)、超级研磨机(supermill)、溶解器(dissolver)、均质混合器(homomixer)及砂磨机(sandmill)等公知的分散机。此外，也可以通过机械式磨碎，利用摩擦力进行微粉碎。关于分散机及微粉碎，能够参考“颜料词典”(朝仓邦造著，第一版，朝仓书店，2000年，438页，310页)的记载。[0574](电路配线的制造方法)[0575]本发明所涉及的电路配线的制造方法只要是使用通过本发明所涉及的层叠体的制造方法制造的层叠体或后述的本发明所涉及的感光性转印材料的方法，则没有特别限制。[0576]并且，本发明所涉及的电路配线的制造方法优选为依次包括如下工序的方法：准备工序，准备通过本发明所涉及的层叠体的制造方法得到的层叠体；及蚀刻工序，对未配置有上述树脂图案的区域中的上述基板进行蚀刻处理。[0577]以下，对电路配线的制造方法所包括的各工序进行说明，但除了特别提及的情况以外，对层叠体的制造方法中所包括的各工序进行说明的内容也适用于电路配线的制造方法中所包括的各工序。[0578]《准备工序》[0579]本发明所涉及的电路配线的制造方法优选包括准备工序，该准备工序准备通过本发明所涉及的层叠体的制造方法得到的层叠体。[0580]准备工序中的层叠体的优选方式与本发明所涉及的层叠体的制造方法中的优选方式相同。[0581]《蚀刻工序》[0600]电路配线的制造方法可以包括进行降低基板所具有的多个导电层的一部分或全部的可见光线反射率的处理的工序。[0601]作为降低可见光线反射率的处理，可以举出氧化处理。在基板具有含有铜的导电层的情况下，将铜进行氧化处理而制成氧化铜，并对导电层进行黑化，由此能够降低导电层的可见光线反射率。[0602]关于降低可见光线反射率的处理，在日本特开2014-150118号公报的0017～0025段、以及日本特开2013-206315号公报的0041段、0042段、0048段及0058段中有所记载，这些公报中所记载的内容被并入本说明书中。[0603]-形成绝缘膜的工序、在绝缘膜的表面上形成新的导电层的工序-[0604]电路配线的制造方法优选包括在电路配线的表面上形成绝缘膜的工序及在绝缘膜的表面上形成新的导电层的工序。[0605]通过上述的工序，能够形成与第一电极图案绝缘的第二电极图案。[0606]作为形成绝缘膜的工序，并没有特别限制，可以举出公知的形成永久膜的方法。并且，可以使用具有绝缘性的感光性材料，并通过光刻法来形成所期望的图案的绝缘膜。[0607]关于在绝缘膜上形成新的导电层的工序，并没有特别限制，例如，可以使用具有导电性的感光性材料，并通过光刻法来形成所期望的图案的新的导电层。[0608]关于电路配线的制造方法，也优选使用在基板的两个表面分别具有多个导电层的基板，并对形成于基板的两个表面上的导电层逐次或同时形成电路。通过这种结构，能够形成在基板的一个表面形成有第一导电图案且在另一个表面形成有第二导电图案的触摸面板用电路配线。并且，也优选以卷对卷方式从基板的两面形成这种结构的触摸面板用电路配线。[0609]《用途》[0610]通过本发明所涉及的树脂图案的制造方法制造的树脂图案、通过本发明所涉及的层叠体的制造方法制造的层叠体及通过本发明所涉及的电路配线的制造方法制造的电路配线能够适用于各种装置中。作为具备上述层叠体的装置，例如，可以举出输入装置等，优选为触摸面板，更优选为静电电容型触摸面板。并且，上述输入装置能够适用于有机电致发光显示装置、液晶显示装置等显示装置中。[0611]在层叠体适用于触摸面板的情况下，所形成的树脂图案优选用作触摸面板用电极或触摸面板用配线的保护膜。即，本发明所涉及的感光性转印材料优选用于触摸面板用电极保护膜或触摸面板用配线的形成。[0612](电子器件的制造方法)[0613]本发明所涉及的电子器件的制造方法只要是使用通过本发明所涉及的层叠体的制造方法制造的层叠体或后述的本发明所涉及的感光性转印材料的方法，则没有特别限制。[0614]并且，本发明所涉及的电子器件的制造方法优选为依次包括如下工序的方法：准备工序，准备通过本发明所涉及的层叠体的制造方法得到的层叠体；及蚀刻工序，对未配置有上述树脂图案的区域中的上述基板进行蚀刻处理。[0615]通过本发明所涉及的电子器件的制造方法制造的电子器件优选具有上述树脂图案作为永久膜。[0616]关于电子器件的制造方法中的各工序的具体的方式及进行各工序的顺序等的实施方式，如在上述的“层叠体的制造方法”及“电路配线的制造方法”的项中所说明的那样，优选方式也相同。[0617]电子器件的制造方法中，通过上述的方法形成电子器件用配线，除此以外，参考公知的电子器件的制造方法即可。[0618]并且，电子器件的制造方法也可以包括除了上述以外的任意的工序(其他工序)。[0619]作为电子器件，并没有特别限制，但可以优选举出半导体封装、印刷基板、传感器基板的各种配线形成用途、触摸面板、电磁屏蔽件材料、薄膜加热器等导电性薄膜、液晶密封材料、微机械或微电子领域中的结构物。[0620]上述树脂图案在上述电子器件中优选用作永久膜，例如，层间绝缘膜、配线保护膜、具有折射率匹配层的配线保护膜等。[0621]其中，作为电子器件，可以尤其优选举出触摸面板。[0622]在图2及图3中示出触摸面板的制造中所使用的掩模的图案的一例。[0623]在图2所示的图案a及图3所示的图案b中，gr为非图像部(遮光部)，ex为图像部(曝光部)，dl虚拟表示对准框。在触摸面板的制造方法中，例如，通过经由具有图2所示的图案a的掩模而对上述感光性层进行曝光，能够制造形成有具有与fx对应的图案a的电路配线的触摸面板。具体而言，能够通过国际公开第2016/190405号的图1中所记载的方法进行制作。在所制造的触摸面板的一例中，曝光部ex的中央部(资格连结而成的图案部分)是形成透明电极(触摸面板用电极)的部分，曝光部ex的周缘部(细线部分)是形成外围引出部的配线的部分。[0624]通过上述电子器件的制造方法，制造出至少具有电子器件用配线的电子器件，优选制造出例如至少具有触摸面板用配线的触摸面板。[0625]触摸面板优选具有透明基板、电极、绝缘层或保护层。[0626]作为触摸面板中的检测方法，可以举出电阻膜方式、静电电容方式、超声波方式、电磁感应方式及光学方式等公知的方式。其中，优选静电电容方式。[0627]作为触摸面板型，可以举出所谓的内嵌型(例如，日本特表2012-517051号公报的图5、图6、图7、图8中所记载的内容)、所谓的外嵌型(例如，日本特开2013-168125号公报的图19中所记载的内容、以及日本特开2012-89102号公报的图1及图5中所记载的内容)、ogs(oneglasssolution：单片玻璃触控技术)型、tol(touch-on-lens：覆盖层触摸)型(例如，日本特开2013-54727号公报的图2中所记载的内容)、各种外挂型(所谓的gg、g1·g2、gff、gf2、gf1及g1f等)以及其他结构(例如，日本特开2013-164871号公报的图6中所记载的内容)。[0628]作为触摸面板，例如，可以举出日本特开2017-120435号公报的0229段中所记载的触摸面板。[0629](感光性转印材料)[0630]本发明所涉及的感光性转印材料具有临时支承体和包含感光性层的转印层，在将上述感光性层的极限分辨度定义为xtμm，将粒子的基准直径定义为yt＝0.5×xt所表示的ytμm的情况下，上述感光性层的表面及内部的具有ytμm以上的直径的粒子的个数为15个/cm2以下。[0631]并且，本发明所涉及的感光性转印材料的优选方式除了后述的情况以外，与上述的本发明所涉及的层叠体的制造方法中所使用的感光性转印材料的优选方式相同。[0632]《感光性层的极限分辨度为xtμm、以及感光性层的表面及内部的具有ytμm以上的直径的粒子的个数》[0633]本发明所涉及的感光性转印材料中，在将上述感光性层的极限分辨度定义为xtμm，将粒子的基准直径定义为yt＝0.5×xt所表示的ytμm的情况下，上述感光性层的表面及内部的具有ytμm以上的直径的粒子的个数为15个/cm2以下，从抑制针孔缺陷的观点而言，优选为10个/cm2以下，更优选为7个/cm2以下，尤其优选为5个/cm2以下。另外，下限值为0个/cm2。[0634]本发明所涉及的感光性转印材料中的感光性层的极限分辨度xt的测定、以及感光性层的表面及内部的具有ytμm以上的直径的粒子个数的测定，能够以与上述的本发明所涉及的层叠体的制造方法中的极限分辨度xμm、以及具有yμm以上的直径的粒子个数的测定方法相同的方法进行测定。[0635]实施例[0636]以下举出实施例对本发明的实施方式进行更具体的说明。以下的实施例所示的材料、使用量、比例、处理内容及处理顺序等只要不脱离本发明的实施方式的主旨，则能够适当进行变更。因此，本发明的实施方式的范围并不限定于以下所示的具体例。另外，只要没有特别说明，则“份”、“％”为质量标准。[0637]《临时支承体a的制作》[0638]根据以下的方法制作了临时支承体a。[0639]〔粒子含有层形成组合物1的制作〕[0640]以下述所示的配方混合各成分而得到了粒子含有层形成组合物1。制备粒子含有层形成组合物1之后，通过6μm过滤器(f20，mahlejapanltd.，制)进行过滤，接着，使用2x6radialflowsuperphobic(polyporeinternational，inc.制)，进行了膜除气。[0641]·丙烯聚合物(as-563a，daicelfinechemltd.制，固体成分27.5质量％)167份[0642]·非离子系表面活性剂(naroactycl95，sanyochemicalindustries，ltd.制造，固体成分100质量％)0.7份[0643]·阴离子系表面活性剂(rapisola-90，nofcorporation制造，用水稀释成固体成分1质量％)：114.4份[0644]·巴西棕榈蜡分散物(cellosol524，chukyoyushico.，ltd.制造，固体成分30质量％)7份[0645]·碳二亚胺化合物(carbodilitev-02-l2，nisshinboco.，ltd.制造，用水稀释成固体成分10质量％)20.9份[0646]·消光剂(snowtexxl，nissanchemicalcorporation制，固体成分40质量％，平均粒径50nm)2.8份[0647]·纯水690.2份[0648]〔挤出成型〕[0649]对使用日本专利第5575671号公报中所记载的柠檬酸螯合有机钛络合物作为聚合催化剂所制造的聚对苯二甲酸乙二酯(pet)的颗粒进行干燥，使上述颗粒的含水率成为50ppm以下。将所干燥的颗粒投入到直径为30mm的单轴混炼挤出机的料斗中，在280℃下熔融。将该熔融体(熔融)通过过滤器(孔径2μm)之后，从模具向25℃的冷却辊挤出，得到了未拉伸膜。在上述方法中，使用静电施加法使熔融体密合于冷却辊。[0650]〔拉伸及涂布〕[0651]对固化后的未拉伸膜，通过以下的方法实施逐次双轴拉伸，在厚度为16μm的聚对苯二甲酸乙二酯薄膜上，形成了厚度为40nm的粒子含有层。[0652](a)纵向拉伸[0653]使未拉伸膜通过圆周速度不同的2对夹持辊之间，在纵向(输送方向)进行了拉伸。以下示出纵向拉伸的条件。[0654]·预热温度：75℃[0655]·拉伸温度：90℃[0656]·拉伸倍率：3.4倍[0657]·拉伸速度：1,300％/秒[0658](b)涂布[0659]在纵向拉伸的薄膜的单面，使用棒涂布机，以制膜后的厚度成为40nm的方式，涂布了粒子含有层形成用组合物1。[0660](c)横向拉伸[0661]对涂布了粒子含有层形成用组合物1的薄膜，使用拉幅机，在下述条件下进行了横向拉伸。[0662]·预热温度：110℃[0663]·拉伸温度：120℃[0664]·拉伸倍率：4.2倍[0665]·拉伸速度：50％/秒[0666]〔热定型及热松弛〕[0667]将经过纵向拉伸及横向拉伸的双轴拉伸薄膜，在下述条件下，进行了热定型。[0668]·热定型温度：227℃[0669]·热定型时间：6秒[0670]热定型之后，缩小拉幅机宽度，将双轴拉伸薄膜在下述条件下，进行了热松弛。[0671]·热松弛温度：190℃[0672]·热松弛率：4％[0673]〔卷取〕[0674]热定型及热松弛之后，对薄膜的两端进行修整，在薄膜的端部以10mm宽度挤出加工(滚花)之后，以40kg/m的张力卷取了薄膜。薄膜的宽度为1.5m，薄膜的卷长为6，300m。将所得到的薄膜辊设为临时支承体a。[0675]临时支承体a依次具有聚对苯二甲酸乙二酯薄膜(基材)和粒子含有层。[0676]临时支承体a的雾度为0.2％。雾度使用雾度计(nippondenshokuindustriesco.，ltd.制ndh2000)作为总光雾度进行了测定。[0677]从临时支承体a的剖面tem照片测定的粒子含有层的厚度为40nm。使用hitachihigh-technologiescorporation制的ht-7700型投射型电子显微镜(tem)并通过上述的方法进行测定的、粒子含有层中所包含的粒子的平均粒径为50nm。[0678]《临时支承体b的制作》[0679]通过调整熔融流量及拉伸条件，除了设为厚度25μm以外，以与临时支承体a的制作相同的方法，得到了临时支承体b。[0680]《感光性组合物1～4的制备》[0681]将表1中所记载的各成分和甲基乙基酮(sankyochemicalco.，ltd.制)(60份)及丙二醇单甲醚乙酸酯(showadenkok.k.制)(40份)的混合溶剂以感光性组合物的固体成分浓度成为13质量％的方式，添加混合溶剂而得到了混合液。之后，将所得到的混合溶液，使用后述的表4中所记载的孔径的聚四氟乙烯制过滤器，进行表4中所记载的次数的过滤，由此分别制备了感光性组合物1～4。[0682][表1][0683][0684]并且，以下示出表1中所记载的化合物的详细内容。[0685]bpe-500：2，2-双(4-(甲基丙烯酰氧基五乙氧基)苯基)丙烷，shin-nakamurachemicalco.，ltd.制[0686]m-270：聚丙二醇二丙烯酸酯，toagoseico.，ltd.制[0687]a-tmpt：三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，shin-nakamurachemicalco.，ltd.制[0688]sr-454：乙氧基化(3)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，sartomercompany，inc制[0689]a-9300-cli：ε-己内酯改性三(2-丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯，shin-nakamurachemicalco.，ltd.制[0690]b-cim：光自由基产生剂(光聚合引发剂)，hampford公司制，2-(2-氯苯基)-4，5-二苯基咪唑二聚体[0691]sb-pi701：增敏剂，4，4’‑双(二乙氨基)二苯甲酮，由sanyotradingco.，ltd.获得[0692]cbt-1：防锈剂，羧基苯并三唑，johokuchemicalco.，ltd制[0693]tdp-g：阻聚剂，吩噻嗪，kawaguchichemicalindustryco.，ltd.制[0694]irganox245：受阻酚系阻聚剂，basf公司制[0695]f-552：氟系表面活性剂，megafacf552，diccorporation制[0696]《热塑性树脂组合物的制备》[0697]将表2中所记载的各成分混合，制备了热塑性树脂组合物。[0698][表2][0699][0700]另外，表2中所记载的各成分的数值的单位为质量份。[0701]以下示出上述的表2中所记载的缩写的含义。[0702]·a-2：甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸/丙烯酸共聚物(75质量％/10质量％/15质量％、重均分子量：30,000，tg：75℃，酸值：186mgkoh/g)[0703]·b-1：下述所示的结构的化合物(通过酸而显色的色素)[0704][化学式4][0705][0706]·c-1：下述所示的结构的化合物(光产酸剂，日本特开2013-47765号公报的0227段中所记载的化合物，按照0227段中所记载的方法进行合成。)[0707][化学式5][0708][0709]·d-3：nk酯a-dcp(三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯，shin-nakamurachemicalco.，ltd.制)[0710]·d-4：8ux-015a(多官能氨基甲酸酯丙烯酸酯化合物，taiseifinechemicalco，.ltd.)[0711]·d-5：aronixto-2349(具有羧基的多官能丙烯酸酯化合物，toagoseico.，ltd.制)[0712]·e-1：megafacf552(diccorporation制)[0713]·f-1：吩噻嗪(fujifilmwakopurechemicalcorporation制)[0714]·f-2：cbt-1(johokuchemicalco.，ltd制)[0715]·mek：甲基乙基酮[0716]·pgme：丙二醇单甲醚[0717]·pgmea：丙二醇单甲醚乙酸酯[0718]《水溶性树脂组合物的制备》[0719]将以下的成分混合，进行了水溶性树脂组合物的制备。另外，各成分的量的单位为质量份。[0720]离子交换水：38.12份[0721]甲醇(mitsubishigaschemicalcompany，inc.制)：57.17份[0722]kuraraypoval4-88la(聚乙烯醇，kurarayco.，ltd.制)：3.22份[0723]聚乙烯吡咯烷酮k-30(nipponshokubaico.，ltd.制)：1.49份[0724]megafacf-444(氟系表面活性剂，diccorporation制)：0.0035份[0725](实施例1～5)[0726]在临时支承体的基材(聚对苯二甲酸乙二酯薄膜)上，使用狭缝状喷嘴，涂布了热塑性树脂组合物。将所涂布的热塑性树脂组合物在100℃下干燥120秒钟，形成了具有表3中所记载的厚度的热塑性树脂层。[0727]在热塑性树脂层上，使用狭缝状喷嘴，涂布了水溶性树脂组合物。将所涂布的水溶性树脂组合物在120℃下干燥120秒钟，形成了具有表3中所记载的厚度的水溶性树脂层。[0728]在水溶性树脂层上，使用狭缝状喷嘴，涂布了表3中所记载的感光性组合物。将所涂布的感光性组合物在100℃下干燥120秒钟，形成具有表3中所记载的厚度的感光性层(层结构：表3中所记载的涂布层1)，得到了感光性转印材料。[0729]通过以上的步骤得到的感光性转印材料依次包括临时支承体、热塑性树脂层、水溶性树脂层及感光性层。将与热塑性树脂层、水溶性树脂层及感光性层相关的层结构(涂布层1～5)示于表3。[0730](实施例6～18及比较例1)[0731]按照表3及表4的记载进行了适当变更，除此以外，以与实施例1相同的方式，得到了感光性转印材料。[0732]《分辨率》[0733](1)在厚度为100μm的聚对苯二甲酸乙二酯(pet)薄膜上，通过溅射形成厚度为200nm的铜层，从而制作了带铜层的pet基板。通过使用了真空层压机(mckco.，ltd.，制，辊温度：100℃，线压：1.0mpa，线速度：0.5m/分)的卷对卷方式，使感光性转印材料与带铜层的pet基板贴合，得到了层叠体。所得到的层叠体至少依次包括pet薄膜、铜层、感光性层及临时支承体。[0734](2)将所得到的层叠体，使用高压灭菌器装置，在0.6mpa及60℃的条件下，进行了30分钟加压脱泡。之后，使用清洁辊(osadacorporation制，dch-12h2ls)，手动对临时支承体的表面擦拭10次，由此去除了临时支承体上的异物。[0735](3)使用超高压汞灯，不剥离临时支承体，经由线与空间图案掩模(占空比为1∶1，线宽从1μm到20μm每隔1μm阶段性变化。)对感光性层进行了曝光。[0736](4)剥离临时支承体之后进行了显影。关于显影，使用25℃的1.0质量％碳酸钠水溶液，通过喷淋显影进行了30秒钟。[0737]通过显影感光性层，形成了树脂图案。[0738]一边每次调节曝光量(单位：mj/cm2)一边实施了上述的一系列步骤(1)～(4)，直到得到具有与掩模的图案对应的最小线宽的树脂图案(以下，在本段中称为“基准图案”。)。采用基准图案的最小线宽作为感光性层的极限分辨度xμm。[0739]将测定结果示于表4。[0740]《感光性层的表面及内部的异物及空隙的总数》[0741](1)在厚度为100μm的聚对苯二甲酸乙二酯(pet)薄膜上，通过使用了真空层压机(mckco.，ltd.，制，辊温度：100℃，线压：1.0mpa，线速度：0.5m/分)的卷对卷方式，使感光性转印材料与pet基板贴合。所得到的层叠体至少依次包括pet薄膜、感光性层及临时支承体。[0742](2)将所得到的层叠体，使用高压灭菌器装置，在0.6mpa及60℃的条件下，进行了30分钟加压脱泡。[0743]使用光学显微镜目视观察了剥离临时支承体之后的表面中的任意10处的区域(各区域的大小：10mm×10mm，合计面积：1,000mm2)。测定了包含在各区域的直径为yμm以上的异物及空隙的个数。基于在10处区域中测定的yμm以上的异物及空隙的个数的合计值，计算了测定区域的每1cm2的yμm以上的异物及空隙的个数(个/cm2)。将测定结果示于表4。[0744]《配线图案的针孔》[0745]使用了配线形成用掩模(占空比为1∶1，线宽从1μm到20μm每隔1μm阶段性变化。配线图案的长度为50mm。配线的数量为10根。)，除此以外，以与在上述“分辨率”的项中所说明的方法(即，以基准曝光量对感光性层进行曝光而形成树脂图案的方法)相同的方法，形成了配线图案(即，树脂图案)。使用光学显微镜目视观察配线图案，基于针孔的最大尺寸及个数，按照以下的基准，对配线图案的针孔进行了评价。将评价结果示于表4。[0746]a：未确认到针孔，或确认到配线宽度的1/4以下的大小的针孔。[0747]b：确认到超过配线宽度的1/4且1/2以下的大小的针孔。[0748]c：确认到超过配线宽度的1/2且3/4以下的大小的针孔。[0749]d：确认到超过配线宽度的3/4的大小的针孔。[0750]《配线图案的缺损》[0751]对配线图案的针孔评价中所使用的样品，使用光学显微镜目视观察图案的缺损(所谓的咬合)状态，按照以下的基准进行了评价。[0752]a：未确认到图案缺损，或者，确认到最大径小于1μm的图案缺损。[0753]b：确认到最大径为1μm以上且2μm以下的图案缺损。[0754]c：确认到最大径超过2μm的图案缺损。[0755]《配线图案的线性》[0756]对评价了分辨率的图案的10μm的图案，利用扫描式电子显微镜(sem)进行观察，通过在100μm的长度的范围内评价线宽的最大值-最小值(也称为“线宽的变动值”。)，按照以下的基准，进行了树脂图案的线性评价。[0757]a：线宽的变动值小于0.4μm。[0758]b：线宽的变动值为0.4μm以上且小于0.7μm。[0759]c：线宽的变动值为0.7μm以上且小于1.0μm。[0760]d：线宽的变动值为1.0μm以上且小于1.5μm。[0761]e：线宽的变动值为1.5μm以上。[0762][表3][0763][0764][0765]另外，在上述实施例1～18中所得到的层叠体中，具有yμm以上的直径的空隙的个数为0个/cm2。推测通过使用了高压灭菌器装置的加压脱泡处理，抑制了空隙的产生。[0766]如上述表4所示，实施例1～18的感光性转印材料及层叠体的制造方法与比较例1的感光性转印材料及层叠体的制造方法相比，得到了针孔缺陷少的配线图案，并且，得到了与上述配线图案对应的针孔缺陷少的树脂图案。[0767](实施例101：接触曝光)[0768]在辊温度100℃、线压1.0mpa、线速度4.0m/min的层压条件下，将在实施例1中所制作的感光性转印材料层压在上述带铜层的pet基板上。剥离临时支承体，经由线与空间图案掩模(占空比为1∶1、线宽从1μm～10μm每隔1μm阶段性变化)，利用超高压汞灯进行曝光，之后进行了显影。[0769]关于显影，使用25℃的1.0％碳酸钠水溶液，通过喷淋显影进行了30秒。[0770]通过显微镜观察所得到的图案基板时发现，分辨率及图案形状为良好的图案。[0771](实施例102：激光直接描绘)[0772]在辊温度100℃、线压1.0mpa、线速度4.0m/min的层压条件下，将在实施例1中所制作的感光性转印材料层压在上述带铜层的pet基板上。通过直接描绘曝光机(viamechanics，ltd制、de-1dh、光源：gan青紫二极管(主波长405nm±5nm))，使用stouffer21级阶段式曝光表(steptablet)或规定的di曝光用的掩模图案，在照度80mw/cm2的条件下进行了曝光。以将上述的stouffer21级阶段式曝光表(steptablet)作为掩模进行曝光、显影时的最高残膜级数成为6级的曝光量进行了该曝光。关于显影，使用25℃的1.0％碳酸钠水溶液，通过喷淋显影进行了30秒。[0773]通过显微镜观察所得到的图案基板时发现，分辨率及图案形状为良好的图案。[0774](实施例103)[0775]在100μm厚pet基材上，通过溅射以150nm厚形成ito膜作为第2层的导电层，在其上，通过真空蒸镀法以200nm厚形成铜膜作为第1层的导电层，制成了电路形成用基板。[0776]在铜层上，剥离覆盖膜，使在实施例1中得到的感光性转印材料与基板贴合(层压辊温度100℃、线压0.8mpa、线速度3.0m/min.)，制成了层叠体。使用设有具有剥离临时支承体而在一个方向上连结有导电层焊盘的结构的图2所示的图案a的光掩模对所得到的层叠体进行了接触图案曝光。曝光中，使用了以i射线(365nm)为曝光主波长的高压汞灯。[0777]之后，进行显影、水洗而得到了图案a。接着，使用铜蚀刻液(kantochemicalco.，inc.制cu-02)对铜层进行蚀刻之后，使用ito蚀刻液(kantochemicalco.，inc.制ito-02)对ito层进行蚀刻，由此得到了铜与ito均以图案a描绘的基板。[0778]接着，剥离覆盖膜，在与实施例101相同的条件下，再次使在实施例1中所得到的感光性转印材料贴合在残留的抗蚀剂(固化的负型感光性层)上。在对准的状态下，剥离临时支承体，使用图3所示的设置有图案b的光掩模进行图案曝光，然后进行显影、水洗而得到了图案b。接着，使用cu-02对铜配线进行蚀刻，使用剥离液(kantochemicalco.，inc.制kp-301)剥离残留固化的负型感光性层，得到了电路配线基板。[0779]利用显微镜观察所得到的电路配线基板时发现，没有剥离或缺损等，是完美的图案。[0780]关于2021年1月28日申请的日本专利申请第2021-011932号的公开，其全部内容通过参考被编入本说明书中。[0781]本说明书中所记载的所有文献、专利申请及技术标准与具体地且分别地记载通过参考而被并入的各个文献、专利申请及技术标准的情况相同程度地，通过参考而被并入本说明书中。[0782]符号说明[0783]11-临时支承体，12-转印层，13-热塑性树脂层，15-水溶性树脂层，17-感光性层，19-保护膜，20-感光性转印材料，gr-遮光部(非图像部)，ex-曝光部(图像部)，dl-对准框。当前第1页12当前第1页12
技术特征：
1.一种层叠体的制造方法，其包括：贴合工序，以具有临时支承体和包含感光性层的转印层的感光性转印材料的转印层侧与基板接触的方式，将所述感光性转印材料与所述基板贴合；曝光工序，对所述感光性层进行曝光；及显影工序，对所述感光性层进行显影而形成树脂图案，在将所述曝光工序中的感光性层的极限分辨度定义为xμm，将粒子及空隙的基准直径定义为y＝0.5
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x所表示的yμm的情况下，所述曝光工序中的感光性层的表面及内部的具有yμm以上的直径的粒子及空隙的个数为15个/cm2以下。2.根据权利要求1所述的层叠体的制造方法，其中，所述感光性层的厚度为5.0μm以下。3.根据权利要求1或2所述的层叠体的制造方法，其中，所述临时支承体的厚度为16μm以下。4.根据权利要求1至3中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，所述树脂图案具有线宽为10μm以下的树脂图案。5.根据权利要求1至4中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，在所述贴合工序与所述曝光工序之间，包括剥离所述临时支承体的剥离工序。6.根据权利要求1至5中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，在所述曝光工序中，使所述转印层与掩模接触而进行曝光处理。7.根据权利要求1至6中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，所述转印层还包含热塑性树脂层及水溶性树脂层。8.根据权利要求1至7中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，所述感光性层包含多官能聚合性化合物。9.根据权利要求1至8中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，所述感光性层包含3官能以上的聚合性化合物。10.根据权利要求1至9中任一项所述的层叠体的制造方法，其中，所述感光性层包含具有聚环氧乙烷结构的聚合性化合物。11.一种电路配线的制造方法，其依次包括：准备工序，准备通过权利要求1至10中任一项所述的层叠体的制造方法得到的层叠体；及蚀刻工序，对未配置有所述树脂图案的区域中的所述基板进行蚀刻处理。12.一种电子器件的制造方法，其依次包括：准备工序，准备通过权利要求1至10中任一项所述的层叠体的制造方法得到的层叠体；及蚀刻工序，对未配置有所述树脂图案的区域中的所述基板进行蚀刻处理。13.一种感光性转印材料，其具有临时支承体和包含感光性层的转印层，在将所述感光性层的极限分辨度定义为x
t
μm，将粒子的基准直径定义为y
t
＝0.5
×
x
t
所表示的y
t
μm的情况下，所述感光性层的表面及内部的具有y
t
μm以上的直径的粒子的个数为15个/cm2以下。14.根据权利要求13所述的感光性转印材料，其中，
所述感光性层的厚度为5.0μm以下。15.根据权利要求13或14所述的感光性转印材料，其中，所述临时支承体的厚度为16μm以下。

技术总结
本发明提供一种层叠体的制造方法、使用通过上述层叠体的制造方法得到的层叠体的电路配线的制造方法及电子器件的制造方法、以及感光性转印材料，其中，上述层叠体的制造方法包括：贴合工序，以具有临时支承体和包含感光性层的转印层的感光性转印材料的转印层侧与基板接触的方式，将上述感光性转印材料与上述基板贴合；曝光工序，对上述感光性层进行曝光；及显影工序，对上述感光性层进行显影而形成树脂图案，在将上述曝光工序中的感光性层的极限分辨度定义为Xμm，将粒子及空隙的基准直径定义为Y＝0.5


技术研发人员：有富隆志
受保护的技术使用者：富士胶片株式会社
技术研发日：2022.01.27
技术公布日：2023/9/23