显示面板、显示面板的制造方法以及显示装置与流程

1.本技术涉及显示技术领域，特别涉及一种显示面板、显示面板的制造方法以及显示装置。


背景技术：

2.显示面板是一种能够显示图像的组件。
3.一种显示面板包括衬底基板以及在衬底基板上依次设置的电路结构、结构层、第一结构层、阳极、电致发光层以及阴极，其中，电致发光层可以在阳极以及阴极的驱动下发出光线，该光线依次透过阳极、第一结构层以及衬底基板，并射出显示面板，其中，第一结构层上包括多个凹凸不平的结构，这些结构可以提升显示面板的光取出效率。
4.但是，上述第一结构层可能使得电致发光层的厚度不均匀，导致显示面板的显示效果较差。


技术实现要素：

5.本技术实施例提供了一种显示面板、显示面板的制造方法以及显示装置。所述技术方案如下：
6.根据本技术实施例的一方面，提供了一种显示面板，所述显示面板包括：
7.衬底基板；
8.电路结构层，所述电路结构层位于所述衬底基板上；
9.第一结构层，所述第一结构层位于所述电路结构层远离所述衬底基板的一侧，所述第一结构层包括阵列排布的多个第一结构，所述多个第一结构包括凸起结构和凹陷结构中的至少一种；
10.第二结构层，所述第二结构层位于所述第一结构层远离所述衬底基板的一侧；
11.发光单元，所述发光单元包括在所述第二结构层上沿远离所述第二结构层的方向层叠的第一电极以及电致发光层，所述第一电极与所述电路结构层电连接，所述第二结构层靠近所述第一结构层的表面与所述第一结构层远离所述衬底基板一侧的形貌一致；
12.所述第二结构层的折射率大于所述第一结构层的折射率，且小于或者等于所述第一电极的折射率。
13.可选地，所述第二结构层包括层叠的多个子膜层，所述多个子膜层中任一子膜层的折射率与第一距离正相关，所述第一距离为在垂直于所述衬底基板的方向上，所述任一子膜层与所述第一结构层的距离。
14.可选地，所述多个子膜层包括与所述第一结构层相邻的第一子膜层以及与所述第一电极相邻的第二子膜层，所述第一子膜层的折射率大于所述第一结构层的折射率，所述第二子膜层的折射率小于或者等于所述第一电极的折射率。
15.可选地，所述多个子膜层还包括位于所述第一子膜层和所述第二子膜层之间的第三子膜层，所述第一子膜层的折射率范围为(1.5至1.6]，所述第三子膜层的折射率范围为
(1.6至1.7]，所述第二子膜层的折射率范围为(1.7，1.8]。
16.可选地，所述多个子膜层为一体结构。
17.可选地，所述多个子膜层均包括基底层以及掺杂于所述基底层中的粒子，所述多个子膜层中，粒子的粒子浓度范围与所述第一距离正相关。
18.可选地，所述基底层的材料包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚酰亚胺类材料或环氧树脂类材料。
19.可选地，所述粒子包括氧化锆和氧化钛中的至少一种。
20.可选地，所述第一结构层中相邻的两个第一结构的中心之间的距离为所述第一结构层中的高度差的1/2，所述高度差为在垂直于所述衬底基板的方向上，所述第一结构层上的两个位置之间的最大距离。
21.可选地，所述高度差的范围为0.2微米至1.5微米，所述坡度角范围为30度至60度。
22.可选地，在垂直于所述衬底基板的方向上，所述第一结构层中的高度差等于所述第一结构层中的第一结构与所述第一电极之间的最小距离。
23.可选地，所述显示面板还包括像素界定层，所述像素界定层位于所述第二结构层和所述电致发光层之间，所述像素界定层具有开口，所述电致发光层至少覆盖在所述开口处，所述像素界定层在所述衬底基板上的正投影，与所述光取出结构在所述衬底基板上的正投影存在交叠。
24.可选地，所述第一电极远离所述衬底基板一侧的表面的形貌与所述第二结构层靠近所述第一电极的表面的形貌一致，所述第二结构层靠近所述第一电极的表面为平坦表面，或者，所述第二结构层靠近所述第一电极的表面与所述第一结构层靠近所述第二结构层的表面的形貌一致。
25.可选地，所述第一结构层的厚度与所述第二结构层的厚度相等。
26.可选地，所述凸起结构包括凸透镜、三角形凸起结构、柱状凸起结构以及梯形凸起结构中的至少一种；
27.所述凹陷结构包括凹透镜、三角形凹陷结构、柱状凹陷结构以及梯形凹陷结构中的至少一种。
28.可选地，所述电致发光层为用于发出白光的白色电致发光层；
29.所述显示面板还包括彩膜层，所述彩膜层位于所述第一结构层和所述衬底基板之间，且所述白色电致发光层在所述衬底基板上的正投影，与所述彩膜层在所述衬底基板上的正投影存在交叠。
30.可选地，所述电路结构层包括薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括第一极、第二极以及栅极，所述栅极用于控制所述第一极和所述第二极的通断，所述第一极与所述发光单元的第一电极连接。
31.根据本技术实施例的另一方面，提供一种显示面板的制造方法，所述方法包括：
32.获取衬底基板；
33.在所述衬底基板上形成电路结构层；
34.在所述电路结构层远离所述衬底基板的一侧形成第一结构层，所述第一结构层包括阵列排布的多个第一结构，所述多个第一结构包括凸起结构和凹陷结构中的至少一种；
35.在所述第一结构层远离所述衬底基板的一侧形成第二结构层；
36.在所述第二结构层上形成发光单元，所述发光单元包括在所述第二结构层上沿远离所述第二结构层的方向层叠的第一电极以及电致发光层，所述第一电极与所述电路结构层电连接，所述第二结构层靠近所述第一结构层的表面与所述第一结构层远离所述衬底基板一侧的形貌一致，所述第二结构层的折射率大于所述第一结构层的折射率。
37.可选地，所述第二结构层包括层叠的多个子膜层，所述在所述第一结构层远离所述衬底基板的一侧形成第二结构层，包括：
38.在所述第一结构层远离所述衬底基板的一侧形成所述层叠的多个子膜层，所述多个子膜层中任一子膜层的折射率与第一距离正相关，所述第一距离为在垂直于所述衬底基板的方向上，所述任一子膜层与所述第一结构层的距离。
39.可选地，所述显示装置包括壳体以及上述的显示面板，所述显示面板位于所述壳体中。
40.本技术实施例提供的技术方案带来的有益效果至少包括：
41.通过在具有第一结构的第一结构层上设置第二结构层，发光单元中的第一电极以及电致发光层可以依次设置于结构的第二结构层上，由于第二结构层的折射率大于第一结构层的折射率且小于或者等于第一电极的折射率，进而该第二结构层便可以将照射到第一电极中的光线引导出第一电极，并经由第二结构层射向第一结构层，以便于第一结构层上的第一结构对光线进行处理以提升光取出效率，进而便可以在不降低光取出效率的情况下，提升电致发光层的厚度的均匀性，解决了相关技术中电致发光层的厚度不均匀导致的显示面板的显示效果较差的问题，提升了显示面板的显示效果。
附图说明
42.为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
43.图1是目前的一种显示面板的结构示意图；
44.图2是本技术实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
45.图3是图2所示显示面板的一种剖面结构示意图；
46.图4是本技术实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；
47.图5是图4所示的显示面板中第一结构层的俯视结构示意图；
48.图6是本技术实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；
49.图7是本技术实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；
50.图8是本技术实施例提供的显示面板中的另一种第一结构层的俯视结构示意图；
51.图9是本技术实施例提供的显示面板中的另一种第一结构层的俯视结构示意图；
52.图10是本技术实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；
53.图11是本技术实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；
54.图12是本技术实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；
55.图13是本技术实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；
56.图14是本技术实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；
57.图15是本技术实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；
58.图16是本技术实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；
59.图17是本技术实施例提供的一种显示面板的制造方法的方法流程图；
60.图18是本技术实施例提供的另一种显示面板的制造方法的方法流程图。
61.通过上述附图，已示出本技术明确的实施例，后文中将有更详细的描述。这些附图和文字描述并不是为了通过任何方式限制本技术构思的范围，而是通过参考特定实施例为本领域技术人员说明本技术的概念。
具体实施方式
62.为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本技术实施方式作进一步地详细描述。
63.图1是目前的一种显示面板的结构示意图，该显示面板包括衬底基板11、位于衬底基板11上的薄膜晶体管(thin film transistor，tft)12、结构层13、第一结构14以及发光单元15。
64.其中，薄膜晶体管12包括源极121、漏极122、栅极123以及有源层124，第一结构层14可以包括多个凸起结构141(如凸透镜)，发光单元15可以包括阳极151、电致发光层152以及阴极152。
65.由于第一结构层14中存在的多个凸起结构141，导致第一结构层14与阳极151接触的表面(图1中第一结构层14的上表面)凹凸不平，且凸起结构141的顶点与凸起结构141之间的凹陷处之间的高度差可能较大，使得形成于第一结构层14上的各种膜层的平坦程度差，且存在断裂的可能，进而导致像素的各种不良，如亮度不均匀以及无法正常发光等问题的出现。示例性的，直接形成于第一结构层14上的阳极151可能由于一些凸起结构141比较尖锐而断裂，进而导致发光单元15无法正常发光，另外，后续形成于阳极151上的电致发光层152在不同区域的厚度差别也会较大，进而厚度较大的区域的亮度可能较低，或者，厚度较厚的区域无法被驱动发光，影响显示面板的开口率，这些情况均会影响显示面板的显示效果。
66.本技术实施例提供了一种显示面板、显示面板的制造方法以及显示装置，可以解决上述相关技术中存在的一些问题。
67.图2是本技术实施例提供的一种显示面板的结构示意图，图3是图2所示显示面板的一种剖面结构示意图(图3可以是图2所示的显示面板20在a-a处的剖面结构示意图)，请参考图2和图3，该显示面板包括：
68.衬底基板21。
69.电路结构层22，电路结构层22位于衬底基板21上。
70.第一结构层23，第一结构层23位于电路结构层22远离衬底基板21的一侧，第一结构层23包括阵列排布的多个第一结构231，多个第一结构231包括凸起结构和凹陷结构中的至少一种。
71.第二结构层24，第二结构层24位于第一结构层23远离衬底基板21的一侧。
72.发光单元25，发光单元25包括在第二结构层24上沿远离第二结构层24的方向f1层叠的第一电极251以及电致发光层252，第一电极251与电路结构层22电连接，第二结构层24
靠近第一结构层23的表面与第一结构层23远离衬底基板21一侧的形貌一致，第二结构层24的折射率大于第一结构层23的折射率，且小于或者等于第一电极251的折射率。
73.该第二结构层24的折射率大于第一结构层23的折射率，进而出射角度过大(大于第二结构层24与第一结构层23的交界面的临界角)的光线会在第二结构层24与第一结构层23的交界面发生全反射，以避免这部分光线直接射出显示面板，实现了光线的筛选功能，可以将出射角度小于临界角的光线筛选出，并使这部分光线射出显示面板。另外，第二结构层24的折射率小于第一电极251的折射率时，可以同样起到筛选功能，以筛选由第一电极251射向第二结构层24的光线，第二结构层24的折射率等于第一电极251的折射率时，则光线可以由第一电极251直接射入第二结构层24。
74.本技术实施例提供的显示面板，可以是一种底发射型的显示面板，也即是光线是由显示面板的衬底(衬底基板)一侧射出的。
75.另外，该发光单元25还可以包括第二电极253，该第一电极251和第二电极253中的一个电极为阳极，另一个电极为阴极，示例性的，第一电极251可以为阳极，第二电极253可以为阴极，电致发光层252可以在第一电极251和第二电极253驱动下发光。
76.需要说明的是，本技术实施例所涉及的凸起结构，可以是指朝向远离衬底基板的方向凸起的结构，本技术实施例所涉及的凹陷结构，可以是指朝向衬底基板的方向凹陷的结构。
77.综上所述，本技术实施例提供的显示面板，通过在具有第一结构的第一结构层上设置第二结构层，发光单元中的第一电极以及电致发光层可以依次设置于结构的第二结构层上，由于第二结构层的折射率大于第一结构层的折射率且小于或者等于第一电极的折射率，进而该第二结构层便可以将照射到第一电极中的光线引导出第一电极，并经由第二结构层射向第一结构层，以便于第一结构层上的第一结构对光线进行处理以提升光取出效率，进而便可以在不降低光取出效率的情况下，提升电致发光层的厚度的均匀性，解决了相关技术中电致发光层的厚度不均匀导致的显示面板的显示效果较差的问题，提升了显示面板的显示效果。
78.本技术实施例提供的显示面板中，第一结构层是一种用于提升显示面板的光取出效率的结构，该第一结构层也可以称为微透镜结构，微透镜结构是一种能够提升显示面板的光取出效率的结构，微透镜结构广泛的应用于各种具有显示功能的器件中。本技术实施例所涉及的光取出效率可以与电致发光层被驱动而发出的光线中，能够射出显示面板的光线的多少相关，出光量越大，则表面光取出效率越高。而在显示面板的光取出效率提升时，显示面板的亮度以及显示效果也会随之提升。
79.图4是本技术实施例提供的另一种显示面板的结构示意图，图5是图4所示的显示面板中第一结构层的俯视结构示意图，请参考图4以及图5，其中，第一结构层23可以包括阵列排布的多个凸起结构2311，凸起结构2311可以包括凸透镜、三角形凸起结构、柱状凸起结构以及梯形凸起结构中的至少一种。图4示出的是凸起结构2311为凸透镜时的结构，但本技术实施例对此不进行限制。
80.在一种示例性的实施例中，第一结构层23中相邻的两个第一结构231的中心z1(中心z1可以为第一结构231的几何中心或重心)之间的距离s为第一结构层23中的高度差
△
h的1/2，高度差
△
h为在垂直于衬底基板21的方向f1上，第一结构层23上的两个位置之间的
最大距离。在第一结构层23满足这样的条件时，可以提升该第一结构层23对于光取出效率的影响，进而可以实现提升显示面板的光取出效率的效果。需要说明的是，图4中各个结构之间的大小比例仅为为了说明结构的示意性展示，并不代表各个结构之间的真实大小比例。
81.本技术实施例提供的显示面板的第一结构层中，当第一结构层23中仅包括凸起结构2311时(图4示出的是此种结构)，第一结构层23上的两个位置之间的最大距离(高度差
△
h)可以是指凸起结构2311的顶部(凸起结构2311的顶部可以是指在垂直于衬底基板21的方向f1上，凸起结构2311距离衬底基板21最远的点)，与凸起结构2311之间的凹坑的底部(该底部可以是指在垂直于衬底基板21的方向f1上，距离衬底基板21最近的点)之间在方向f1上的距离。
82.在一种示例性的实施例中，第一电极251远离衬底基板21一侧的表面(图4中第一电极251的上表面)的形貌与第二结构层24靠近第一电极251的表面(图4中第二结构层24的上表面)的形貌一致，第二结构层24靠近第一电极251的表面(图4中第二结构层24的上表面)为平坦表面(图4示出的是此种结构，此种结构下，第二结构层24相当于复用为平坦层，该平坦表面可以并非是绝对的平坦，可以是近似平坦)，此种结构下，第二结构层24可以避免第一结构层23上凹凸的形貌对第一电极251的形貌产生影响，使得第一电极251可以形成于具有平坦表面的第二结构层24上。当然，在另一种示例性的实施例中，第二结构层靠近第一电极的表面与第一结构层靠近第二结构层的表面的形貌呈凹凸状，由于第二结构层的缘故，该凹凸状的表面的凹凸程度(凹凸程度可以由膜层最厚的位置处的厚度，与最薄的位置处的厚度的差值来确定)会小于第一结构层上的凹凸程度，如此可以降低第一结构层23上凹凸的形貌对第一电极251的形貌产生影响。
83.如图6所示，图6是本技术实施例提供的另一种显示面板的结构示意图，其中，当波导层23中仅包括凹陷结构2312时，第一结构层23上的两个位置之间的最大距离可以是指凹陷结构2312的底部(凹陷结构2312的底部可以是指在垂直于衬底基板21的方向f1上，距离衬底基板21最近的点)，与凹陷结构之间的位置(该凹陷结构之间的位置可以是指在垂直于衬底基板21的方向f1上，距离衬底基板21最远的点所在的位置)之间在方向f1上的距离。
84.如图7所示，图7是本技术实施例提供的另一种显示面板的结构示意图，其中，当波导层23中包括凸起结构2311以及凹陷结构2312时，第一结构层23上的两个位置之间的最大距离可以是指凸起结构2311的顶部，与凹陷结构2312的底部之间在方向f1上的距离。另外，此种结构下，凸起结构2311以及凹陷结构2312可以间隔排布于第一结构层23中，凸起结构2311相邻的第一结构231可以是凹陷结构2312。
85.另外，请参考图4，该显示面板还可以包括其它的一些结构，例如，该显示面板还可以包括第一结构层26、像素界定层27、第二结构层28以及封装层29，第一结构层26位于电路结构层22和第一结构层23之间，由于电路结构层22可能不同区域的段差较大，进而该第一结构层26可以为上方的膜层结构(如第一结构层23)提供一个结构的形成面，以扩大第一结构层23的对于光取出效率的正面影响。像素界定层(pixel defining layer，pdl)27可以位于第二结构层24和电致发光层252之间，具体的，像素界定层27可以具有多个开口k，电致发光层252可以至少覆盖在开口k中，第二电极253可以覆盖在电致发光层252上，进而位于开口k中的电致发光层252可以与第一电极251以及第二电极252接触，第二电极252与第一电
极251便可以驱动位于像素界定层27的开口区域中的电致发光层252发光。第二结构层28可以位于第二电极253上方，用于向后续的膜层(如封装层29)提供一个结构化的形成面，示例性的，该第二结构层28可以结构化像素界定层27上的开口k所造成的段差。封装层29位于第二结构层27远离衬底基板21的一侧，用于对该显示面板中的各种器件进行封装，以保护该显示面板中的各种器件。本技术实施例中，第一电极251的材料可以包括透明导电材料，例如氧化铟锡(indium tin oxide，ito)，折射率可以为1.8。第二结构层24的折射率可以与第一电极251的折射率相等。
86.本技术实施例提供的显示面板中，第一电极251在衬底基板21上的正投影，可以与光取出结构231在衬底基板21上的正投影存在交叠，以提升对于电致发光层252射向正下方的光线的光取出效率，另外，像素界定层27在衬底基板21上的正投影，与光取出结构231在衬底基板21上的正投影存在交叠，也即是光取出结构231还可以设置于像素界定层27下方，如此可以提升电致发光层252射向斜下方的光线的光取出效率。需要说明的是，本技术实施例中，第一结构层23中的第一结构231可以呈条状，多个第一结构231可以沿垂直于第一结构231的长度方向的方向f2排布(图5示出的是此种结构，本技术实施例对此不进行限制)，上述相邻的两个第一结构231，可以是指在方向f2上相邻的两个第一结构231，此种结构下，任意两个相邻的第一结构231之间的距离可以相等，也可以不相等。
87.在一种示例性的实施例中，请参考图8，图8是本技术实施例提供的显示面板中的另一种第一结构层的俯视结构示意图，其中，第一结构层23中的第一结构231可以呈行列排布(行列排布可以是指第一结构231排布为多行多列)时，上述相邻的两个第一结构231，可以是指同一行中相邻的两个第一结构231，也可以是指同一列中相邻的两个第一结构231，此种结构下，每个第一结构231可以具有上下左右四个相邻的第一结构231，第一结构231可以与每个相邻的第一结构231之间的距离相等，或者不相等，且不同的第一结构231与相邻的第一结构231之间的距离也可以相等，或者不相等。
88.请参考图9，图9是本技术实施例提供的显示面板中的另一种第一结构层的俯视结构示意图，其中，第一结构层23中的第一结构231可以排列为多行，且相邻的两行第一结构231交错排布，此种结构下，相邻的两个第一结构231可以是指一行中相邻的两个，也可以是指斜向上相邻的两个，也即是对于每个第一结构231(除位于边缘的第一结构231)，都可以具有在行向上相邻的两个第一结构231，以及在斜向上相邻的四个第一结构231(这四个第一结构231可以分别是位于左上方的第一结构231、位于左下方的第一结构231、位于右上方的第一结构231以及位于右下方的第一结构231)，共六个相邻的第一结构231。此种结构下，第一结构231与每个相邻的第一结构231之间的距离可以相等，也可以不相等。
89.在一种示例性的实施例中，请参考图4，在垂直于衬底基板21的方向f1上，第一结构层23中的高度差
△
h等于第一结构层23中的第一结构231与第一电极251之间的最小距离s2。在第一结构层23满足这样的条件时，可以提升该第一结构层23对于光取出效率的影响，进而可以实现提升显示面板的光取出效率的效果。示例性的，高度差
△
h的范围可以为0.2微米至1.5微米。
90.需要说明的是，当第一结构层23中仅包括凸起结构2311时，第一结构层23中的第一结构231与第一电极251之间的最小距离可以为凸起结构2311的顶部与第一电极251在垂直于衬底基板21的方向f1上的距离；如图7所示，当第一结构层23中包括凸起结构2311以及
凹陷结构2312时，第一结构层23中的第一结构231与第一电极251之间的最小距离可以为凸起结构2311的顶部与第一电极251在垂直于衬底基板21的方向f1上的距离；如图6所示，当第一结构层23中仅包括凹陷结构2312时，第一结构层23中的第一结构231与第一电极251之间的最小距离可以为相邻的凹陷结构2312之间的位置(该凹陷结构之间的位置可以是指在垂直于衬底基板21的方向f1上，距离衬底基板21最远的点所在的位置)与第一电极251在垂直于衬底基板21的方向f1上的距离。
91.在一种示例性的实施例中，第一结构层23的厚度与第二结构层24的厚度相等。示例性的，第一结构层23的厚度与第二结构层24的厚度可以均为1微米至2微米，例如，第一结构层23的厚度与第二结构层24的厚度可以均为1.5微米。需要说明的是，由于第一结构层23以及第二结构层24均为凹凸不平的膜层，在一种示例性的实施例中，第一结构层23以及第二结构层24的厚度可以是指平均厚度，例如，该结构厚度可以为膜层(第一结构层23以及第二结构层24)的最大厚度和最小厚度的平均值，其中，最大厚度可以为凸起结构处的最大厚度，最小厚度可以为凹陷结构中的最小厚度。当然，第一结构层23以及第二结构层24的厚度也可以是指最大厚度或者最小厚度，本技术实施例对此不进行限制。
92.在一种示例性的实施例中，第一结构层23的材料包括添加有感光基团，催化基团，表面活性剂等材料的丙烯酸类材质。当然，该第一结构层23的材料还可以为其它的光刻胶(photoresist)材料，本技术实施例对此不进行限制。
93.第一结构层23的折射率低于第二结构层24的折射率，示例性的，第一结构层23的折射率可以小于或者等于1.5，例如第一结构层23的折射率可以为1.5。
94.当第一结构层23的材料包括光刻胶材料时，可以通过曝光显影工艺来形成第一结构层23上的凸起结构，和/或，凹陷结构，当然，也可以通过其他的一些工艺来形成凸起结构，和/或，凹陷结构，例如可以通过热回流工艺以及纳米压印等工艺来形成凸起结构，和/或，凹陷结构，本技术实施例对此不进行限制。
95.另外，本技术实施例提供的显示面板中的第一结构层23中，凸起结构，以及凹陷结构坡度角范围可以为30度至60度。如此可以避免凸起结构以及凹陷结构过于倾斜或者过于结构，以提升第一结构层23对于光取出效率的正向影响效果，进而提升显示面板的整体光取出效率。对于第一结构为凸透镜或者凹透镜的情况，上述坡度角范围可以是指凸透镜或者凹透镜的中间部分透镜的坡度角，该中间部分透镜可以是指凸透镜或者凹透镜的顶部和底部之间的一个部分，例如凸透镜或者凹透镜可以在高度方向上包括三个高度相等的部分，位于中间的部分可以为上述的中间部分透镜。
96.图4示出的凸起结构2311包括凸透镜的结构示意图，但本技术实施例提供的显示面板中，凸起结构2311还可以包括其它类型的凸起结构，在一种示例性的实施例中，凸起结构2311包括凸透镜、三角形凸起结构、柱状凸起结构以及梯形凸起结构中的至少一种。
97.示例性的，如图10所示，图10是本技术实施例提供的另一种显示面板的结构示意图，其中，第一结构层23中的凸起结构2311包括三角形凸起结构，这多个三角形凸起结构同样可以实现对于光取出效率的提升作用。
98.另外，该显示面板还可以包括其它的一些结构，例如，该显示面板还可以包括第一结构层26、像素界定层27、第二结构层28以及封装层29，第一结构层26位于电路结构层22和第一结构层23之间，由于电路结构层22可能不同区域的段差较大，进而该第一结构层26可
以为上方的膜层结构(如第一结构层23)提供一个结构的形成面，以扩大第一结构层23的对于光取出效率的正面影响。像素界定层27可以位于第二结构层24和电致发光层252之间，具体的，像素界定层27可以具有多个开口k，电致发光层252可以至少覆盖在开口k中，第二电极253可以覆盖在电致发光层252上，进而位于开口k中的电致发光层252可以与第一电极251以及第二电极252接触，第二电极252与第一电极251便可以驱动位于像素界定层27的开口区域中的电致发光层252发光。第二结构层28可以位于第二电极253上方，用于向后续的膜层(如封装层29)提供一个结构化的形成面，示例性的，该第二结构层28可以结构化像素界定层27上的开口k所造成的段差。封装层29位于第二结构层27远离衬底基板21的一侧，用于对该显示面板中的各种器件进行封装，以保护该显示面板中的各种器件。
99.可选地，电路结构层22可以包括薄膜晶体管(thin film transistor，tft)221，薄膜晶体管221包括第一极j1、第二极j2以及栅极g，栅极g用于控制第一极j1和第二极j2的通断，第一极j1与发光单元25的第一电极251连接(第一电极251可以通过第一电极251与薄膜晶体管221之间的多个膜层上的过孔与第一极j连接)，另外，该电路结构层22还可以包括有源层y1以及栅绝缘层gi，栅极g、栅绝缘层gi以及有源层y1可以依次设置于衬底基板21上，第一极j1以及第二极j2均与有源层y1接触，栅极g可以用于控制有源层y1，以实现控制第一极j1以及第二极j2的通断的功能。其中，第一极j1和第二极j2中的一个为源极，另一个为漏极，第二极j2还可以与其它的一些线路连接，本技术实施例在此不再赘述。
100.可选地，电致发光层252为用于发出白光的白色电致发光层。显示面板还包括彩膜层cf，彩膜层cf位于第一结构层23和衬底基板21之间，且白色电致发光层252在衬底基板21上的正投影，与彩膜层cf在衬底基板21上的正投影存在交叠。也即是该发光单元可以为白色有机发光二极管((white organic light-emitting diodes，woled)，白色有机发光二极管可以在驱动下发出白光，并与彩膜层配合以发出各种颜色的光线，示例性的，显示面板中可以包括阵列排布的多个像素，每个像素结构包括三种子像素，每种子像素中均可以包括发光单元以及一种彩膜层，一个像素中的三种子像素可以分别为红色子像素、蓝色子像素以及绿色子像素，红色子像素中可以包括白光发光单元以及红色彩膜层，蓝色子像素中可以包括白光发光单元以及蓝色彩膜层，绿色子像素中可以包括白光发光单元以及绿色彩膜层。当然，在一种示例性的实施例中，显示面板中的一个像素还可以包括四种子像素，这四种子像素可以包括上述的红色子像素、蓝色子像素以及绿色子像素，另外，还可以包括白色子像素，该白色子像素可以仅包括白光发光单元而不包括彩膜层，或者，可以包括透明彩膜层。
101.当然，本技术实施例提供的显示面板中，发光单元还可以是红绿蓝发光单元，也即是显示面板中可以包括阵列排布的多个像素，每个像素结构包括三种子像素，一个像素中的三种子像素可以分别为红色子像素、蓝色子像素以及绿色子像素，红色子像素中可以包括用于发出红光的红光发光单元，用于发出蓝光的蓝光发光单元以及用于发出绿光的绿光发光单元。当然，此种显示面板中，也可以包括各种色阻，如，红色子像素中还可以包括红色彩膜层，用于提升红色子像素发出的红光的纯净程度，蓝色子像素中还可以包括蓝色彩膜层，用于提升蓝色子像素发出的蓝光的纯净程度，绿色子像素中还可以包括绿色彩膜层，用于提升绿色子像素发出的绿光的纯净程度。
102.如图11所示，图11是本技术实施例提供的另一种显示面板的结构示意图，其中，第
一结构层23中的凸起结构2311包括柱状凸起结构，这多个柱状凸起结构同样可以实现对于光取出效率的提升作用。这多个柱状凸起的俯视图可以参考上述图5(图5示出的可以是条形的柱状凸起)、图8或者图9，本技术实施例在此不再赘述。另外，图11所示的显示面板中，还可以包括其它的一些结构，可以参考图10所示的实施例，本技术实施例在此不再赘述。
103.如图12所示，图12是本技术实施例提供的另一种显示面板的结构示意图，其中，第一结构层23中的凸起结构2311包括梯形凸起结构，这多个梯形凸起结构同样可以实现对于光取出效率的提升作用。这多个柱状凸起的俯视图可以参考上述图5(图5示出的可以是长条状的梯形凸起)、图8或者图9，本技术实施例在此不再赘述。另外，图12所示的显示面板中，还可以包括其它的一些结构，这些结构可以参考图10所示的实施例，本技术实施例在此不再赘述。
104.本技术实施例提供的显示面板中，第一结构层23中包括凹陷结构时，该凹陷结构可以具有多种结构，示例性的，请参考图13，图13是本技术实施例提供的另一种显示面板的结构示意图，其中，第一结构层23中的凹陷结构2312包括凹透镜，这多个凹透镜同样可以实现对于光取出效率的提升作用。这多个凹透镜的俯视图可以参考上述图5(图5示出的可以是长条状的凹透镜)、图8或者图9，本技术实施例在此不再赘述。另外，图13所示的显示面板中，还可以包括其它的一些结构，这些结构可以参考图10所示的实施例，本技术实施例在此不再赘述。
105.请参考图14，图14是本技术实施例提供的另一种显示面板的结构示意图，其中，第一结构层23中的凹陷结构2312包括三角形凹陷结构，这多个三角形凹陷结构同样可以实现对于光取出效率的提升作用。这多个三角形凹陷结构的俯视图可以参考上述图5(图5示出的可以是长条状的三角形凹陷结构)、图8或者图9，本技术实施例在此不再赘述。另外，图14所示的显示面板中，还可以包括其它的一些结构，这些结构可以参考图10所示的实施例，本技术实施例在此不再赘述。
106.请参考图15，图15是本技术实施例提供的另一种显示面板的结构示意图，其中，第一结构层23中的凹陷结构2312包括梯形凹陷结构，这多个梯形凹陷结构同样可以实现对于光取出效率的提升作用。这多个梯形凹陷结构的俯视图可以参考上述图5(图5示出的可以是长条状的梯形凹陷结构)、图8或者图9，本技术实施例在此不再赘述。另外，图15所示的显示面板中，还可以包括其它的一些结构，这些结构可以参考图10所示的实施例，本技术实施例在此不再赘述。
107.上述实施例提供了第一结构层23中多种结构的凹陷结构以及凸起结构，本技术实施例提供的显示面板的第一结构层23中，可以包括上述多种结构中的至少一种结构。另外，第二结构层24朝向第一结构层23的一面的形状可以是与第一结构层23上的多个第一结构互补的形状。
108.图16是本技术实施例提供的另一种显示面板的结构示意图，其中，第二结构层24包括层叠的多个子膜层241，多个子膜层241中任一子膜层241的折射率与第一距离s1正相关，第一距离s1为在垂直于衬底基板21的方向上，任一子膜层241与第一结构层23的距离。也即是第二结构层24包括的多个子膜层241的折射率，沿远离第一结构层23的方向逐渐增大。此种结构的第二结构层24可以进一步提升对于第一电极251中的光线的光取出效率，进而提升显示面板的整体的光取出效率。
109.在一种示例性的实施例中，多个子膜层241包括与第一结构层23相邻的第一子膜层241a以及与第一电极251相邻的第二子膜层241b，也即是第一子膜层241a是多个子膜层241中的最下层(最靠近衬底基板21的子膜层)，第二子膜层241b是多个子膜层241中的最上层(最远离衬底基板21的子膜层)。
110.其中，第一子膜层241a的折射率大于第一结构层23的折射率，第二子膜层241b的折射率小于或者等于第一电极251的折射率。如此结构下，由于多个子膜层241的折射率沿远离第一结构层23的方向逐渐增大，进而第一子膜层241a便是第二结构层24的多个子膜层241中折射率最小的子膜层，第二子膜层241b便是第二结构层24的多个子膜层241中折射率最大的子膜层，且第二结构层24的多个子膜层241中折射率最小的第一子膜层241a的折射率大于第一结构层23的折射率，第一子膜层241a便可以实现对由第一子膜层241a射向第一结构层23的光线进行筛选，以避免出射角过大的光线射向第一结构层23，且第二结构层24的多个子膜层241中折射率最大的第二子膜层241b的折射率小于或者等于第一电极251的折射率，如此该第二子膜层241b也可以在折射率小于第一电极251的折射率时，对第一电极251中射向第二子膜层241b的光线进行筛选，以避免出射角过大的光线射向第二子膜层241b，在折射率等于第一电极251的折射率时，便于第一电极251中的光线射入第二子膜层241b。
111.另外，基于第一子膜层241a的折射率以及第二子膜层241b的折射率的范围，便确定第二结构层24的多个子膜层241的折射率范围，也即是位于第一子膜层241a和第二子膜层241b之间的子膜层的折射率可以大于或者等于第一子膜层241a的折射率，小于或者等于第二子膜层241b的折射率。
112.在一种示例性的实施例中，多个子膜层还包括位于第一子膜层241a和第二子膜层241b之间的第三子膜层241c，第一子膜层241a的折射率范围为(1.5至1.6]，第三子膜层241c的折射率范围为(1.6至1.7]，第二子膜层241b的折射率范围为(1.7，1.8]。经过测试，当第一子膜层241a、第二子膜层241b以及第三子膜层241c的折射率范围满足该折射率范围时，可以提升第二结构层24和第一结构层23所组成的结构的光取出效率，进而提升显示面板的整体光取出效率，以提升显示面板的亮度以及显示效果。
113.当然，第二结构层24中还可以包括更多的子膜层，示例性的，多个子膜层还包括位于第一子膜层241a和第二子膜层241b之间的多个层叠的第四子膜层，该多个第四子膜层的折射率小于第二子膜层241b的折射率，大于第一子膜层241a的折射率，且沿远离第一结构层23的方向逐渐增大。
114.在一种示例性的实施例中，多个子膜层为一体结构，也即是包括多个子膜层的第二结构层24实际为一个膜层，该膜层中的不同厚度区间便为不同的子膜层，示例性的，以第二结构层24靠近第一结构层的一面为起始，0微米～微米为第一子膜层241a，微米～微米为第三子膜层241c，微米～x微米为第二子膜层241b，x为第二结构层24的厚度。
115.该一体结构的第二结构层24可以在一次工艺中形成，示例性的，该第二结构层24可以包括基底层以及掺杂于基底层中的粒子，在形成第二结构层24时，可以掺杂不同直径的粒子，不同直径的粒子由于不同的重量，进而会流动并位于基底层中的不同高度，如此便可以实现一个膜层中不同厚度区间的折射率不同的结构。
116.当然，包括多个子膜层的第二结构层24也可以为分别形成的多个膜层，可以通过多次工艺分别形成，本技术实施例对此不进行限制。
117.在一种示例性的实施例中，多个子膜层241均包括基底层以及掺杂于基底层中的粒子，多个子膜层241中，粒子的粒子浓度范围与第一距离s1正相关。也即是粒子浓度越高，则子膜层241的折射率越大。
118.示例性的，第二结构层24可以包括沿远离第一结构层依次层叠的第一子膜层、第三子膜层、第四子膜层以及第二子膜层，其中，由第一结构层起始，在第二结构层24的厚度方向上，0～20纳米的为第一子膜层，第一子膜层中粒子浓度范围为10％～20％，20纳米～50纳米的为第三子膜层，第三子膜层中的粒子浓度范围为20％～30％，50纳米～100纳米的为第四子膜层，第四子膜层中的粒子浓度范围为30％～40％，100纳米～300纳米的为第二子膜层，第二子膜层中的粒子浓度范围为40％～50％。需要说明的是，由于第二结构层24上具有与第一结构层23上第一结构231的形状互补的凸起或者凹陷，因而上述第一子膜层的起始位置可以是指第二结构层24与第一结构层23接触的一面上厚度最大的位置，也可以是厚度最小的位置。
119.可选地，基底层的材料包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚酰亚胺类材料或环氧树脂类材料，粒子包括氧化锆和氧化钛中的至少一种。当然，第二结构层的基底层材料以及粒子的材料还可以为其它，本技术实施例对此不进行限制。
120.综上所述，本技术实施例提供的显示面板，通过在具有第一结构的第一结构层上设置第二结构层，发光单元中的第一电极以及电致发光层可以依次设置于结构的第二结构层上，由于第二结构层的折射率大于第一结构层的折射率且小于或者等于第一电极的折射率，进而该第二结构层便可以将照射到第一电极中的光线引导出第一电极，并经由第二结构层射向第一结构层，以便于第一结构层上的第一结构对光线进行处理以提升光取出效率，进而便可以在不降低光取出效率的情况下，提升电致发光层的厚度的均匀性，解决了相关技术中电致发光层的厚度不均匀导致的显示面板的显示效果较差的问题，提升了显示面板的显示效果。
121.图17是本技术实施例提供的一种显示面板的制造方法的方法流程图，该方法包括：
122.步骤1701、获取衬底基板。
123.步骤1702、在衬底基板上形成电路结构层。
124.步骤1703、在电路结构层远离衬底基板的一侧形成第一结构层，第一结构层包括阵列排布的多个第一结构，多个第一结构包括凸起结构和凹陷结构中的至少一种。
125.步骤1704、在第一结构层远离衬底基板的一侧形成第二结构层。
126.步骤1705、在第二结构层上形成发光单元，发光单元包括在第二结构层上沿远离第二结构层的方向层叠的第一电极以及电致发光层，第二结构层的折射率大于第一结构层的折射率。
127.其中，第二结构层靠近第一结构层的表面与第一结构层远离衬底基板一侧的形貌一致。
128.综上所述，本技术实施例提供的显示面板的制造方法，通过在具有第一结构的第一结构层上形成第二结构层，发光单元中的第一电极以及电致发光层可以依次设置于结构
的第二结构层上，由于第二结构层的折射率大于第一结构层的折射率且小于或者等于第一电极的折射率，进而该第二结构层便可以将照射到第一电极中的光线引导出第一电极，并经由第二结构层射向第一结构层，以便于第一结构层上的第一结构对光线进行处理以提升光取出效率，进而便可以在不降低光取出效率的情况下，提升电致发光层的厚度的均匀性，解决了相关技术中电致发光层的厚度不均匀导致的显示面板的显示效果较差的问题，提升了显示面板的显示效果。
129.图18是本技术实施例提供的另一种显示面板的制造方法的方法流程图，该方法包括：
130.步骤1801、获取衬底基板。
131.本技术实施例提供的显示面板可以是一种底发射型，也即是光线是由显示面板的衬底基板一侧射出的，进而该衬底基板可以为透光的衬底基板，示例性的，该衬底基板的材料可以包括光学玻璃。
132.步骤1802、在衬底基板上形成电路结构层。
133.可以在衬底基板上通过多次构图工艺来形成电路结构层。本技术实施例所涉及的构图工艺可以包括涂覆光刻胶、曝光、显影、刻蚀以及剥离光刻胶等步骤。
134.其中，请参考图10，该电路结构层22可以包括薄膜晶体管221，薄膜晶体管221包括第一极j1、第二极j2、有源层y1以及栅极g，栅极g用于控制第一极j1和第二极j2的通断，第一极j1与发光单元25的第一电极251连接(第一电极251可以通过第一电极251与薄膜晶体管221之间的多个膜层上的过孔与第一极j连接)，另外，该电路结构层22还包括栅绝缘层gi，栅极g、栅绝缘层gi以及有源层y1可以依次设置于衬底基板21上，第一极j1以及第二极j2均与有源层y1接触，栅极g可以用于控制有源层y1，以实现控制第一极j1以及第二极j2的通断的功能。其中，第一极j1和第二极j2中的一个为源极，另一个为漏极，第一电极j1以及第二电极j2可以为同层结构，并在一次构图工艺中形成。
135.步骤1803、在电路结构层远离衬底基板的一侧形成第一结构层。
136.第一结构层包括阵列排布的多个第一结构，多个第一结构包括凸起结构和凹陷结构中的至少一种。该第一结构可以参考上述实施例，本技术实施例在此不再赘述。
137.步骤1804、在第一结构层远离衬底基板的一侧形成层叠的多个子膜层。
138.其中，这多个子膜层构成第二结构层，这多个子膜层中任一子膜层的折射率与第一距离正相关，第一距离为在垂直于衬底基板的方向上任一子膜层与第一结构层的距离。也即是第二结构层包括的多个子膜层的折射率，沿远离第一结构层的方向逐渐增大。此种结构的第二结构层可以进一步提升对于第一电极中的光线的光取出效率，进而提升显示面板的整体的光取出效率。
139.本技术实施例中，可以通过多次构图工艺分别形成层叠的多个子膜层，或者，这层叠的多个子膜层也可以为一体结构的一个膜层，该一体结构的第二结构层可以在一次工艺中形成，示例性的，该第二结构层可以包括基底层以及掺杂于基底层中的粒子，在形成第二结构层时，可以掺杂不同直径的粒子，不同直径的粒子由于不同的重量，进而会流动并位于基底层中的不同高度，如此便可以实现一个膜层中不同厚度区间的折射率不同的结构。
140.步骤1805、在第二结构层上形成发光单元。
141.其中，发光单元包括在第二结构层上沿远离第二结构层的方向层叠的第一电极以
及电致发光层。
142.其中，第二结构层中的多个子膜层包括与第一结构层相邻的第一子膜层以及与第一电极相邻的第二子膜层，也即是第一子膜层是多个子膜层中的最下层(最靠近衬底基板的子膜层)，第二子膜层是多个子膜层中的最上层(最远离衬底基板的子膜层)。
143.其中，第一子膜层的折射率大于第一结构层的折射率，第二子膜层的折射率小于或者等于第一电极的折射率。如此结构下，第一子膜层是第二结构层的多个子膜层中折射率最小的子膜层，第二子膜层便是第二结构层的多个子膜层中折射率最大的子膜层，且第二结构层的多个子膜层中折射率最小的第一子膜层的折射率大于第一结构层的折射率，第一子膜层便可以实现对由第一子膜层射向第一结构层的光线进行筛选，以避免出射角过大的光线射向第一结构层，且第二结构层的多个子膜层中折射率最大的第二子膜层的折射率小于或者等于第一电极的折射率，如此该第二子膜层也可以在折射率小于第一电极的折射率时，对第一电极中射向第二子膜层的光线进行筛选，以避免出射角过大的光线射向第二子膜层，在折射率等于第一电极的折射率时，便于第一电极中的光线射入第二子膜层。
144.综上所述，本技术实施例提供的显示面板的制造方法，通过在具有第一结构的第一结构层上形成第二结构层，发光单元中的第一电极以及电致发光层可以依次设置于结构的第二结构层上，由于第二结构层的折射率大于第一结构层的折射率且小于或者等于第一电极的折射率，进而该第二结构层便可以将照射到第一电极中的光线引导出第一电极，并经由第二结构层射向第一结构层，以便于第一结构层上的第一结构对光线进行处理以提升光取出效率，进而便可以在不降低光取出效率的情况下，通过该第二结构层提升第一电极以及电致发光层的平坦程度，进而便可以提升电致发光层的厚度的均匀性，解决了相关技术中电致发光层的厚度不均匀导致的显示面板的显示效果较差的问题，提升了显示面板的显示效果。
145.此外，本技术实施例还提供一种显示装置，该显示装置可以包括壳体以及上述实施例提供的任一显示面板，该显示面板位于壳体中。
146.另外，该显示装置还可以包括电源组件以及控制组件，电源组件与显示面板电连接，用于向显示面板提供电能。控制组件与显示面板电连接，用于向显示面板发送控制信号，并接收显示面板的反馈信号。
147.本技术中术语“和/或”，仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，a和/或b，可以表示：单独存在a，同时存在a和b，单独存在b这三种情况。另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。
148.本技术中术语“a和b的至少一种”，仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，a和b的至少一种，可以表示：单独存在a，同时存在a和b，单独存在b这三种情况。同理，“a、b和c的至少一种”表示可以存在七种关系，可以表示：单独存在a，单独存在b，单独存在c，同时存在a和b，同时存在a和c，同时存在c和b，同时存在a、b和c这七种情况。同理，“a、b、c和d的至少一种”表示可以存在十五种关系，可以表示：单独存在a，单独存在b，单独存在c，单独存在d，同时存在a和b，同时存在a和c，同时存在a和d，同时存在c和b，同时存在d和b，同时存在c和d，同时存在a、b和c，同时存在a、b和d，同时存在a、c和d，同时存在b、c和d，同时存在a、b、c和d，这十五种情况。
149.需要指出的是，在附图中，为了图示的清晰可能夸大了层和区域的尺寸。而且可以
理解，当元件或层被称为在另一元件或层“上”时，它可以直接在其他元件上，或者可以存在中间的层。另外，可以理解，当元件或层被称为在另一元件或层“下”时，它可以直接在其他元件下，或者可以存在一个以上的中间的层或元件。另外，还可以理解，当层或元件被称为在两层或两个元件“之间”时，它可以为两层或两个元件之间唯一的层，或还可以存在一个以上的中间层或元件。通篇相似的参考标记指示相似的元件。
150.在本技术中，术语“第一”、“第二”、“第三”和“第四”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。术语“多个”指两个或两个以上，除非另有明确的限定。
151.以上所述仅为本技术的可选实施例，并不用以限制本技术，凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。

技术特征：
1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：衬底基板；电路结构层，所述电路结构层位于所述衬底基板上；第一结构层，所述第一结构层位于所述电路结构层远离所述衬底基板的一侧，所述第一结构层远离所述衬底基板的一侧包括阵列排布的多个光取出结构，所述多个光取出结构包括凸起结构和凹陷结构中的至少一种；第二结构层，所述第二结构层位于所述第一结构层远离所述衬底基板的一侧；发光单元，所述发光单元包括在所述第二结构层上沿远离所述第一结构层的方向层叠的第一电极以及电致发光层，所述第一电极与所述电路结构层电连接，所述第二结构层靠近所述第一结构层的表面与所述第一结构层远离所述衬底基板一侧的形貌一致；所述第二结构层的折射率大于所述第一结构层的折射率，且小于或者等于所述第一电极的折射率。2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二结构层包括层叠的多个子膜层，所述多个子膜层中任一子膜层的折射率与第一距离正相关，所述第一距离为在垂直于所述衬底基板的方向上，所述任一子膜层与所述第一结构层的距离。3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述多个子膜层包括与所述第一结构层相邻的第一子膜层以及与所述第一电极相邻的第二子膜层，所述第一子膜层的折射率大于所述第一结构层的折射率，所述第二子膜层的折射率小于或者等于所述第一电极的折射率。4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述多个子膜层还包括位于所述第一子膜层和所述第二子膜层之间的第三子膜层，所述第一子膜层的折射率范围为(1.5至1.6]，所述第三子膜层的折射率范围为(1.6至1.7]，所述第二子膜层的折射率范围为(1.7，1.8]。5.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述多个子膜层为一体结构。6.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述多个子膜层均包括基底层以及掺杂于所述基底层中的粒子，所述多个子膜层中，粒子的粒子浓度范围与所述第一距离正相关。7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述基底层的材料包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚酰亚胺类材料或环氧树脂类材料。8.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述粒子包括氧化锆和氧化钛中的至少一种。9.根据权利要求1至8任一所述的显示面板，其特征在于，所述第一结构层中相邻的两个光取出结构的中心之间的距离为所述第一结构层中的高度差的1/2，所述高度差为在垂直于所述衬底基板的方向上，所述第一结构层上的两个位置之间的最大距离。10.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述高度差的范围为0.2微米至1.5微米。11.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，在垂直于所述衬底基板的方向上，所述第一结构层中的高度差等于所述第一结构层中的光取出结构与所述第一电极之间的最小距离。
12.根据权利要求1至8任一所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括像素界定层，所述像素界定层位于所述第二结构层和所述电致发光层之间，所述像素界定层具有开口，所述电致发光层至少覆盖在所述开口处，所述像素界定层在所述衬底基板上的正投影，与所述光取出结构在所述衬底基板上的正投影存在交叠。13.根据权利要求1至8任一所述的显示面板，其特征在于，所述第一电极远离所述衬底基板一侧的表面的形貌与所述第二结构层靠近所述第一电极的表面的形貌一致，所述第二结构层靠近所述第一电极的表面为平坦表面，或者，所述第二结构层靠近所述第一电极的表面与所述第一结构层靠近所述第二结构层的表面的形貌呈凹凸状。14.根据权利要求1至8任一所述的显示面板，其特征在于，所述第一结构层的厚度与所述第二结构层的厚度相等。15.根据权利要求1至8任一所述的显示面板，其特征在于，所述凸起结构包括凸透镜、三角形凸起结构、柱状凸起结构以及梯形凸起结构中的至少一种；所述凹陷结构包括凹透镜、三角形凹陷结构、柱状凹陷结构以及梯形凹陷结构中的至少一种。16.根据权利要求1至8任一所述的显示面板，其特征在于，所述电致发光层为用于发出白光的白色电致发光层；所述显示面板还包括彩膜层，所述彩膜层位于所述第一结构层和所述衬底基板之间，且所述白色电致发光层在所述衬底基板上的正投影，与所述彩膜层在所述衬底基板上的正投影存在交叠。17.根据权利要求1至8任一所述的显示面板，其特征在于，所述电路结构层包括薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括第一极、第二极以及栅极，所述栅极用于控制所述第一极和所述第二极的通断，所述第一极与所述发光单元的第一电极连接。18.一种显示面板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：获取衬底基板；在所述衬底基板上形成电路结构层；在所述电路结构层远离所述衬底基板的一侧形成第一结构层，所述第一结构层包括阵列排布的多个光取出结构，所述多个光取出结构包括凸起结构和凹陷结构中的至少一种；在所述第一结构层远离所述衬底基板的一侧形成第二结构层；在所述第二结构层上形成发光单元，所述发光单元包括在所述第二结构层上沿远离所述第二结构层的方向层叠的第一电极以及电致发光层，所述第一电极与所述电路结构层电连接，所述第二结构层靠近所述第一结构层的表面与所述第一结构层远离所述衬底基板一侧的形貌一致，所述第二结构层的折射率大于所述第一结构层的折射率。19.根据权利要求18所述的方法，其特征在于，所述第二结构层包括层叠的多个子膜层，所述在所述第一结构层远离所述衬底基板的一侧形成第二结构层，包括：在所述第一结构层远离所述衬底基板的一侧形成所述层叠的多个子膜层，所述多个子膜层中任一子膜层的折射率与第一距离正相关，所述第一距离为在垂直于所述衬底基板的方向上，所述任一子膜层与所述第一结构层的距离。20.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括壳体以及权利要求1至17任一所述的显示面板，所述显示面板位于所述壳体中。

技术总结
本申请公开了一种显示面板、显示面板的制造方法以及显示装置，属于显示技术领域。该显示面板包括：衬底基板；电路结构层；第一结构层，第一结构层位于电路结构层远离衬底基板的一侧，第一结构层包括阵列排布的多个光取出结构；第二结构层，第二结构层位于第一结构层远离衬底基板的一侧；发光单元，发光单元包括在第二结构层上沿远离第二结构层的方向层叠的第一电极以及电致发光层，第一电极与电路结构层电连接，第二结构层的折射率大于第一结构层的折射率，且小于或者等于第一电极的折射率。该第二结构层可以在不降低光取出效率的情况下，提升电致发光层的厚度的均匀性，解决了相关技术中显示效果较差的问题，提升了显示面板的显示效果。的显示效果。的显示效果。


技术研发人员：崔颖 尤娟娟 许程 周丹丹
受保护的技术使用者：北京京东方技术开发有限公司
技术研发日：2023.07.28
技术公布日：2023/9/22