一种掩膜板清洗装置以及清洗方法与流程

1.本公开涉及半导体制造领域，尤其涉及一种掩膜板清洗装置以及清洗方法。


背景技术：

2.在显示装置的制造过程中，经常会用到掩膜板(mask)，通过掩膜板的遮挡作用可以在基板上形成所需的图形。掩膜板在使用一段时间后就需要对其进行清洗，以去除掩膜板上沉积的材料，否则会影响产品效果。


技术实现要素：

3.有鉴于此，本公开实施例提供一种掩膜板清洗装置以及清洗方法。
4.根据本公开实施例的第一方面，提供了一种掩膜板清洗装置，包括：
5.固定柱，用于放置掩膜板，并对所述掩膜板进行固定；
6.支架，用于放置所述固定柱；
7.第一框架，用于固定所述支架；
8.所述第一框架的一条边上设置有上踏板，所述上踏板用于拉动所述第一框架下移，以使所述支架倾斜，进而调整所述掩膜板的倾斜角度。
9.在一些实施例中，还包括：
10.底座，位于所述第一框架的下方；
11.限位组件，位于所述底座的四角处；所述限位组件用于对所述第一框架进行限位。
12.在一些实施例中，所述限位组件包括两个侧板和两个侧板之间的竖板，所述侧板和所述竖板之间通过转轴连接；所述竖板一侧的上部设置有凸起，所述凸起用于抵住所述第一框架，对所述第一框架进行限位；所述竖板的与设置有凸起的一侧相对的另一侧的下部设置有斜板，所述斜板的下方设置有第一弹簧，所述第一弹簧的两端分别与所述斜板和所述底座连接。
13.在一些实施例中，所述第一框架与所述底座之间通过第一滑杆连接，所述第一滑杆贯穿所述底座；所述第一滑杆上套设有第二弹簧。
14.在一些实施例中，还包括：
15.第二框架，所述第二框架放置于所述限位组件的斜板上；
16.底板，位于所述底座的下方；
17.所述第二框架与位于其下方的底座之间通过第二滑杆连接，所述第二滑杆设置于所述第二框架的底部且贯穿所述底座，并固定于所述底板上；
18.所述第二滑杆上套设有第三弹簧。
19.在一些实施例中，所述底板的一条边上设置有下踏板，所述下踏板用于推动所述第一框架向上移动。
20.在一些实施例中，还包括：
21.两个连接座和位于两个连接座之间的关节轴承；所述两个连接座分别设置于所述
支架和所述底座上；
22.所述支架依靠所述关节轴承进行倾斜。
23.在一些实施例中，所述固定柱的顶部开设有直角槽，所述直角槽的内部设置有l型板，所述l型板的两个侧面均设置有掩膜板固定组件，用于固定所述掩膜版。
24.在一些实施例中，所述固定柱的顶部设置有照明组件。
25.在一些实施例中，所述固定柱上设置有用于放置气枪的支撑组件。
26.在一些实施例中，所述掩膜板固定组件包括支撑板、弹片、贯穿所述支撑板并固定于所述弹片上的第三滑杆，以及位于所述支撑板和所述弹片之间的第四弹簧；
27.所述l型板的两个侧面均设置有凹槽，所述支撑板固定于所述凹槽内。
28.在一些实施例中，所述底座的底部四角处均安装有万向轮；所述万向轮上设置有插销。
29.根据本公开实施例的第二方面，提供一种掩膜板清洗方法，应用如上述任一项实施例所述的掩膜板清洗装置，所述方法包括：
30.将掩膜板放置于固定柱上，并对所述掩膜板进行固定；
31.所述固定柱放置于支架上，第一框架抵住所述支架的四周，固定所述支架，以对所述掩膜板进行清洗；
32.踩下所述第一框架上的上踏板，所述第一框架下移，以使所述支架倾斜，进而调整所述掩膜板的倾斜角度和清洗液的流动角度。
33.在一些实施例中，还包括：
34.在所述第一框架下移后，限位组件上的凸起抵住所述第一框架，对所述第一框架进行限位。
35.在一些实施例中，还包括：
36.踩下底板上的下踏板，拉动位于所述限位组件的斜板上的第二框架向下移动，进而拉动所述限位组件的斜板向下移动，以使所述限位组件的竖板以及位于竖板上的凸起绕转轴向斜板的一侧转动，所述第一框架向上移动，以固定所述支架。
37.在一些实施例中，还包括：
38.在所述第一框架下移后，转动支架与底座之间的关节轴承，以控制所述支架倾斜的角度，进而调整所述掩膜板的倾斜角度和清洗液的流动角度。
39.在一些实施例中，所述将掩膜板放置于固定柱上，并对所述掩膜板进行固定，包括：
40.所述掩膜板放置于所述固定柱的直角槽上，所述掩膜板推动掩膜板固定组件上的弹片向内移动，压缩弹片与支撑板之间的第四弹簧，所述第四弹簧依靠弹力推动所述弹片向外移动，以固定所述掩膜板。
41.本公开实施例中，通过设置第一框架，用以固定住支架，进而固定住了放置掩膜板的固定柱，以使掩膜板在清洗时能保持稳定。同时在需要倾斜掩膜板，使清洗液如酒精滴落的时候，又可以通过上踏板使第一框架下移，不再固定支架，使支架能够自由倾斜，进而调整掩膜板的倾斜角度，使得能很好地控制清洗液如酒精的滴落方向，减少污染掩膜板的可能性。
附图说明
42.为了更清楚地说明本公开实施例或传统技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
43.图1a为本公开实施例提供的掩膜板清洗装置的三维立体图；
44.图1b为本公开实施例提供的掩膜板清洗装置的俯视图；
45.图2a和图2b为本公开实施例提供的掩膜板清洗装置的底部支撑部件的三维立体图；
46.图3为本公开实施例提供的掩膜板清洗装置的限位组件的三维立体图；
47.图4为本公开实施例提供的掩膜板清洗装置的关节轴承的三维立体图；
48.图5a和图5b为本公开实施例提供的掩膜板清洗装置的固定柱的结构示意图；
49.图6a为本公开实施例提供的掩膜板清洗装置的掩膜板固定组件的拆分图；
50.图6b为本公开实施例提供的掩膜板清洗装置的掩膜板固定组件的三维立体图；
51.图7为本公开实施例提供的掩膜板清洗方法的流程示意图。
52.附图标记说明：
53.1-掩膜板；
54.10-固定柱；11-直角槽；12-l型板；121-凹槽；13-掩膜板固定组件；131-支撑板；132-弹片；133-第三滑杆；134-第四弹簧；14-照明组件；15-气枪；16-支撑组件；
55.20-支架；
56.31-第一框架；311-上踏板；32-第二框架；
57.40-底座；
58.50-限位组件；501-侧板；502-竖板；503-转轴；504-凸起；505-斜板；506-第一弹簧；
59.61-第一滑杆；62-第二滑杆；
60.70-底板；701-下踏板；
61.81-连接座；82-关节轴承；
62.90-万向轮；91-插销。
具体实施方式
63.下面将参照附图更详细地描述本公开公开的示例性实施方式。虽然附图中显示了本公开的示例性实施方式，然而应当理解，可以以各种形式实现本公开，而不应被这里阐述的具体实施方式所限制。相反，提供这些实施方式是为了能够更透彻地理解本公开，并且能够将本公开公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。
64.在下文的描述中，给出了大量具体的细节以便提供对本公开更为彻底的理解。然而，对于本领域技术人员而言显而易见的是，本公开可以无需一个或多个这些细节而得以实施。在其他的例子中，为了避免与本公开发生混淆，对于本领域公知的一些技术特征未进行描述；即，这里不描述实际实施例的全部特征，不详细描述公知的功能和结构。
65.在附图中，为了清楚，层、区、元件的尺寸以及其相对尺寸可能被夸大。自始至终相
同附图标记表示相同的元件。
66.应当明白，当元件或层被称为“在
……
上”、“与
……
相邻”、“连接到”或“耦合到”其它元件或层时，其可以直接地在其它元件或层上、与之相邻、连接或耦合到其它元件或层，或者可以存在居间的元件或层。相反，当元件被称为“直接在
……
上”、“与
……
直接相邻”、“直接连接到”或“直接耦合到”其它元件或层时，则不存在居间的元件或层。应当明白，尽管可使用术语第一、第二、第三等描述各种元件、部件、区、层和/或部分，这些元件、部件、区、层和/或部分不应当被这些术语限制。这些术语仅仅用来区分一个元件、部件、区、层或部分与另一个元件、部件、区、层或部分。因此，在不脱离本公开教导之下，下面讨论的第一元件、部件、区、层或部分可表示为第二元件、部件、区、层或部分。而当讨论的第二元件、部件、区、层或部分时，并不表明本公开必然存在第一元件、部件、区、层或部分。
67.空间关系术语例如“在
……
下”、“在
……
下面”、“下面的”、“在
……
之下”、“在
……
之上”、“上面的”等，在这里可为了方便描述而被使用从而描述图中所示的一个元件或特征与其它元件或特征的关系。应当明白，除了图中所示的取向以外，空间关系术语意图还包括使用和操作中的器件的不同取向。例如，如果附图中的器件翻转，然后，描述为“在其它元件下面”或“在其之下”或“在其下”元件或特征将取向为在其它元件或特征“上”。因此，示例性术语“在
……
下面”和“在
……
下”可包括上和下两个取向。器件可以另外地取向(旋转90度或其它取向)并且在此使用的空间描述语相应地被解释。
68.在此使用的术语的目的仅在于描述具体实施例并且不作为本公开的限制。在此使用时，单数形式的“一”、“一个”和“所述/该”也意图包括复数形式，除非上下文清楚指出另外的方式。还应明白术语“组成”和/或“包括”，当在该说明书中使用时，确定所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或部件的存在，但不排除一个或更多其它的特征、整数、步骤、操作、元件、部件和/或组的存在或添加。在此使用时，术语“和/或”包括相关所列项目的任何及所有组合。
69.为了彻底理解本公开，将在下列的描述中提出详细的步骤以及详细的结构，以便阐释本公开的技术方案。本公开的较佳实施例详细描述如下，然而除了这些详细描述外，本公开还可以具有其他实施方式。
70.在一些实施例中，掩膜板上针对一些比较难清洗的颗粒(particle)时，需要进行人工清洗。在清洗时，将掩膜板放到支架上，其中，有膜的一面朝上。如果有膜的一面上有灰尘，则需要使用滴酒精的方式清除，然后人工将支架提起来，让酒精带着灰尘脱离掩膜板，无膜的一面直接使用无尘布和酒精擦拭。但是在清洗过程中，清洗装置不能很好的控制酒精的滴落方向，容易再次污染掩膜板，同时掩膜板固定的时候装置会出现晃动和偏移，不够稳定，也不方便移动。
71.基于此，本公开实施例提供了一种掩膜板清洗装置，图1a为本公开实施例提供的掩膜板清洗装置的三维立体图，图1b为本公开实施例提供的掩膜板清洗装置的俯视图。
72.参见图1a和图1b，所述掩膜板清洗装置，包括：固定柱10，用于放置掩膜板1，并对所述掩膜板1进行固定；支架20，用于放置所述固定柱10；第一框架31，用于固定所述支架20；所述第一框架31的一条边上设置有上踏板311(参见图2a)，所述上踏板311用于拉动所述第一框架31下移，以使所述支架20倾斜，进而调整所述掩膜板1的倾斜角度。
73.本公开实施例中，通过设置第一框架，用以固定住支架，进而固定住了放置掩膜板
的固定柱，以使掩膜板在清洗时能保持稳定。同时在需要倾斜掩膜板，使清洗液如酒精滴落的时候，又可以通过上踏板使第一框架下移，不再固定支架，使支架能够自由倾斜，进而调整掩膜板的倾斜角度，使得能很好地控制清洗液如酒精的滴落方向，减少污染掩膜板的可能性。
74.在一实施例中，所述第一框架31为矩形框，由4根横杆组成。
75.图2a和图2b为本公开实施例提供的掩膜板清洗装置的底部支撑部件的三维立体图。
76.如图2a和图2b所示，所述掩膜板清洗装置还包括：底座40，位于所述第一框架31的下方；限位组件50，位于所述底座40的四角处；所述限位组件50用于对所述第一框架31进行限位。
77.图3为本公开实施例提供的掩膜板清洗装置的限位组件的三维立体图。
78.如图3所示，所述限位组件50包括两个侧板501和两个侧板501之间的竖板502，所述侧板501和所述竖板502之间通过转轴503连接；所述竖板502一侧的上部设置有凸起504，所述凸起504用于抵住所述第一框架31，对所述第一框架31进行限位；所述竖板502的与设置有凸起504的一侧相对的另一侧的下部设置有斜板505，所述斜板505的下方设置有第一弹簧506，所述第一弹簧506的两端分别与所述斜板505和所述底座40连接。
79.第一框架下移后，用限位组件对第一框架进行限位，使用限位组件的凸起抵住第一框架，使第一框架固定在限位组件的凸起下，并且第一弹簧能够产生弹力，保证凸起有一定的压力，能够抵住第一框架，从而使第一框架不对支架的倾斜造成干扰，使得支架能够自由倾斜。
80.在一实施例中，所述凸起504的远离所述竖板502一侧的表面为弧形表面。
81.在实际操作中，踩下上踏板，上踏板和第一框架一起往下移动，第一框架沿着限位结构的凸起的弧形表面向下移动，压动限位结构往一侧转动，等到第一框架移动到所述凸起的下方时，松开上踏板，如此，第一框架被凸起卡住，支架没有了第一框架的支撑，可以自由倾斜，进而能够调整掩膜板的倾斜角度和清洗液的流动角度。
82.在一实施例中，继续参见图2a和图2b，所述第一框架31与所述底座40之间通过第一滑杆61连接，所述第一滑杆61贯穿所述底座40；所述第一滑杆61上套设有第二弹簧。
83.在实际操作中，第一框架在向下移动的过程中，因为第一滑杆贯穿底座，所以带动第一滑杆向下移动，并且压缩第二弹簧。然后在需要重新利用第一框架固定支架时，可依靠第二弹簧的弹力使第一框架恢复到固定支架的初始位置。
84.在一些实施例中，如图2a所示，所述第一滑杆的数量可以为4个，其中，每两个分为一组，分别位于所述第一框架相对的两根横杆上。在其他一些实施例中，所述第一滑杆的数量也可以为8个，其中，每两个为一组，分别位于所述第一框架的四根横杆上。在另一些实施例中，所述第一滑杆的数量也可以为其他数值，具体地可根据实际情况具体设置。
85.继续参见图2a和图2b，所述掩膜板清洗装置还包括：第二框架32，所述第二框架32放置于所述限位组件50的斜板上；底板70，位于所述底座40的下方；所述第二框架32与位于其下方的底座40之间通过第二滑杆62连接，所述第二滑杆62设置于所述第二框架32的底部且贯穿所述底座40，并固定于所述底板70上；所述第二滑杆62上套设有第三弹簧。
86.在一实施例中，所述第二框架32为矩形框，由4根横杆组成。
87.在一些实施例中，如图2a和2b所示，所述第二滑杆的数量可以为4个，其中，每两个分为一组，分别位于所述第二框架相对的两根横杆上。在其他一些实施例中，所述第二滑杆的数量也可以为8个，其中，每两个为一组，分别位于所述第二框架的四根横杆上。在另一些实施例中，所述第二滑杆的数量也可以为其他数值，具体地可根据实际情况具体设置。
88.参见图2a和图2b，所述底板70的一条边上设置有下踏板701，所述下踏板701用于推动所述第一框架31向上移动。
89.在实际操作中，在需要重新利用第一框架固定支架时，踩下下踏板，下踏板和底板一起向下移动，拉动第二滑杆向下移动，从而带动第二框架向下移动。因为第二框架放置于所述限位组件的斜板上，所以第二框架在向下移动的过程中，拉动限位组件的斜板向下移动，通过杠杆原理，从而带动限位组件的竖板绕转轴向一侧转动，位于竖板上的凸起也绕转轴向一侧转动，如此，第一框架没有了凸起的限制，可依靠第二弹簧的弹力恢复到固定支架的初始位置，对支架进行固定。同时，在第一框架上移后，松开下踏板，所述第二框架可依靠第三弹簧的弹力重新恢复到初始位置。
90.在本公开实施例中，通过设置上踏板和下踏板，可方便踩踏，无需弯腰就可控制。
91.图4为本公开实施例提供的掩膜板清洗装置的关节轴承的三维立体图。
92.如图4所示，所述掩膜板清洗装置还包括：两个连接座81和位于两个连接座81之间的关节轴承82；所述两个连接座81分别设置于所述支架20和所述底座40上；所述支架20依靠所述关节轴承82进行倾斜。
93.在一实施例中，如图2a和图2b所示，所述底座40的底部四角处均安装有万向轮90；所述万向轮90上设置有插销91。
94.清洗装置上安装有万向轮，可以方便移动；同时又有插销，可以插入地板上的镂空孔内，固定装置，避免清洗装置移动。
95.图5a和图5b为本公开实施例提供的掩膜板清洗装置的固定柱的结构示意图。
96.如图1a、图1b、图5a和图5b所示，所述固定柱10的顶部开设有直角槽11，所述直角槽11的内部设置有l型板12，所述l型板12的两个侧面均设置有掩膜板固定组件13，用于固定所述掩膜版1。
97.如图1a、图1b、图5a和图5b所示，所述固定柱10的顶部设置有照明组件14。
98.如图1a、图1b、图5a和图5b所示，所述固定柱10上设置有用于放置气枪15的支撑组件16。
99.在一实施例中，所述固定柱的数量可以为4个，分别位于所述支架的四角处。每个固定柱都开设有一个直角槽，四个直角槽正好可以放置一个掩膜板。
100.在一实施例中，所述照明组件14可以设置在其中一个固定柱10的顶部，可在清洗掩膜板的过程中，提供照明。所述照明组件14可以为鹅颈灯。
101.在一实施例中，所述气枪15可位于其中一个固定柱10上，所述支撑组件16可包括3根支撑杆，用于支撑气枪15。所述3根支撑杆的设置形状及结构，与所述气枪15的结构相适配，使得3根支撑杆形成的支撑组件16能够支撑气枪15。
102.图6a为本公开实施例提供的掩膜板清洗装置的掩膜板固定组件的拆分图，图6b为本公开实施例提供的掩膜板清洗装置的掩膜板固定组件的三维立体图。
103.如图6a和图6b所示，所述掩膜板固定组件13包括支撑板131、弹片132、贯穿所述支
撑板131并固定于所述弹片132上的第三滑杆133，以及位于所述支撑板131和所述弹片132之间的第四弹簧134；所述l型板12的两个侧面均设置有凹槽121，所述支撑板131固定于所述凹槽121内。
104.一种实施方式中，支撑板131的顶部为弧面，可以通过第三滑杆133和/或第四弹簧134与弹片132更好的适配连接。且在实际操作中，在放置掩膜板时，掩膜板推动掩膜板固定组件上的弹片向内移动，从而压缩弹片与支撑板之间的第四弹簧，第四弹簧依靠弹力推动弹片向外移动，进而可以从侧面固定住掩膜板，避免掩膜板脱落，同时又不会损伤掩膜板。
105.在一实施例中，所述弹片有一端延伸至l型板的凹槽内，并与l型板通过滑块和滑轨滑动连接。
106.在一实施例中，所述弹片132的顶部为弧面，可以通过第三滑杆133和/或第四弹簧134与支撑板131更好的适配连接。
107.本公开实施例还提供了一种掩膜板清洗方法，具体请参见附图7，如图所示，所述方法包括以下步骤：
108.步骤701：将掩膜板放置于固定柱上，并对所述掩膜板进行固定；
109.步骤702：所述固定柱放置于支架上，第一框架抵住所述支架的四周，固定所述支架，以对所述掩膜板进行清洗；
110.步骤703：踩下所述第一框架上的上踏板，所述第一框架下移，以使所述支架倾斜，进而调整所述掩膜板的倾斜角度和清洗液的流动角度。
111.下面结合具体实施例对本公开实施例提供的掩膜板清洗方法再作进一步详细的说明。
112.首先，参见图1a和图1b，执行步骤701，将掩膜板1放置于固定柱10上，并对所述掩膜1进行固定。
113.如图1a、图1b、图5a和图5b所示，所述固定柱10的顶部开设有直角槽11，所述直角槽11的内部设置有l型板12，所述l型板12的两个侧面均设置有掩膜板固定组件13，用于固定所述掩膜版1。
114.在一实施例中，所述固定柱的数量可以为4个，分别位于所述支架的四角处。每个固定柱都开设有一个直角槽，四个直角槽正好可以放置一个掩膜板。
115.如图6a和图6b所示，所述掩膜板固定组件13包括支撑板131、弹片132、贯穿所述支撑板131并固定于所述弹片132上的第三滑杆133，以及位于所述支撑板131和所述弹片132之间的第四弹簧134；所述l型板12的两个侧面均设置有凹槽121，所述支撑板131固定于所述凹槽121内。
116.具体地，在一实施例中，所述将掩膜板1放置于固定柱10上，并对所述掩膜板1进行固定，包括：所述掩膜板1放置于所述固定柱10的直角槽11上，所述掩膜板1推动掩膜板固定组件13上的弹片132向内移动，压缩弹片132与支撑板131之间的第四弹簧134，所述第四弹簧134依靠弹力推动所述弹片132向外移动，以固定所述掩膜板1。
117.具体地，在实际操作中，在放置掩膜板时，掩膜板推动掩膜板固定组件上的弹片向内移动，从而压缩弹片与支撑板之间的第四弹簧，第四弹簧依靠弹力推动弹片向外移动，进而可以从侧面固定住掩膜板，避免掩膜板脱落，同时又不会损伤掩膜板。
118.在一实施例中，其中一个固定柱10的顶部设置有照明组件14，可在清洗掩膜板的
过程中，提供照明。所述照明组件14可以为鹅颈灯。
119.在一实施例中，其中一个固定柱10上设置有支撑组件16，所述支撑组件16可包括3根支撑杆，用于支撑气枪15。
120.接着，执行步骤702，所述固定柱10放置于支架20上，第一框架31抵住所述支架20的四周，固定所述支架20，以对所述掩膜板1进行清洗。
121.本公开实施例中，通过设置第一框架，用以固定住支架，进而固定住了放置掩膜板的固定柱，以使掩膜板在清洗时能保持稳定。
122.接着，执行步骤703，踩下所述第一框架31上的上踏板311，所述第一框架31下移，以使所述支架20倾斜，进而调整所述掩膜板1的倾斜角度和清洗液的流动角度。
123.本公开实施例中，在需要倾斜掩膜板，使清洗液如酒精滴落的时候，又可以使第一框架下移，不再固定支架，使支架能够自由倾斜，进而调整掩膜板的倾斜角度，使得能很好地控制清洗液如酒精的滴落方向，减少污染掩膜板的可能性。
124.如图3所示，限位组件50包括两个侧板501和两个侧板501之间的竖板502，所述侧板501和所述竖板502之间通过转轴503连接；所述竖板502一侧的上部设置有凸起504，所述凸起504用于抵住所述第一框架31，对所述第一框架31进行限位；所述竖板502的与设置有凸起504的一侧相对的另一侧的下部设置有斜板505，所述斜板505的下方设置有第一弹簧506，所述第一弹簧506的两端分别与所述斜板505和所述底座40连接。
125.在一实施例中，所述掩膜板清洗方法，还包括：在所述第一框架31下移后，限位组件50上的凸起504抵住所述第一框架31，对所述第一框架31进行限位。
126.第一框架下移后，用限位组件对第一框架进行限位，使用限位组件的凸起抵住第一框架，使第一框架固定在限位组件的凸起下，并且第一弹簧能够产生弹力，保证凸起有一定的压力，能够抵住第一框架，从而使第一框架不对支架的倾斜造成干扰，使得支架能够自由倾斜。
127.在实际操作中，踩下上踏板，上踏板和第一框架一起往下移动，第一框架沿着限位结构的凸起的弧形表面向下移动，压动限位结构往一侧转动，等到第一框架移动到所述凸起的下方时，松开上踏板，如此，第一框架被凸起卡住，支架没有了第一框架的支撑，可以自由倾斜，进而能够调整掩膜板的倾斜角度和清洗液的流动角度。
128.参见图2a和图2b，所述第一框架31与所述底座40之间通过第一滑杆61连接，所述第一滑杆61贯穿所述底座40；所述第一滑杆61上套设有第二弹簧。因此，第一框架在向下移动的过程中，因为第一滑杆贯穿底座，所以带动第一滑杆向下移动，并且压缩第二弹簧。然后在需要重新利用第一框架固定支架时，可依靠第二弹簧的弹力使第一框架恢复到固定支架的初始位置。
129.如图4所示，两个连接座81分别设置于支架20和底座40上；支架20可依靠关节轴承82进行倾斜。
130.在一实施例中，所述掩膜板清洗方法，还包括：在所述第一框架31下移后，转动支架20与底座40之间的关节轴承82，以控制所述支架20倾斜的角度，进而调整所述掩膜板1的倾斜角度和清洗液的流动角度。
131.如图2a和图2b所示，第二框架32放置于所述限位组件50的斜板上；底板70，位于底座40的下方；所述第二框架32与位于其下方的底座40之间通过第二滑杆62连接，所述第二
滑杆62设置于所述第二框架32的底部且贯穿所述底座40，并固定于所述底板70上；所述第二滑杆62上套设有第三弹簧。
132.在一实施例中，所述掩膜板清洗方法，还包括：踩下底板70上的下踏板701，拉动位于所述限位组件50的斜板505上的第二框架32向下移动，进而拉动所述限位组件50的斜板505向下移动，以使所述限位组件50的竖板502以及位于竖板502上的凸起504绕转轴503向斜板505的一侧转动，所述第一框架31向上移动，以固定所述支架20。
133.在实际操作中，在需要重新利用第一框架固定支架时，踩下下踏板，下踏板和底板一起向下移动，拉动第二滑杆向下移动，从而带动第二框架向下移动。因为第二框架放置于所述限位组件的斜板上，所以第二框架在向下移动的过程中，拉动限位组件的斜板向下移动，通过杠杆原理，从而带动限位组件的竖板绕转轴向一侧转动，位于竖板上的凸起也绕转轴向一侧转动，如此，第一框架没有了凸起的限制，可依靠第二弹簧的弹力恢复到固定支架的初始位置，对支架进行固定。同时，在第一框架上移后，松开下踏板，所述第二框架可依靠第三弹簧的弹力重新恢复到初始位置。
134.本公开实施例中，通过设置第一框架，用以固定住支架，进而固定住了放置掩膜板的固定柱，以使掩膜板在清洗时能保持稳定。同时在需要倾斜掩膜板，使清洗液如酒精滴落的时候，又可以通过上踏板使第一框架下移，不再固定支架，使支架能够自由倾斜，进而调整掩膜板的倾斜角度，使得能很好地控制清洗液如酒精的滴落方向，减少污染掩膜板的可能性。
135.万向轮的设置使得清洗装置便于移动，同时又有插销，可以插入地板上的镂空孔内，固定装置，避免清洗装置移动。l型板的设置不会损伤掩膜板，同时能固定掩膜板，使得掩膜板不会脱落。
136.以上所述，仅为本公开的较佳实施例而已，并非用于限定本公开的保护范围，凡在本公开的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本公开的保护范围之内。

技术特征：
1.一种掩膜板清洗装置，其特征在于，包括：固定柱，用于放置掩膜板，并对所述掩膜板进行固定；支架，用于放置所述固定柱；第一框架，用于固定所述支架；所述第一框架的一条边上设置有上踏板，所述上踏板用于拉动所述第一框架下移，以使所述支架倾斜，进而调整所述掩膜板的倾斜角度。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，还包括：底座，位于所述第一框架的下方；限位组件，位于所述底座的四角处；所述限位组件用于对所述第一框架进行限位。3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述限位组件包括两个侧板和两个侧板之间的竖板，所述侧板和所述竖板之间通过转轴连接；所述竖板一侧的上部设置有凸起，所述凸起用于抵住所述第一框架，对所述第一框架进行限位；所述竖板的与设置有凸起的一侧相对的另一侧的下部设置有斜板，所述斜板的下方设置有第一弹簧，所述第一弹簧的两端分别与所述斜板和所述底座连接。4.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述第一框架与所述底座之间通过第一滑杆连接，所述第一滑杆贯穿所述底座；所述第一滑杆上套设有第二弹簧。5.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，还包括：第二框架，所述第二框架放置于所述限位组件的斜板上；底板，位于所述底座的下方；所述第二框架与位于其下方的底座之间通过第二滑杆连接，所述第二滑杆设置于所述第二框架的底部且贯穿所述底座，并固定于所述底板上；所述第二滑杆上套设有第三弹簧。6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述底板的一条边上设置有下踏板，所述下踏板用于推动所述第一框架向上移动。7.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，还包括：两个连接座和位于两个连接座之间的关节轴承；所述两个连接座分别设置于所述支架和所述底座上；所述支架依靠所述关节轴承进行倾斜。8.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述固定柱的顶部开设有直角槽，所述直角槽的内部设置有l型板，所述l型板的两个侧面均设置有掩膜板固定组件，用于固定所述掩膜版；和/或，所述固定柱的顶部设置有照明组件；和/或，所述固定柱上设置有用于放置气枪的支撑组件。9.根据权利要求8所述的装置，其特征在于，所述掩膜板固定组件包括支撑板、弹片、贯穿所述支撑板并固定于所述弹片上的第三滑杆，以及位于所述支撑板和所述弹片之间的第四弹簧；所述l型板的两个侧面均设置有凹槽，所述支撑板固定于所述凹槽内。10.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，
所述底座的底部四角处均安装有万向轮；所述万向轮上设置有插销。11.一种掩膜板清洗方法，其特征在于，应用如权利要求1-10任一项所述的掩膜板清洗装置，所述方法包括：将掩膜板放置于固定柱上，并对所述掩膜板进行固定；所述固定柱放置于支架上，第一框架抵住所述支架的四周，固定所述支架，以对所述掩膜板进行清洗；踩下所述第一框架上的上踏板，所述第一框架下移，以使所述支架倾斜，进而调整所述掩膜板的倾斜角度和清洗液的流动角度。12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，还包括：在所述第一框架下移后，限位组件上的凸起抵住所述第一框架，对所述第一框架进行限位。13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，还包括：踩下底板上的下踏板，拉动位于所述限位组件的斜板上的第二框架向下移动，进而拉动所述限位组件的斜板向下移动，以使所述限位组件的竖板以及位于竖板上的凸起绕转轴向斜板的一侧转动，所述第一框架向上移动，以固定所述支架。14.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，还包括：在所述第一框架下移后，转动支架与底座之间的关节轴承，以控制所述支架倾斜的角度，进而调整所述掩膜板的倾斜角度和清洗液的流动角度。15.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，所述将掩膜板放置于固定柱上，并对所述掩膜板进行固定，包括：所述掩膜板放置于所述固定柱的直角槽上，所述掩膜板推动掩膜板固定组件上的弹片向内移动，压缩弹片与支撑板之间的第四弹簧，所述第四弹簧依靠弹力推动所述弹片向外移动，以固定所述掩膜板。

技术总结
本公开实施例公开了一种掩膜板清洗装置以及清洗方法，其中，所述掩膜板清洗装置，包括：固定柱，用于放置掩膜板，并对所述掩膜板进行固定；支架，用于放置所述固定柱；第一框架，用于固定所述支架；所述第一框架的一条边上设置有上踏板，所述上踏板用于拉动所述第一框架下移，以使所述支架倾斜，进而调整所述掩膜板的倾斜角度。的倾斜角度。的倾斜角度。


技术研发人员：程夏云
受保护的技术使用者：长鑫存储技术有限公司
技术研发日：2022.03.16
技术公布日：2023/9/22