一种工作物质、谐波发射装置、谐波发射方法以及拉曼信号增强方法

1.本发明涉及光学技术领域，特别是涉及一种工作物质、谐波发射装置、谐波发射方法以及拉曼信号增强方法。


背景技术：

2.受激辐射(英语：stimulated emission)，是指处于激发态的发光原子在外来辐射场的作用下，向低能态或基态跃迁时，辐射光子的现象。早在1916年爱因斯坦就提出了受激辐射的概念，为后续激光的研究提供了理论基础。其理论是说在组成物质的原子中，有不同数量的粒子(电子)分布在不同的能级上，在高能级上的粒子受到某种外来光子的激发，会从高能级跳到(跃迁)到低能级上，这时将会辐射出与外来光子的频率、位相、传播方向以及偏振状态等全相同性质的光。而且在某种状态下，会出现一个弱光激发出一个强光的现象，这就叫做“受激辐射的光放大”，简称激光。也就是说，受激辐射是产生激光的必要条件。
3.根据受激辐射的理论，人们实现了激发态粒子在受激辐射作用下发光，制作出各种激光光源。现有技术中，激光光源由工作物质、泵浦激励源和谐振腔三部分组成。工作物质中的粒子(分子、原子或离子)在泵浦激励源的作用下，被激励到高能级的激发态，造成高能级激发态上的粒子数多于低能级激发态上的粒子数，即形成粒子数反转。粒子从高能级跃迁到低能级时产生光子，如果光子在谐振腔反射镜的作用下，返回到工作物质而诱发出同样性质的跃迁，则产生同频率、同方向、同相位的辐射。如此靠谐振腔的反馈放大循环下去，往返振荡，辐射不断增强，最终形成强大的激光束输出。其中，激光光源可按其工作物质分为固体激光源、气体激光源、液体激光源和半导体激光源4种类型。
4.在发射激光时，为了获得高效的倍频发射，人们经常会使用相位匹配但体积庞大的光学器件，这明显不符合计算机和通信设备的微型化、轻量化的要求。为此，现有技术也出现了以纳米量级的金属颗粒作为工作物质的激光光源。但是纳米量级的金属颗粒，其非线性转换的效率很低，尤其是只有单个纳米量级的金属颗粒情况下，根本不足以提供强度足够的二次谐波(shg：secondharmonicgeneration)信号来发射激光，对激光发射装置的微型化进程造成严重的阻碍。
5.另一方面，作为受激辐射理论的另一个重要应用
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受激拉曼散射(stimulated raman scattering)同样也面临信号强度不足的问题。受激拉曼散射是指高强度的激光和物质分子发生强烈的相互作用，使散射过程具有受激发射的非线性光学效应，其发射的散射光是拉曼散射光。在分子结构研究，基于拉曼散射效应的拉曼光谱分析法有着广泛的应用，通过对与入射光频率不同的散射光谱进行分析能得到分子振动、转动方面信息。随着高相干激光源和探测微弱信号技术的出现，拉曼光谱就作为一种定性半定量分析物质结构的方法被进一步广泛应用。在拉曼光谱分析法中，拉曼信号的强弱是获得高质量拉曼光谱的关键所在。但是，拉曼散射效应是个非常弱的过程，一般其光强仅约为入射光强的10-6
到10-9
，所以现有技术中拉曼信号都很弱，要对表面吸附物种进行拉曼光谱研究几乎都要利用某
种增强效应。其中被称为表面增强拉曼光谱效应(surface-enhanced raman spectroscopy，sers)的应用最为广泛，其利用特殊结构的金属表面吸附待测物质分子，使得物质的拉曼信号被增强。然而现有技术中，表面增强拉曼光谱效应对信号的增强仍然有限，需要不断增强拉曼信号才能满足技术发展的要求。


技术实现要素：

6.基于此，本发明的目的在于，提供一种工作物质，作为固体激光源来提高受激辐射的强度。
7.本发明采取的技术方案如下：
8.一种工作物质，用于在受激辐射作用下发射谐波，其形状为单个柱体，最大径向尺寸在100nm到500nm之间；最大轴向尺寸在1000nm到2000nm之间，材料为贵金属。
9.与现有技术相比较，本发明的工作物质通过其形状尺寸和材料，从而利用表面等离子体共振原理进行场的空间重叠，提高受激辐射时谐波的强度，扩大谐波的波长范围。同时工作物质的尺寸仍保持在纳米量级，满足了计算机和通信设备的微型化、轻量化的需求。
10.进一步，所述贵金属为金，与其他贵金属相比，金的性质稳定，但又能与活泼金属反应。
11.进一步，所述最大径向尺寸为200nm，最大轴向尺寸为1500nm，尺寸为该数值时，所发生的谐波强度最大，波长范围最广。
12.进一步，所述工作物质通过电沉积模板法制备而成，能快速完成所需工作物质水溶液的制备。
13.此外，本发明还提供了一种谐波发射装置，以实现高强度、宽范围的谐波发射，其技术方案如下：
14.一种谐波发射装置，包括激励源、光路单元、工作物质平台、控制单元和工作物质；所述工作物质的形状为单个柱体，最大径向尺寸在100nm到500nm之间；最大轴向尺寸在1000nm到2000nm之间，材料为贵金属；所述激励源发射的激光，经所述光路单元入射到位于所述工作物质平台上的工作物质；所述控制单元进行监控，使得所述激励源发射单束激光射入单个工作物质。
15.与现有技术相比较，本发明的谐波发射装置能发射强度高的谐波，其发射的谐波可在宽波带范围内调控，可实现高阶谐波的发射。而且结构简单，工作物质体积小，有利于谐波发射装置的微型化、轻量化。
16.进一步，所述光路单元包括4f系统、电子快门以及第一反射镜组；所述4f系统对所述激励源发射的激光进行准直和扩束；所述电子快门控制所述激光入射所述工作物质平台的时长；所述第一反射镜组调整所述激光进入所述工作物质平台的角度，通过第一反射镜组的调整，可确保单束激光入射到单个工作物质。
17.进一步，所述控制单元包括显微镜、带通滤色片、ccd成像单元和第二反射镜组；所述工作物质平台上发出的光束经所述显微镜放大后，经所述第二反射镜组反射依次进入所述带通滤色片、所述ccd成像单元，通过ccd成像单元的成像，提高对激光入射到工作物质的情况进行监控。
18.在一个实施例中，本发明还提供了一种谐波发射方法，以实现高强度、宽范围的谐
波发射，其技术方案如下：
19.一种谐波发射方法，包括以下步骤
20.设置谐波发射装置，所述谐波发射装置包括激励源和工作物质；所述工作物质的形状为单个柱体，最大径向尺寸在100nm到500nm之间；最大轴向尺寸在1000nm到2000nm之间，材料为贵金属；
21.通过所述激励源发射激光，并使得单束激光进入单个工作物质。
22.与现有技术相比较，本发明的谐波发射方法能发射强度高的谐波，其发射的谐波可在宽波带范围内调控，可实现高阶谐波的发射。
23.在另一个实施例中，本发明还提供了一种增强拉曼信号方法，以提高拉曼光谱的质量，其技术方案如下：
24.一种增强拉曼信号方法，包括以下步骤：使用单个工作物质作为拉曼基底附着到待测物质上；所述工作物质形状为单个柱体，最大径向尺寸在100nm到500nm之间；最大轴向尺寸在1000nm到2000nm之间，材料为贵金属。
25.与现有技术相比较，特别是与阵列拉曼基底相比较，本发明的增强拉曼信号方法通过控制单束激光入射到单个柱体的工作物质中，可大大提高拉曼信号的强度，且信号稳定，有利于提高拉曼光谱的质量。
26.进一步，使用单个工作物质作为拉曼基底附着到待测物质上之前，还包括以下步骤：制备含有所述工作物质的水溶液，在所述工作物质水溶液中加入去离子水进行稀释，直到所述工作物质水溶液中90％以上的工作物质相互分散、不成团；使用单个工作物质作为拉曼基底时，将所述工作物质水溶液涂滴到所述待测物质上，从而确保工作物质分散，便于激光入射到单个工作物质中。
27.为了更好地理解和实施，下面结合附图详细说明本发明。
附图说明
28.图1为本发明所公开的工作物质的结构示意图；
29.图2为本发明的实施例一中工作物质的实物图；
30.图3为获取本发明的实施例一中的工作物质的流程示意图；
31.图4为本发明实施例二中的谐波发射装置的结构示意图；
32.图5为本发明的谐波发射方法的流程示意图；
33.图6为使用现有技术的纳米金属颗粒作为工作物质所产生的二次谐波强度图；
34.图7为使用本发明的工作物质时产生的二次谐波和三次谐波强度图；
35.图8为使用本发明的工作物质时所产生的二次谐波波长图；
36.图9为使用本发明的工作物质时所产生的三次谐波波长图；
37.图10为本发明中增强拉曼信号方法的流程示意图；
38.图11(a)为现有技术中没有使用本发明的工作物质作为基底时的拉曼信号图；
39.图11(b)为现有技术中没有使用本发明的工作物质作为基底时的实物显微结构图；
40.图12(a)为本发明中使用本发明的工作物质作为基底时的拉曼信号图；
41.图12(b)为本发明中使用本发明的工作物质作为基底时的实物显微结构图。
具体实施方式
42.本文所用术语仅用于描述特定实施例，而非限制本发明。例如，本文所使用的术语“和/或”意在包括一个或多个相关联列出项目的所有可能的组合；本文所用的单数形式“一”、“一个”和“所述”旨在包括单数形式以及复数形式，除非上下文另有明确说明。还应理解的是，本文使用的术语“包括”和/或“设有”指存在所述特征、步骤、操作、元件和/或组件，但不排除存在或添加一个或多个其他特征、步骤、操作、元素、元件和/或组件。
43.除非另有定义，否则本文使用的所有术语(包括技术和科学术语)与本发明所属领域的普通技术人员通常所理解的意义相同。进一步地，除非本文明确定义，诸如在常用字典中的那些术语的意义应与它们在相关领域和本文上下文中的意义一致，而非理想化或过分形式化的意义。
44.在描述本发明时公开了许多技术和步骤，应该理解，这些技术和步骤的每一个都有各自的益处，并且每一个也可以与一个或多个，或者在某些情况下，所有其他公开的技术结合使用。因此，为了清楚起见，本文将避免不必要的各个步骤的各种可能组合的重复。当然，应该明确，这些组合完全在本发明和权利要求的范围之内。
45.在以下描述中，为便于解释，阐述了许多具体细节以透彻理解本发明。但显而易见的是，无需提供这些具体细节，本领域技术人员也可以实践本发明。
46.本公开仅用于描述本发明的实施例，而非将本发明限制于以下附图或描述所说明的特定实施例。对本领域技术人员来说，设计任何系统的商业实现的最佳配置时，特别是本发明的实施例，必须进行许多仔细的考虑和妥协是众所周知的。根据本发明的精神和教导，本领域技术人员可因特定应用的需要来配置其商业实现，利用他们的平均技能和已知技术，适当地省略、包含、改装、混合和匹配，或改进和/或优化与本发明所描述的任何实施例有关的任何一个或多个方面、特征、功能、结果、组件、方法或步骤，以获得所需特定应用的商业实现。
47.本发明提供了一种工作物质、谐波发射装置以及拉曼信号增强方法。其中对所述工作物质的形状、材料、甚至使用数量进行限定来提高二次谐波和三次谐波的强度。使用所述工作物质，可提供一种谐波发射装置作为高阶谐波发射平台，其发射的谐波入射到现有技术中的谐振腔后不断振荡辐射，最终产生强度更强、波长范围更大的激光。
48.在发明过程中，发明人发现：合理设置工作物质的材料、形状和尺寸，就能利用表面等离子体共振原理有效进行调控，实现受激辐射时局域场的增强，在表面等离子体激元共振激发和场的空间重叠作用下提高二次谐波和三次谐波信号。同时，同样是作为受激辐射的应用，所述工作物质还可以作为拉曼基底，提高拉曼信号的强度，使得拉曼信号收集变得容易。
49.实施例一：
50.本发明所提供的工作物质10结构如图1和图2所示，为横截面接近圆形的单个柱体，其最大径向尺寸d在100nm到500nm之间，最大轴向尺寸l在1000nm到2000nm之间，材料为贵金属，即包括金、银以及铂族金属，所述铂族金属包括钌、铑、钯、锇、铱、铂。优选地，材料为金，所述最大径向尺寸d为200nm，所述最大轴向尺寸l为1500nm时，所产生的谐波信号强度最大、波长范围最广。
51.在本实施例中，所述工作物质10由金制成，相比其他贵金属，金的稳定性高，且容
易与活泼元素发生反应，特别是相对于银在使用过程中容易变为氧化银而改变性质，金能保持性质，保证表面等离子体共振的效果。所述工作物质10为圆柱体，最大径向尺寸d为200nm，最大轴向尺寸l为1500nm。所述工作物质10可通过电沉积模板法制备而成，请参阅图3，包括如下步骤：
52.步骤s1：取设有所述最大径向尺寸d小孔的三氧化二铝膜作为模板，并通过溅射仪在所述三氧化二铝膜模板上溅射一层银，从而获得具有银面的三氧化二铝膜模板。在本实施例中所述模板上设有直径为200nm的小孔。
53.步骤s2：将所述银面与铜板相贴合并固定，制成带有铜板的三氧化二铝膜模板。
54.步骤s3：对所述三氧化二铝膜模板进行银镀液电沉积，时长根据所述三氧化二铝膜模板面积大小而定，并在结束后使用去离子水进行3次以上的冲洗，以确保清洁效果。通过银镀液电沉积可形成牺牲层，提高所述工作物质10轴向上的直线度。
55.在本实施例中采用多电流阶跃法(即istep法)进行银镀液电沉积，在istep法中，将电压设置为-0.0016v，时间为800s。
56.步骤s4：对所述三氧化二铝膜模板进行金镀液电沉积。
57.在本实施例中采用计时电流法(即i-t法)进行金镀液电沉积，在i-t法中电压设置为-0.78v。
58.步骤s5：根据所述最大轴向尺寸l设定金镀液电沉积时长，检测溶液中库伦数，达到设定的时长与溶液中的库伦数时，停止金镀液电沉积，取出所述三氧化二铝膜模板并去除所述铜板。在本实施例中，所述最大轴向尺寸l为1500nm，当金镀液电沉积时长达到15min左右，检测溶液中的库伦数，达到0.55c时即可停止金镀液电沉积。
59.步骤s6：浓硝酸和水按照1：8的比例制成稀硝酸，并用所述稀硝酸清除所述三氧化二铝膜模板的银面，然后用水对所述三氧化二铝膜模板进行冲洗。
60.步骤s7：用浓氢氧化钠溶液冲洗所述三氧化二铝膜模板后，将所述三氧化二铝膜模板放置到离心管中进行离心分离。
61.步骤s8：用去离子水冲洗所述三氧化二铝膜模板，使得所述工作物质10悬浮到所述去离子水中，制成含有所述工作物质10的去离子水溶液，其中所述工作物质水溶液中90％以上的工作物质10的最大径向尺寸d和最大轴向尺寸l应达到所需尺寸。
62.判定是否达到所需尺寸时，取若干含有所述工作物质水溶液，滴注沉积到带有标记的干净玻璃片上，所述标记是为了方便在扫描电子显微镜和暗场视野图像中进行匹配而设置的。静置一段时间后吹走多余水分，再用去离子水清洗表面并放入超声机里进行超声处理，在使用前在氮气流动下进行干燥，然后通过显微仪器进行检测单个工作物质10形状，若所述最大径向尺寸d和所述最大轴向尺寸l符合要求，则进行下一步；若不符合要求，则调整步骤s1和步骤s5中参数，重复步骤s1到s7，直到所述最大径向尺寸d和所述最大轴向尺寸l符合要求。本实施例中，所得的工作物质10如图2所示。
63.步骤s9：在悬浮有所述工作物质水溶液中继续加入去离子水进行稀释，直到所述去离子水颜色变为无色，所述工作物质水溶液中90％以上的工作物质10基本处于相分离而非聚集状态，从而获得所需的工作物质水溶液。
64.实施例二：
65.设置谐波发射装置，取实施例一所公开的工作物质水溶液滴涂到玻璃片上并晾干
后进行谐波发射。请参阅图4，所述谐波发射装置20包括激励源21、光路单元22、工作物质平台23和控制单元24。所述激励源21发射出激光，并经所述光路单元22入射到放置所述工作物质平台23中单个工作物质10，所述控制单元24进行监控，以确保单束激光对应入射到单个工作物质10中。单个工作物质10被激发后产生二次谐波和/或三次谐波，谐波进入另外设置的谐振腔后进行辐射最终形成激光。
66.其中在本实施例中，所述激励源21为飞秒激光发射器，能发射波长660到1300nm之间、频率为80mhz的飞秒激光。所述光路单元22包括4f系统221、电子快门222以及第一反射镜组223。所述激励源21发出的激光进入所述4f系统221后进行准直和扩束，然后进入所述电子快门222。所述电子快门222控制激光入射到所述工作物质平台23的时长，以避免激光长时间聚焦在所述工作物质10上导致其损坏。实施例一所公开的工作物质水溶液滴放到所述工作物质平台23，即分离的工作物质10放置到所述工作物质平台23上。调整第一反射镜组223的出射角度，使得单束激光反射进入位于所述工作物质平台23的单个工作物质10中。所述控制单元24包括显微镜241、带通滤色片242、ccd成像单元243和第二反射镜组244。所述显微镜241对所述工作物质10进行放大形成一定的光束，经所述第二反射镜组244反射后进入所述带通滤色片242。所述带通滤色片242对所述光束进行过滤，得到所需要的波长范围内的光束后，所述光束进入所述ccd成像单元243进行成像。操作人员根据成像确定单束激光是否一一对应入射到单个工作物质10。若不是，则调整所述第一反射镜组223，直到单束激光入射单个工作物质10。由于反射镜控制光束的方向的结构为现有技术的常规手段，此处不对第一反射镜组223和所述第二反射镜组244中反射镜的排布进行详细介绍。
67.请参阅图5，基于上述谐波发射装置20的结构，现对谐波发射过程进行说明：
68.步骤s10：设置所述激励源21、所述光路单元22、所述工作物质平台23和所述控制单元24，在所述工作物质平台23上放置实施例一中所获取的工作物质水溶液1ml；
69.步骤s20：所述激励源21发射单束激光，经所述光路单元22射入所述工作物质水溶液中所述控制单元24进行监控，并调整所述光路单元22，使得单束激光仅射入单个工作物质10；
70.步骤s30：使得所述工作物质10发出的谐波入射到谐振腔(图未示)以形成激光。
71.在本实施例中，请结合参阅图5到图8，图4为使用现有技术中纳米量级工作物质后产生的谐波信号的波长范围与强度，其只产生二次谐波且最大强度为30a.u.左右，对应波长为425nm；图6到图8为使用本发明的工作物质10和谐波发射平台20后的谐波信号的波长范围与强度，其可产生的二次谐波信号和/或三次谐波信号，最大强度均达到5000a.u.左右，且二次谐波在激光波长可调范围内800-1260nm均有信号，而三次谐波在激光波长可调范围内1160nm-1260nm有信号，二次谐波和上次谐波信号均具有多个波长可供选择使用。
72.也就是说，从图6到图9可以看出，相同条件下，使用本发明的工作物质10和谐波发射装置20，尤其单束激光仅入射单个工作物质10后产生的谐波强度、波长范围远远大于纳米量级工作物质所产生的谐波强度、波长范围，甚至还产生了较强的三次谐波信号，实施例二提供了一个能同时实现二次谐波、三次谐波发射的平台，实现高阶谐波的发射。
73.实施例三：
74.实施例一所公开的工作物质10同时能作为基底来增强拉曼信号。请参阅图10，在本实施例中，以六角单晶石墨烯作为待测物质，使用实施例一所公开的工作物质10作为基
底提高拉曼信号强度并测量拉曼光谱时，包括以下步骤：
75.步骤s100：在铜基底上生成六角石墨烯，并将所述六角石墨烯转移到玻璃片上，制成所述待测物质样品。
76.步骤s200：取适量实施例一所制成的工作物质水溶液1ml滴涂到所述六角石墨烯玻璃片上。
77.步骤s300：设置显微观测设备，将所述玻璃片放置到所述显微观测设备内进行成像观测，以确保所述六角石墨烯玻璃片上的单个工作物质10分散设置。
78.步骤s400：设置拉曼光谱仪，并发射单束激光入射到不同位置的单个工作物质10，在入射到所述待测物质，所述拉曼光谱仪获得拉曼光谱。选取散布在所述待测物质不同位置的单个工作物质10并入射单束激光，可获取所述待测物质不同位置的拉曼光谱。
79.在本实施例中，比对图11与图12后可以看出，在相同拉曼位移的情况下，没有使用本发明所公开的工作物质10作为拉曼基底时的拉曼信号强度远远低于使用本发明所公开的工作物质10作为拉曼基底时的拉曼信号强度。并且与现有技术中阵列结构的基底等相比较，使用本发明所公开单体结构的工作物质10后，拉曼信号强度同样显著增强。
80.与现有技术相比较，本发明的工作物质、谐波发射装置、谐波发射方法以及拉曼信号增强方法具有以下优点：
81.1、利用表面等离子体共振原理大大提高了受激辐射的强度；
82.2、装置结构简单，满足了计算机和通信设备的微型化、轻量化的需求；
83.3、所发射的谐波强度高、波长范围广；
84.4、提高了拉曼信号的强度与稳定性，有利于拉曼光谱质量的提高，而且实现方式简单。
85.以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。

技术特征：
1.一种工作物质，能够在受激辐射作用下发射谐波，其特征在于：形状为单个柱体，最大径向尺寸在100nm到500nm之间；最大轴向尺寸在1000nm到2000nm之间，材料为贵金属。2.根据权利要求1所述的工作物质，其特征在于：所述贵金属为金。3.根据权利要求1所述的工作物质，其特征在于：所述最大径向尺寸为200nm，最大轴向尺寸为1500nm。4.根据权利要求1所述的工作物质，其特征在于：所述工作物质通过电沉积模板法制备而成。5.一种谐波发射装置，其特征在于：包括激励源、光路单元、工作物质平台、控制单元和工作物质；所述工作物质的形状为单个柱体，最大径向尺寸在100nm到500nm之间；最大轴向尺寸在1000nm到2000nm之间，材料为贵金属；所述激励源发射的激光，经所述光路单元入射到位于所述工作物质平台上的工作物质；所述控制单元进行监控，使得所述激励源发射的单束激光射入单个工作物质。6.根据权利要求5所述的谐波发射装置，其特征在于：所述光路单元包括4f系统、电子快门以及第一反射镜组；所述4f系统对所述激励源发射的激光进行准直和扩束；所述电子快门控制所述激光入射所述工作物质平台的时长；所述第一反射镜组调整所述激光进入所述工作物质平台的角度。7.根据权利要求6所述的谐波发射装置，其特征在于：所述控制单元包括显微镜、带通滤色片、ccd成像单元和第二反射镜组；所述工作物质平台上发出的光束经所述显微镜放大后，经所述第二反射镜组反射依次进入所述带通滤色片、所述ccd成像单元。8.一种谐波发射方法，其特征在于：包括以下步骤设置谐波发射装置，所述谐波发射装置包括激励源和工作物质；所述工作物质的形状为单个柱体，最大径向尺寸在100nm到500nm之间；最大轴向尺寸在1000nm到2000nm之间，材料为贵金属；通过所述激励源发射激光，并使得单束激光进入单个工作物质。9.一种增强拉曼信号方法，其特征在于，包括以下步骤：使用单个工作物质作为拉曼基底附着到待测物质上；所述工作物质形状为单个柱体，最大径向尺寸在100nm到500nm之间；最大轴向尺寸在1000nm到2000nm之间，材料为贵金属。10.根据权利要求9所述的增强拉曼信号方法，其特征在于；使用单个工作物质作为拉曼基底附着到待测物质上之前，还包括以下步骤：制备含有所述工作物质的水溶液，在所述工作物质水溶液中加入去离子水进行稀释，直到所述工作物质水溶液中90％以上的工作物质相互分散、不成团；使用单个工作物质作为拉曼基底时，将所述工作物质水溶液涂滴到所述待测物质上。

技术总结
一种工作物质，能够在受激辐射作用下发射谐波，其形状为单个柱体，最大径向尺寸在100nm到500nm之间；最大轴向尺寸在1000nm到2000nm之间，材料为贵金属。此外，本发明还提供了一种谐波发射装置、谐波发射方法以及拉曼信号增强方法。与现有技术相比较，本发明的工作物质、谐波发射装置、谐波发射方法以及拉曼信号增强方法利用表面等离子体共振原理提高了受激辐射的强度。的强度。的强度。


技术研发人员：姜小芳 钱俊颖 高冠峰 林克晟
受保护的技术使用者：华南师范大学
技术研发日：2023.03.09
技术公布日：2023/9/22