装饰层的制备方法、装饰层和电子设备与流程

1.本技术属于装饰结构技术领域，具体涉及一种装饰层的制备方法、装饰层和电子设备。


背景技术：

2.随着消费者对手机功能和外观要求不断提升，当下手机后盖的外观特性也越来越受关注。传统手机后盖的材质大多为硬质塑料或金属材质，使得后盖的颜色过于单一。
3.相关技术中，通过在皮革上制备纹理，然后在皮革上喷涂防污层来制备装饰层。虽然在装饰层贴合在手机后盖上之后带来了一定的纹理效果，但由于防污层覆盖了皮革上的纹理，导致装饰层的纹理单一，降低了后盖的外观美感。


技术实现要素：

4.本技术旨在提供一种装饰层的制备方法、装饰层和电子设备，能够解决传统装饰层的纹理单一的问题。
5.为了解决上述技术问题，本技术是这样实现的：
6.第一方面，本技术实施例提出了一种装饰层的制备方法，包括：
7.在子模上丝印纹理层，以在所述纹理层上形成纹理，所述纹理层包括小分子聚氨酯；
8.在所述纹理层上贴合基材层，所述基材层包括大分子聚氨酯；
9.将贴合后的所述纹理层和所述基材层共同进行真空拓印；
10.将真空拓印后的所述纹理层和所述基材层一同烘烤，然后去除子模，以得到装饰层。
11.第二方面，本技术实施例提出了一种装饰层，所述装饰层采用第一方面所述的制备方法制得，所述装饰层包括：
12.纹理层，所述纹理层的一侧表面通过子模形成纹理；
13.基材层，所述基材层贴合于所述纹理层上远离所述纹理的一侧。
14.第三方面，本技术实施例提出了一种电子设备，所述电子设备包括壳体和第二方面所述的装饰层；
15.所述装饰层贴合于所述壳体上。
16.在本技术中，提供了一种装饰层的制备方法，所述制备方法包括：在子模上丝印纹理层，以在纹理层上形成纹理，所述纹理层包括小分子聚氨酯；在纹理层上贴合基材层，所述基材层包括大分子聚氨酯；将贴合后的纹理层和基材层共同进行真空拓印；将真空拓印后的纹理层和基材层一同烘烤，然后去除子模，以得到装饰层。装饰层在进行装饰时，将纹理层上的纹理直接外露，避免纹理被其他结构覆盖，保证装饰层直接展示的光哑纹理效果。
17.本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。
附图说明
18.本技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
19.图1是根据本技术实施例的一种装饰层的制备方法的流程图；
20.图2是根据本技术实施例的一种装饰层的制备方法的示意图；
21.图3是根据本技术实施例的一种装饰层的示意图。
22.附图标记：
23.1、纹理层；11、纹理；2、基材层。
具体实施方式
24.下面将详细描述本技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
25.本技术的说明书和权利要求书中的术语“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本技术的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。此外，说明书以及权利要求中“和/或”表示所连接对象的至少其中之一，字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。
26.在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
27.在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
28.下面结合图1－图3描述根据本技术实施例的装饰层的制备方法、装饰层和电子设备。
29.如图1和图2所示，根据本技术一些实施例提供了一种装饰层的制备方法，所述制备方法包括：
30.s101，在子模上丝印纹理层，以在所述纹理层上形成纹理；
31.s102，在所述纹理层上贴合基材层；
32.s103，将贴合后的所述纹理层和所述基材层共同进行真空拓印；
33.s104，将真空拓印后的所述纹理层和所述基材层一同烘烤，然后去除子模，以得到装饰层。
34.具体地，在步骤s101中，所述纹理层包括小分子聚氨酯(pu)，小分子聚氨酯的分子
量范围为500－8000；形成纹理层的纹理液可以为小分子pu液，在子模上面丝印一层纹理液来得到纹理层，丝印可以将纹理液均匀铺在子模上，使得纹理层完整复制子模上面的纹理，以在纹理层靠近子模的一侧形成纹理。
35.在步骤s102中，所述基材层包括大分子聚氨酯(pu)，大分子聚氨酯的分子量范围为10000－200000；基材层可以为包括大分子pu的皮革层，在纹理层远离子模的一侧贴上基材层并进行辊压，辊压压力的范围为1－20kgf。通过辊压可以初步将基材层与纹理层之间的气泡排走，并让纹理层与基材层之间充分接触和反应，保证基材层和纹理层之间的附着力。
36.在步骤s103中，将贴好基材层的纹理层和子模一起放入真空拓印机中并抽真空，以进一步减少丝印过程中在基材层的纹理层之间产生的气泡以及纹理层中因丝印工艺带来的气泡。
37.在步骤s104中，将抽完真空的基材层、纹理层和子模一同放入烤箱进行烘烤，以将基材层和纹理层固化；烘烤完成后去掉子模，便可以得到表面拓印纹理的装饰层。
38.本技术实施例提供的装饰层在进行装饰时，可以将基材层贴到被装饰物体的表面，然后将纹理层直接外露，也就是将纹理层上的纹理直接外露，避免纹理被其他结构覆盖，保证装饰层直接展示的光哑纹理效果；而基材层为平整的单层结构，在基材层上不做纹理可以保证装饰层的平整性和贴合效果。
39.并且由于纹理层已经可以实现耐脏污的特性以及爽滑的手感，可以不用再在纹理层上做涂布或者喷涂，保证了纹理层上光哑纹理的效果稳定性。
40.本技术实施例提供的装饰层的制备方法包括：在子模上丝印纹理层，以在纹理层上形成纹理；在纹理层上贴合基材层；将贴合后的纹理层和基材层共同进行真空拓印；将真空拓印后的纹理层和基材层一同烘烤，然后去除子模，以得到装饰层。装饰层在进行装饰时，将纹理层上的纹理直接外露，避免纹理被其他结构覆盖，保证了装饰层直接展示的光哑纹理效果。
41.而真空拓印一方面可以增加纹理层的厚度，满足纹理层上纹理的设置需求；另一方面可以减少丝印过程中在基材层的纹理层之间产生的气泡以及纹理层中因丝印工艺带来的气泡，保证基材层的纹理层之间的贴合强度以及装饰层的结构整体性。
42.可选地，所述子模采用镭雕、光刻或者机加工方法成型。
43.具体地，子模可以为通过uv胶制作纹理的pet子模，通过子模在纹理层上形成纹理时，可以避免传统光哑一体纹理在被防污层覆盖后变哑的问题，同时可以提高纹理层上纹理效果的多样性，丰富装饰层的外观表现力。
44.另外，与真空拓印工艺配合的子模的生产周期约为5－7天，生产费用约为1－3w，远低于传统纹理纸膜的加工周期和成本。
45.可选地，在所述纹理层的丝印工艺中，丝印网的目数范围为80－200目，丝印网的网距范围为3－5mm。
46.丝印网的目数和丝印网的网距与纹理层上的纹理深度相关。具体地，纹理层上的纹理深度越大，则丝印网的目数越小，以保证纹理层上纹理的设置需求。
47.可选地，所述纹理层的厚度范围为30－50μm，所述纹理层上的纹理深度范围为10－45μm。
48.具体地，通过真空拓印工艺得到的装饰层，不仅能够增加纹理层的厚度，还可以保证纹理层耐脏和防污的效果。而基材层可以为pu基材层，基材层不带纹理，同时基材层的厚度约为400μm，以保证装饰层的结构完整性和贴合效果。
49.在丝印网的目数大小和纹理层上的纹理深度进行匹配时，对于20μm以下纹理深度的纹理层，可以用150－200目网版的丝印网，对于20－40μm纹理深度的纹理层，可以用100－150目网版的丝印网，对于40μm以上纹理深度的纹理层，可以用80－100目网版的丝印网。
50.另外，在子模上丝印纹理层时，丝印机的胶刮硬度越软，下油量越大，则匹配的纹理深度也就越深；本技术装饰层的制备方法中的胶刮硬度范围可以为60－80a，比如选择65a、70a或者75a的胶刮硬度。
51.刮刀的安装角度越大，下油量越大，匹配的纹理深度也就越深；本技术装饰层的制备方法中的刮刀的安装角度范围可以为20－30
°
，比如选择刮刀的安装角度为22
°
、25
°
或者28
°
的刮刀安装角度。
52.在子模上丝印纹理层时，丝印的印刷速度越慢，下油量越大，匹配的纹理深度也就越深；本技术装饰层的制备方法中的印刷速度范围可以为200－400mm/s。
53.可选地，在所述真空拓印工艺中，真空度范围为－90kpa至－101kpa，抽真空时间范围为10－60s，抽真空温度范围为30－80
°
。
54.具体地，在真空拓印工艺中，真空度可以在－90kpa至－101kpa的范围内，真空拓印可以将基材层与纹理层之间的气泡以及纹理层中因丝印工艺带来的气泡抽走，从而保证装饰层的外观效果；同时，30－80度抽真空温度的提升可以提高基材层与纹理层中气泡消除的速度，比如选择50
°
、60
°
或者70
°
的真空温度。
55.可选地，在所述烘烤工艺中，烘烤温度范围为70
°
－110
°
，烘烤时间范围为1h－3h。
56.具体地，在对纹理层和基材层一同烘烤的过程中，可以将纹理层固化并且促进纹理层与基材层之间的反应，从而保证纹理层和基材层之间的附着力，提高基材层的可靠性。
57.可选地，形成所述纹理层的纹理液包括固体组分和稀释剂；
58.按重量份数计，所述固体组分的重量份数范围为60－65，所述稀释剂的重量份数范围为35－40。
59.具体地，稀释剂的重量份数范围为35－40的情况下，也就是可以通过降低稀释剂的比例来增加固体组分黏度，降低固体组分中稀释剂的挥发速度，进而能够增加纹理层的厚度，便于在纹理层上形成纹理。
60.可选地，所述稀释剂包括乙二醇丁醚和二价酸酯中的一种或者两种的组合。
61.具体地，为了保证纹理液的黏度在丝印过程中保持稳定，可以采用高沸点稀释剂来降低稀释剂的挥发速度，比如采用乙二醇丁醚和二价酸酯(dbe)等高沸点酯类溶剂来作为稀释剂。
62.可选地，所述固体组分包括主树脂；
63.所述主树脂包括嫁接有氟硅官能团和氟碳官能团的聚酯类多元醇以及包含异氰酸酯链段的聚酯类多元醇中的一种或者两种组合。
64.具体地，聚酯类多元醇可以为醇酸系聚酯多元醇、丙烯酸系聚酯多元醇或者混合二元酸聚酯多元醇。为了提高纹理层的触感和肉感，可以在聚酯类多元醇的上面嫁接氟硅
官能团(－si－fn)和氟碳官能团(－c－fn)，以增加纹理层的触感；同时在聚酯类多元醇上面可以引入异氰酸酯(－n＝c＝o)链段，该异氰酸酯链段会改善聚酯类多元醇的结晶性，从而控制纹理层的硬度以及耐化性能。
65.另外，所述固体组分还包括固化剂，具体可以包括脂肪胺或者聚酰胺固化剂。
66.可选地，所述固体组分还包括消泡剂；
67.所述消泡剂在所述固体组分中的质量百分比范围为0.2％－1％。
68.具体地，由于丝印过程中纹理层经过丝印网板时会产生气泡，因此为了改善丝印过程中产生的气泡，可以在纹理液中增加有机硅改性消泡剂、聚合物消泡剂或聚乙烯醇消泡剂，有机硅改性消泡剂主要成分为改性的聚二甲基硅烷，聚二甲基硅烷的分子结构如下所示：
[0069][0070]
由于有机硅改性消泡剂含硅基团，使得有机硅改性消泡剂具备较强疏水性，可以降低纹理层的表面张力，使得纹理层中的气泡膜厚度变薄，从而将纹理层中的气泡破坏，以达到消泡的作用。
[0071]
可选地，所述固体组分还包括催干剂；
[0072]
所述催干剂在所述固体组分中的质量百分比范围为0.3％－1％。
[0073]
具体地，为了保证真空拓印工艺后的所述纹理层和所述基材层快速烘干，可以在纹理液中增加金属羧酸盐类的催干剂。
[0074]
在一种实施例中，拓印所用的纹理液的固体组分与稀释剂的重量比为2：1，固体组分包括主树脂、固化剂、消泡剂和催干剂，其中主树脂、固化剂、消泡剂和催干剂的重量配比为76.3：22.9：0.5：0.3，将上述成分按照此比例分别与稀释剂配好，然后混合并用搅拌机搅拌均匀即可得到纹理液，搅拌速度范围为1000－1500r/min，搅拌时间为1－2h。
[0075]
参见图3，本技术实施例提供了一种装饰层，采用所述的装饰层的制备方法制得，所述装饰层包括：
[0076]
纹理层1，所述纹理层1的一侧表面通过子模形成纹理11；
[0077]
基材层2，所述基材层2贴合于所述纹理层1上远离所述纹理11的一侧。
[0078]
具体地，形成纹理层1的纹理液可以为小分子pu液，具体包括主树脂，固化剂、消泡剂、催干剂和稀释剂，稀释剂可以先分别加入到各组分中进行组分的稀释，在混合各组分液体以得到纹理液。基材层2可以为包括大分子pu的皮革层。
[0079]
所述装饰层在进行装饰时，将纹理层1上的纹理11直接外露，可以保证所述装饰层直接展示的光哑纹理效果。
[0080]
本技术实施例提供了一种电子设备，所述电子设备包括壳体和所述的装饰层；
[0081]
所述装饰层贴合于所述壳体上。
[0082]
具体地，所述装饰层在贴合于所述壳体上时，可以包括预贴合、热压和冷压三个步骤。
[0083]
预贴合：在贴合温度160
±
10℃，贴合时间5
±
3s，贴合气压0.4
±
0.2mpa的条件下，使用热压机预先激活基材层背面平面区域的热熔胶，确保壳体与基材层贴合对位的准确
性；
[0084]
热压：在热压温度165
±
10℃，热压时间30
±
5s，热压压力1.1
±
0.5kg的条件下，使用热压机将基材层背面热熔胶完全激活，使基材层与壳体贴合更牢固，保证基材层的粘结力；
[0085]
冷压：在冷压压力0.8
±
0.3torr，冷压时间20
±
5s的条件下，使用冷压机将基材层背面激活的热熔胶冷却定型，保证装饰层表面的平整度。
[0086]
上述装饰层可以用在笔记本、平板或者手表表带等有皮革材料的电子设备上面，还可以用于汽车等内饰皮革的表面，或者鞋包等传统皮革的表面。
[0087]
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本技术的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
[0088]
尽管已经示出和描述了本技术的实施例，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本技术的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本技术的范围由权利要求及其等同物限定。

技术特征：
1.一种装饰层的制备方法，其特征在于，包括：在子模上丝印纹理层，以在所述纹理层上形成纹理，所述纹理层包括小分子聚氨酯；在所述纹理层上贴合基材层，所述基材层包括大分子聚氨酯；将贴合后的所述纹理层和所述基材层共同进行真空拓印；将真空拓印后的所述纹理层和所述基材层一同烘烤，然后去除子模，以得到装饰层。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述子模采用镭雕、光刻或者机加工方法成型。3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述纹理层的丝印工艺中，丝印网的目数范围为80－200目，丝印网的网距范围为3－5mm。4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述纹理层的厚度范围为30－50μm，所述纹理层上的纹理深度范围为10－45μm。5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述真空拓印工艺中，真空度范围为－90kpa至－101kpa，抽真空时间范围为10－60s，抽真空温度范围为30－80
°
。6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述烘烤工艺中，烘烤温度范围为70
°
－110
°
，烘烤时间范围为1h－3h。7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，形成所述纹理层的纹理液包括固体组分和稀释剂；按重量份数计，所述固体组分的重量份数范围为60－65，所述稀释剂的重量份数范围为35－40。8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述稀释剂包括乙二醇丁醚和二价酸酯中的一种或者两种的组合。9.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述固体组分包括主树脂；所述主树脂包括嫁接有氟硅官能团和氟碳官能团的聚酯类多元醇以及包含异氰酸酯链段的聚酯类多元醇中的一种或者两种组合。10.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述固体组分还包括消泡剂；所述消泡剂在所述固体组分中的质量百分比范围为0.2％－1％。11.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述固体组分还包括催干剂；所述催干剂在所述固体组分中的质量百分比范围为0.3％－1％。12.一种装饰层，采用权利要求1－11任一项所述的制备方法制得，其特征在于，包括：纹理层(1)，所述纹理层(1)的一侧表面通过子模形成纹理(11)；基材层(2)，所述基材层(2)贴合于所述纹理层(1)上远离所述纹理(11)的一侧。13.一种电子设备，其特征在于，包括壳体和权利要求12所述的装饰层；所述装饰层贴合于所述壳体上。

技术总结
本申请实施例提供了一种装饰层的制备方法、装饰层和电子设备，所述制备方法包括：在子模上丝印纹理层，以在纹理层上形成纹理；在纹理层上贴合基材层；将贴合后的纹理层和基材层共同进行真空拓印；将真空拓印后的纹理层和基材层一同烘烤，然后去除子模，以得到装饰层。装饰层在进行装饰时，将纹理层上的纹理直接外露，避免纹理被其他结构覆盖，保证装饰层直接展示的光哑纹理效果。展示的光哑纹理效果。展示的光哑纹理效果。


技术研发人员：刘思颖 黄武 陈雪辉 吴宇
受保护的技术使用者：维沃移动通信有限公司
技术研发日：2023.06.07
技术公布日：2023/9/20