光刻机的光罩吸附平台的优化方法与流程

1.本发明实施例涉及光刻机技术领域，尤其涉及一种光刻机的光罩吸附平台的优化方法。


背景技术：

2.目前，光罩通常放置于光刻机的光罩吸附平台上实施光刻，光罩吸附平台的光罩承载区域的吸风孔通过吸风产生负压而使光罩固定。其中，现有的光罩吸附平台通常是采用大理石或铝合金等硬质材料制成，为防止光罩直接放置于光罩吸附平台造成损伤，降低生产良率，通常在光罩吸附平台的光罩承载区贴上一层净化纸或玻纤纸。但是，净化纸或玻纤纸的表面清洁度通常相对较低，容易污染光罩，且贴附到光罩吸附平台的光罩承载区后无法平整地紧合在光罩吸附平台的表面，造成光罩放置于其上不平整，最终影响光刻精度。


技术实现要素：

3.本发明实施例要解决的技术问题在于，提供一种光刻机的光罩吸附平台的优化方法，防止光罩损伤，保证光罩光刻精度。
4.为了解决上述技术问题，本发明实施例提供以下技术方案：一种光刻机的光罩吸附平台的优化方法，包括以下步骤：对光刻机的光罩吸附平台进行初次清洁以去除所述光罩吸附平台的光罩承载区域的脏污物；在完成初次清洁的所述光罩承载区域贴附防静电薄膜，并去除所述防静电薄膜与所述光罩承载区域之间的气泡；在所述防静电薄膜对应所述光罩承载区域的吸风孔的位置对应开孔；以及对开孔完成的所述防静电薄膜表面进行二次清洁以去除开孔后的残留物。
5.进一步的，采用滚动棒在所述防静电薄膜的表面滚压以去除所述防静电薄膜与光罩承载区域之间的气泡。
6.进一步的，所述初次清洁包括：采用无尘布蘸取清洁液擦拭所述光罩承载区域。
7.进一步的，所述初次清洁还包括：采用射灯检查擦拭后的所述光罩承载区域是否存在脏污物，若存在则再次擦拭。
8.进一步的，所述二次清洁为采用无尘布蘸取清洁液擦拭所述防静电薄膜的表面。
9.进一步的，所述清洁液为无水乙醇。
10.进一步的，所述防静电薄膜的厚度小于或等于50微米。
11.采用上述技术方案后，本发明实施例至少具有如下有益效果：本发明实施例通过先对光刻机的光罩吸附平台进行初次清洁，从而去除所述光罩吸附平台的光罩承载区域可能存在的脏污物，提高光罩承载区域的清洁度；然后在光罩承载区域贴附防静电薄膜，利用防静电薄膜与光罩实现软接触，从而避免材质相对较硬的光罩吸附平台直接与光罩接触而划伤光罩；然后，通过去除所述防静电薄膜与所述光罩承载区域之间的气泡，使得防静电薄膜能平整的贴在光罩承载区域，避免贴附防静电薄膜后的光罩承载区域凹凸不平影响光罩
的光刻精度；接着，在所述防静电薄膜对应所述光罩承载区域的吸风孔的位置对应开孔，保证光罩吸附平台能通过对应吸风孔的开孔对光罩的吸附定位；且还对开孔后的所述防静电薄膜表面进行二次清洁，从而去除开孔后的残留物，避免残留物造成防静电薄膜表面凹凸不平，保证光罩光刻精度。
附图说明
12.图1为本发明光刻机的光罩吸附平台的优化方法一个可选实施例的步骤流程图。
13.图2为本发明光刻机的光罩吸附平台的优化方法一个可选实施例光罩承载区域贴附防静电薄膜后的剖面示意图。
14.图3为本发明光刻机的光罩吸附平台的优化方法一个可选实施例防静电薄膜开孔并承载光罩的剖面示意图。
15.图4为本发明光刻机的光罩吸附平台的优化方法一个可选实施例在光罩承载区域贴附防静电薄膜和去除气泡的原理示意图。
具体实施方式
16.下面结合附图和具体实施例对本技术作进一步详细说明。应当理解，以下的示意性实施例及说明仅用来解释本发明，并不作为对本发明的限定，而且，在不冲突的情况下，本技术中的实施例及实施例中的特征可以相互结合。
17.如图1所示，本发明一个可选实施例提供一种光刻机的光罩吸附平台的优化方法，包括以下步骤：s1：对光刻机的光罩吸附平台1进行初次清洁以去除所述光罩吸附平台1的光罩承载区域10的脏污物；s2：在完成初次清洁的所述光罩承载区域10贴附防静电薄膜3，如图2所示，并去除所述防静电薄膜3与所述光罩承载区域10之间的气泡；s3：在所述防静电薄膜3对应所述光罩承载区域10的吸风孔101的位置对应开孔，如图3所示；以及s4：对开孔完成的所述防静电薄膜3表面进行二次清洁以去除开孔后的残留物。
18.本发明实施例通过先对光刻机的光罩吸附平台1进行初次清洁，从而去除所述光罩吸附平台1的光罩承载区域10的脏污物，提高光罩承载区域10的清洁度；然后在光罩承载区域10贴附防静电薄膜3，利用防静电薄膜3与光罩5实现软接触，从而避免材质相对较硬的光罩吸附平台1直接与光罩5接触而划伤光罩；然后，通过去除所述防静电薄膜3与所述光罩承载区域10之间的气泡，使得防静电薄膜3能平整的贴在光罩承载区域10，避免贴附防静电薄膜3后的光罩承载区域10凹凸不平影响光罩5的光刻精度；接着，在所述防静电薄膜3对应所述光罩承载区域10的吸风孔101的位置对应开孔，保证光罩吸附平台1能通过对应吸风孔101的开孔对光罩5的吸附定位；且还对开孔后的所述防静电薄膜3表面进行二次清洁，从而去除开孔后的残留物，避免残留物造成防静电薄膜3表面凹凸不平，保证光罩光刻精度。
19.在本发明又一个可选实施例中，采用滚动棒7在所述防静电薄膜3的表面滚压以去除所述防静电薄膜3与光罩承载区域10之间的气泡。本实施例中，借助滚动棒7在防静电薄膜3的表面滚压，可快速且方便的将防静电薄膜3与光罩承载区域10之间的气泡去除，方便
人工操作。如图4所示，可从光罩承载区域10的一侧开始逐渐将防静电薄膜3贴在光罩承载区域10上，一边贴下防静电薄膜3，一边采用滚动棒7沿着贴合方向滚压已经贴下的防静电薄膜3，从而驱除防静电薄膜3与光罩承载区域10，最终完成防静电薄膜3的贴合；当然，可以理解的是，也可以先将防静电薄膜3贴在光罩承载区域10后，再采用滚动棒7进行滚压去除气泡；又或者采用刮板刮除气泡。
20.在本发明再一个可选实施例中，所述初次清洁包括：采用无尘布蘸取清洁液擦拭所述光罩承载区域10。本实施例中，采用无尘布蘸取清洁液擦拭所述光罩承载区域10，能方便人工操作擦除光罩承载区域10的脏污物，清洁效率高。
21.在本发明另一个可选实施例中，所述初次清洁还包括：采用射灯检查擦拭后的所述光罩承载区域10是否存在脏污物，若存在则再次擦拭。本实施例中，在擦拭完成后，还采用射灯检查是否仍然存在脏污物，从而避免脏污物的残留顶伤或划伤光罩5。
22.在本发明一个可选实施例中，所述二次清洁为采用无尘布蘸取清洁液擦拭所述防静电薄膜3的表面。本实施例中，采用无尘布蘸取清洁液擦拭所述光罩承载区域10，能方便人工操作擦除防静电薄膜3的表面开孔后的残留物，清洁效率高。
23.在本发明又一个可选实施例中，所述清洁液为无水乙醇。本实施例中，无水乙醇作为清洁液，能有效清除各种物质，避免脏污物遇水膨胀，且其具有较好的挥发性，不会残留在光罩吸附平台1或者防静电薄膜3的表面。
24.在本发明再一个可选实施例中，所述防静电薄膜3的厚度小于或等于50微米。本实施例中，防静电薄膜3采用如同上述的厚度尺寸，取材方便，且贴附到光罩吸附平台1后，不影响光刻机的正常光刻作业，能保证光罩5与光罩吸附平台1的柔性接触，保护光罩5。
25.上面结合附图对本发明的实施例进行了描述，但是本发明并不局限于上述的具体实施方式，上述的具体实施方式仅仅是示意性的，而不是限制性的，本领域的普通技术人员在本发明的启示下，在不脱离本发明宗旨和权利要求所保护的范围情况下，还可做出很多形式，这些均属于本发明的保护范围之内。

技术特征：
1.一种光刻机的光罩吸附平台的优化方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：对光刻机的光罩吸附平台进行初次清洁以去除所述光罩吸附平台的光罩承载区域的脏污物；在完成初次清洁的所述光罩承载区域贴附防静电薄膜，并去除所述防静电薄膜与所述光罩承载区域之间的气泡；在所述防静电薄膜对应所述光罩承载区域的吸风孔的位置对应开孔；以及对开孔完成的所述防静电薄膜表面进行二次清洁以去除开孔后的残留物。2.如权利要求1所述的光刻机的光罩吸附平台的优化方法，其特征在于，采用滚动棒在所述防静电薄膜的表面滚压以去除所述防静电薄膜与光罩承载区域之间的气泡。3.如权利要求1所述的光刻机的光罩吸附平台的优化方法，其特征在于，所述初次清洁包括：采用无尘布蘸取清洁液擦拭所述光罩承载区域。4.如权利要求3所述的光刻机的光罩吸附平台的优化方法，其特征在于，所述初次清洁还包括：采用射灯检查擦拭后的所述光罩承载区域是否存在脏污物，若存在则再次擦拭。5.如权利要求1所述的光刻机的光罩吸附平台的优化方法，其特征在于，所述二次清洁为采用无尘布蘸取清洁液擦拭所述防静电薄膜的表面。6.如权利要求3或5所述的光刻机的光罩吸附平台的优化方法，其特征在于，所述清洁液为无水乙醇。7.如权利要求1所述的光刻机的光罩吸附平台的优化方法，其特征在于，所述防静电薄膜的厚度小于或等于50微米。

技术总结
本发明实施例提供一种光刻机的光罩吸附平台的优化方法，包括以下步骤：对光刻机的光罩吸附平台进行初次清洁以去除所述光罩吸附平台的光罩承载区域的脏污物；在完成初次清洁的所述光罩承载区域贴附防静电薄膜，并去除所述防静电薄膜与所述光罩承载区域之间的气泡；在所述防静电薄膜对应所述光罩承载区域的吸风孔的位置对应开孔；以及对开孔完成的所述防静电薄膜表面进行二次清洁以去除开孔后的残留物。本实施例通过在光罩吸附平台的光罩承载区域贴附防静电薄膜，使得光罩与光罩吸附平台柔性接触，从而防止光罩损伤，保证光罩光刻精度。度。度。


技术研发人员：王小光
受保护的技术使用者：南京科利德光电材料有限公司
技术研发日：2023.06.28
技术公布日：2023/9/20