一种光刻机工件台的内外扰动在线观测方法及相关装置与流程

1.本技术涉及光刻机技术领域，特别涉及一种光刻机工件台的内外扰动在线观测方法；还涉及一种光刻机工件台的内外扰动在线观测装置、设备以及计算机可读存储介质。


背景技术：

2.光刻是芯片制造最为关键的环节。光刻设备结构复杂，涉及光、机、电、气等领域，在光刻机工件台运动过程中所产生的扰动将严重制约着光刻机性能的提升。精确估计内外部扰动，自适应地对这些扰动进行补偿，以提高控制系统的干扰抑制能力，具有重要的研究价值与工程应用意义。然而，现有扰动观测方案存在测量带宽窄、精度低、适应能力不足等问题。因此，提供一种能够在线精确估计内外扰动的技术方案已成为本领域技术人员亟待解决的技术问题。


技术实现要素：

3.本技术的目的是提供一种光刻机工件台的内外扰动在线观测方法，能够在线精确估计光刻机工件台的内外扰动。本技术的另一个目的是提供一种光刻机工件台的内外扰动在线观测装置、设备以及计算机可读存储介质，均具有上述技术效果。
4.为解决上述技术问题，本技术提供了一种光刻机工件台的内外扰动在线观测方法，包括：
5.根据光刻机工件台的二阶抽象模型，确定非线性扰动观测器的数学模型；
6.获取所述光刻机工件台的实际位移与前馈-反馈控制器的输出信号；
7.根据所述数学模型、所述实际位移与所述输出信号，计算得到光刻机工件台的总扰动估计值。
8.可选的，所述非线性扰动观测器的数学模型为可选的，所述非线性扰动观测器的数学模型为可选的，所述非线性扰动观测器的数学模型为为所述总扰动估计值，c为所述非线性扰动观测器的增益，m为所述光刻机工件台的等效质量，λc为阻尼，λk为弹性系数，k
p,motor
为比例增益，u
fb
为所述前馈-反馈控制器的输出信号，z为中间变量，x1为所述光刻机工件台的实际位移，x2为x1的一阶导数。
9.可选的，所述前馈-反馈控制器的输出信号为反馈环节根据输出的信号；
10.u
fb
为所述输出信号，k
p,pos
为位置环的比例增益，k
p,vel
为速度环的比例增益，k
i,vel
为速度环的积分增益，ε
*
(k)＝ε(k)+u
ff
(k)，ε为所述光刻机工件台位移的实际误差，u
ff
为前馈环节的前馈输出，v为所述光刻机工件台的移动速度，k为第k时刻。
11.可选的，当所述光刻机工件台处于移动阶段时，所述前馈环节根据
得到所述前馈输出；
12.u
ff
为前馈环节的前馈输出，i为迭代次数，k为第k时刻，ε为所述光刻机工件台位移的实际误差，ξ为迭代开关因子，ρ是步长因子，β为惯性系数，λ为系数，为时变参数。
13.可选的，当所述光刻机工件台处于整定阶段时，所述前馈环节将所述光刻机工件台的实际误差与预设增益相乘得到所述前馈输出。
14.可选的，还包括：
15.根据对所述光刻机工件台进行扫频试验得到的波特图曲线，确定所述二阶抽象模型的参数；所述参数包括阻尼与弹性系数。
16.可选的，所述根据对所述光刻机工件台进行扫频试验得到的波特图曲线，确定所述二阶抽象模型的参数包括：
17.采用支持向量回归模型对所述波特图曲线进行非线性拟合得到所述光刻机工件台的传递函数，并根据所述传递函数确定所述二阶抽象模型的参数。
18.为解决上述技术问题，本技术还提供了一种光刻机工件台的内外扰动在线观测装置，包括：
19.确定模块，用于根据光刻机工件台的二阶抽象模型，确定非线性扰动观测器的数学模型；
20.获取模块，用于获取所述光刻机工件台的实际位移与前馈-反馈控制器的输出信号；
21.计算模块，用于根据所述数学模型、所述实际位移与所述输出信号，计算得到光刻机工件台的总扰动估计值。
22.为解决上述技术问题，本技术还提供了一种光刻机工件台的内外扰动在线观测设备，包括：
23.存储器，用于存储计算机程序；
24.处理器，用于执行所述计算机程序时实现如上所述的光刻机工件台的内外扰动在线观测方法的步骤。
25.为解决上述技术问题，本技术还提供了一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现如上所述的光刻机工件台的内外扰动在线观测方法的步骤。
26.本技术所提供的光刻机工件台的内外扰动在线观测方法，包括：根据光刻机工件台的二阶抽象模型，确定非线性扰动观测器的数学模型；获取所述光刻机工件台的实际位移与前馈-反馈控制器的输出信号；根据所述数学模型、所述实际位移与所述输出信号，计算得到光刻机工件台的总扰动估计值。
27.可见，本技术所提供的光刻机工件台的内外扰动在线观测方法，对光刻机工件台进行数学建模，并根据光刻机工件台的二阶抽象模型确定非线性扰动观测器的数学模型，在此基础上，获取光刻机工件台的实际位移与前馈-反馈控制器的输出信号，以光刻机工件台的实际位移与前馈-反馈控制器的输出信号作为变量，基于非线性扰动观测器的数学模型，得到光刻机工件台的总扰动，实现光刻机工件台内外扰动的在线精确估计。
28.本技术所提供的光刻机工件台的内外扰动在线观测装置、设备以及计算机可读存
储介质均具有上述技术效果。
附图说明
29.为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对现有技术和实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
30.图1为本技术实施例所提供的一种光刻机工件台的内外扰动在线观测方法的流程示意图；
31.图2为本技术实施例所提供的一种光刻机工件台微运动学的二阶抽象模型的示意图；
32.图3为本技术实施例所提供的一种光刻机工件台高精密运动控制框图；
33.图4为本技术实施例所提供的一种piv控制器的示意图；
34.图5为本技术实施例所提供的一种前馈补偿控制器的示意图；
35.图6为本技术实施例所提供的一种光刻机工件台的内外扰动在线观测装置的示意图；
36.图7为本技术实施例所提供的一种光刻机工件台的内外扰动在线观测设备的示意图。
具体实施方式
37.本技术的核心是提供一种光刻机工件台的内外扰动在线观测方法，能够在线精确估计光刻机工件台的内外扰动。本技术的另一个核心是提供一种光刻机工件台的内外扰动在线观测装置、设备以及计算机可读存储介质，均具有上述技术效果。
38.为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
39.请参考图1，图1为本技术实施例所提供的一种光刻机工件台的内外扰动在线观测方法的流程示意图，参考图1所示，该方法包括：
40.s101：根据光刻机工件台的二阶抽象模型，确定非线性扰动观测器的数学模型；
41.光刻机工件台微运动学的二阶抽象模型可参考图2所示，该二阶抽象模型在时域上的数学描述可表示为：
[0042][0043]
式中，m是光刻机工件台的等效质量，λc是阻尼，λk是弹性系数，f(t)是电机驱动力。
[0044]
光刻机工件台的高精密运动控制流程可参考图3所示，对于其中的电机驱动器，可以将其简化为一个比例环节，由此：
[0045]
f(t)＝k
p,motor
u(t)；式中，k
p,motor
是比例增益，是电机驱动器的控制输入，u
fb
是前馈-反馈控制器的输出信号，d是需要估计的总扰动。
[0046]
令x1(t)＝y(t)，利用状态空间方程来表示光刻机工件台微运动学的二阶抽象模型，得到：
[0047][0048]
根据上述二阶抽象模型，确定非线性扰动观测器的数学模型。
[0049]
在一些实施例中，所述非线性扰动观测器的数学模型为在一些实施例中，所述非线性扰动观测器的数学模型为在一些实施例中，所述非线性扰动观测器的数学模型为为所述总扰动估计值，c为所述非线性扰动观测器的增益，m为所述光刻机工件台的等效质量，λc为阻尼，λk为弹性系数，k
p,motor
为比例增益，u
fb
为所述前馈-反馈控制器的输出信号，z为中间变量，x1为所述光刻机工件台的实际位移，x2为x1的一阶导数。
[0050]
具体而言，可将光刻机工件台微运动系统视为仿射非线性系统，则满足：
[0051][0052]
式中，
[0053]
定义中间变量则非线性扰动观测器的数学描述为：
[0054][0055]
式中，是总扰动的估计值，是非线性扰动观测器的增益，其中p(x)是设计参数。
[0056]
选择p(x)＝cx2，则非线性扰动观测器的增益满足ld(x)＝c。
[0057]
从而非线性扰动观测器的数学模型可表示为：
[0058][0059][0060]
s102：获取所述光刻机工件台的实际位移与前馈-反馈控制器的输出信号；
[0061]
在一些实施例中，所述前馈-反馈控制器的输出信号为反馈环节根据输出的信号；
[0062]ufb
为所述输出信号，k
p,pos
为位置环的比例增益，k
p,vel
为速度环的比例增益，k
i,vel
为速度环的积分增益，ε
*
(k)＝ε(k)+u
ff
(k)，ε为所述光刻机工件台位移的实际误差，u
ff
为前馈环节的前馈输出，v为所述光刻机工件台的移动速度，k为第k时刻。
[0063]
参考图3所示，本实施例中，反馈环节的输出即为前馈-反馈控制器的输出。前馈-反馈控制器包括前馈环节与反馈环节。前馈环节的输出与光刻机工件台位移的实际误差(光刻机工件台的期望位移与实际位移的差值)的和作为反馈环节的一个输入，反馈环节的
另一个输入为光刻机工件台的移动速度。
[0064]
参考图4所示，本实施例中反馈环节采用piv控制器。由于电流环集成在电机驱动器中，因此piv控制器仅考虑位置环与速度环，piv控制器的控制律如下：
[0065][0066]
式中，ε
*
(k)＝ε(k)+u
ff
(k)，k
p,pos
是位置环的比例增益，k
p,vel
是速度环的比例增益，k
i,vel
是速度环的积分增益，u
fb
是反馈环节的输出，是移动速度，y是光刻机工件台的实际位移，k表示第k时刻，ts是采样周期，f{
·
}表示毛刺处理。
[0067]
反馈环节基于上述控制律得到反馈环节的输出。
[0068]
在一些实施例中，当所述光刻机工件台处于移动阶段时，所述前馈环节根据得到所述前馈输出；
[0069]uff
为前馈环节的前馈输出，i为迭代次数，k为第k时刻，ε为所述光刻机工件台位移的实际误差，ξ为迭代开关因子，ρ是步长因子，β为惯性系数，λ为系数，为时变参数。
[0070]
当所述光刻机工件台处于整定阶段时，所述前馈环节将所述光刻机工件台的实际误差与预设增益相乘得到所述前馈输出。
[0071]
参考图5所示，本实施例基于数据驱动的迭代学习与动态线性化处理，构建前馈环节，将光刻机工件台、电机驱动器、反馈环节等视为一个广义受控对象，前馈环节中前馈补偿控制器的控制律如下：
[0072][0073]
式中，i是迭代次数，k是离散时间，u
ff
(k,i)是第k时刻第i次迭代输入，q表示鲁棒滤波器，l表示学习律，ε(k,i)＝y
des
(k,i)-y(k,i)表示第i次实际误差，y是光刻机工件台的实际位移，y
des
是光刻机工件台的期望位移，ξ是迭代开关因子，当误差收敛至设计范围内时ξ＝0，反之ξ＝1，ρ是步长因子且满足ρ∈[0,1]，β是惯性系数且满足β∈(0,1]，λ是用来限制u
ff
(k,i)沿着迭代轴方向变化率的系数，是与迭代相关的时变参数。时变参数即图5中的伪偏倒数可以通过bp神经网络估计得到。
[0074]
时变参数的作用是将重复运行的非线性离散系统转化为沿迭代轴方向的动态线性化模型，也就是随着迭代次数增加，使得无限逼近于δy(k,i)，其中δu
ff
(k,i)＝u
ff
(k,i)-u
ff
(k,i-1)，δy(k,i)＝y(k,i)-y(k,i-1)。
[0075]
当光刻机工件台处于移动阶段时，前馈环节基于上述控制律得到前馈环节的输出。当光刻机工件台处于整定阶段时，前馈环节切换成微小的增益系数，即增益g接近于0或等于0。前馈环节将光刻机工件台的实际误差与该增益系数相乘得到前馈输出。
[0076]
s103：根据所述数学模型、所述实际位移与所述输出信号，计算得到光刻机工件台的总扰动估计值。
[0077]
在获取光刻机工件台的实际位移以及前馈-反馈控制器的输出信号的基础上，可
将光刻机工件台的实际位移以及前馈-反馈控制器的输出信号代入非线性扰动观测器的数学模型，计算得到光刻机工件台的总扰动估计值。
[0078]
在上述实施例的基础上，作为一种具体的实施方式，还包括：
[0079]
根据对所述光刻机工件台进行扫频试验得到的波特图曲线，确定所述二阶抽象模型的参数；所述参数包括阻尼与弹性系数。
[0080]
对光刻机工件台进行扫频试验，具体可采用0.01-200hz范围内的chirp信号作为输入对光刻机工件台进行激励，得到光刻机工件台的开环波特图。进而根据开环波特图确定所述二阶抽象模型中的阻尼与弹性系数。
[0081]
其中，所述根据对所述光刻机工件台进行扫频试验得到的波特图曲线，确定所述二阶抽象模型的参数可以包括：
[0082]
采用支持向量回归模型对所述波特图曲线进行非线性拟合得到所述光刻机工件台的传递函数，并根据所述传递函数确定所述二阶抽象模型的参数。
[0083]
具体而言，光刻机工件台的二阶抽象模型的频域可表示为：
[0084]
ms2y(s)+λcsy(s)+λky(s)＝k
p,motor
u(s)；
[0085]
则光刻机工件台的传递函数满足：
[0086][0087]
重复扫频试验，采用支持向量回归模型对波特图曲线进行非线性拟合，得到具体的传递函数，进而确定出二阶抽象模型中阻尼与弹性系数。
[0088]
综上所述，本技术所提供的光刻机工件台的内外扰动在线观测方法，对光刻机工件台进行数学建模，并根据光刻机工件台的二阶抽象模型确定非线性扰动观测器的数学模型，在此基础上，获取光刻机工件台的实际位移与前馈-反馈控制器的输出信号，以光刻机工件台的实际位移与前馈-反馈控制器的输出信号作为变量，基于非线性扰动观测器的数学模型，得到光刻机工件台的总扰动，实现光刻机工件台内外扰动的在线精确估计。
[0089]
本技术还提供了一种光刻机工件台的内外扰动在线观测装置，下文描述的该装置可以与上文描述的方法相互对应参照。请参考图6，图6为本技术实施例所提供的一种光刻机工件台的内外扰动在线观测装置的示意图，结合图6所示，该装置包括：
[0090]
确定模块10，用于根据光刻机工件台的二阶抽象模型，确定非线性扰动观测器的数学模型；
[0091]
获取模块20，用于获取所述光刻机工件台的实际位移与前馈-反馈控制器的输出信号；
[0092]
计算模块30，用于根据所述数学模型、所述实际位移与所述输出信号，计算得到光刻机工件台的总扰动估计值。
[0093]
在上述实施例的基础上，作为一种具体的实施方式，所述非线性扰动观测器的数学模型为学模型为为所述总扰动估计值，c为所述非线性扰动观测器的增益，m为所述光刻机工件台的等效质量，λc为阻尼，λk为弹性系数，k
p,motor
为比例增益，u
fb
为所述前馈-反馈控制器的输出信号，z为中间变量，x1为所述光刻机工件台的实际位移，x2为x1的一阶导数。
[0094]
在上述实施例的基础上，作为一种具体的实施方式，所述前馈-反馈控制器的输出信号为反馈环节根据输出的信号；
[0095]ufb
为所述输出信号，k
p,pos
为位置环的比例增益，k
p,vel
为速度环的比例增益，k
i,vel
为速度环的积分增益，ε
*
(k)＝ε(k)+u
ff
(k)，ε为所述光刻机工件台位移的实际误差，u
ff
为前馈环节的前馈输出，v为所述光刻机工件台的移动速度，k为第k时刻。
[0096]
在上述实施例的基础上，作为一种具体的实施方式，当所述光刻机工件台处于移动阶段时，所述前馈环节根据得到所述前馈输出；
[0097]uff
为前馈环节的前馈输出，i为迭代次数，k为第k时刻，ε为所述光刻机工件台位移的实际误差，ξ为迭代开关因子，ρ是步长因子，β为惯性系数，λ为系数，为时变参数。
[0098]
在上述实施例的基础上，作为一种具体的实施方式，当所述光刻机工件台处于整定阶段时，所述前馈环节将所述光刻机工件台的实际误差与预设增益相乘得到所述前馈输出。
[0099]
在上述实施例的基础上，作为一种具体的实施方式，还包括：
[0100]
参数确定模块，用于根据对所述光刻机工件台进行扫频试验得到的波特图曲线，确定所述二阶抽象模型的参数；所述参数包括阻尼与弹性系数。
[0101]
在上述实施例的基础上，作为一种具体的实施方式，参数确定模块具体用于：
[0102]
采用支持向量回归模型对所述波特图曲线进行非线性拟合得到所述光刻机工件台的传递函数，并根据所述传递函数确定所述二阶抽象模型的参数。
[0103]
本技术还提供了一种光刻机工件台的内外扰动在线观测设备，参考图7所示，该设备包括存储器1和处理器2。
[0104]
存储器1，用于存储计算机程序；
[0105]
处理器2，用于执行计算机程序实现如下的步骤：
[0106]
根据光刻机工件台的二阶抽象模型，确定非线性扰动观测器的数学模型；获取所述光刻机工件台的实际位移与前馈-反馈控制器的输出信号；根据所述数学模型、所述实际位移与所述输出信号，计算得到光刻机工件台的总扰动估计值。
[0107]
对于本技术所提供的设备的介绍请参照上述方法实施例，本技术在此不做赘述。
[0108]
本技术还提供了一种计算机可读存储介质，该计算机可读存储介质上存储有计算机程序，计算机程序被处理器执行时可实现如下的步骤：
[0109]
根据光刻机工件台的二阶抽象模型，确定非线性扰动观测器的数学模型；获取所述光刻机工件台的实际位移与前馈-反馈控制器的输出信号；根据所述数学模型、所述实际位移与所述输出信号，计算得到光刻机工件台的总扰动估计值。
[0110]
该计算机可读存储介质可以包括：u盘、移动硬盘、只读存储器(read-only memory，rom)、随机存取存储器(random access memory，ram)、磁碟或者光盘等各种可以存储程序代码的介质。
[0111]
对于本技术所提供的计算机可读存储介质的介绍请参照上述方法实施例，本技术
在此不做赘述。
[0112]
说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。对于实施例公开的装置、设备以及计算机可读存储介质而言，由于其与实施例公开的方法相对应，所以描述的比较简单，相关之处参见方法部分说明即可。
[0113]
专业人员还可以进一步意识到，结合本文中所公开的实施例描述的各示例的单元及算法步骤，能够以电子硬件、计算机软件或者二者的结合来实现，为了清楚地说明硬件和软件的可互换性，在上述说明中已经按照功能一般性地描述了各示例的组成及步骤。这些功能究竟以硬件还是软件方式来执行，取决于技术方案的特定应用和设计约束条件。专业技术人员可以对每个特定的应用来使用不同方法来实现所描述的功能，但是这种实现不应认为超出本技术的范围。
[0114]
结合本文中所公开的实施例描述的方法或算法的步骤可以直接用硬件、处理器执行的软件模块，或者二者的结合来实施。软件模块可以置于随机存储器(ram)、内存、只读存储器(rom)、电可编程rom、电可擦除可编程rom、寄存器、硬盘、可移动磁盘、cd-rom、或技术领域内所公知的任意其它形式的存储介质中。
[0115]
以上对本技术所提供的光刻机工件台的内外扰动在线观测方法、装置、设备以及计算机可读存储介质进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本技术的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本技术的方法及其核心思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本技术原理的前提下，还可以对本技术进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本技术权利要求的保护范围。

技术特征：
1.一种光刻机工件台的内外扰动在线观测方法，其特征在于，包括：根据光刻机工件台的二阶抽象模型，确定非线性扰动观测器的数学模型；获取所述光刻机工件台的实际位移与前馈-反馈控制器的输出信号；根据所述数学模型、所述实际位移与所述输出信号，计算得到光刻机工件台的总扰动估计值。2.根据权利要求1所述的内外扰动在线观测方法，其特征在于，所述非线性扰动观测器的数学模型为的数学模型为为所述总扰动估计值，c为所述非线性扰动观测器的增益，m为所述光刻机工件台的等效质量，λ
c
为阻尼，λ
k
为弹性系数，k
p,motor
为比例增益，u
fb
为所述前馈-反馈控制器的输出信号，z为中间变量，x1为所述光刻机工件台的实际位移，x2为x1的一阶导数。3.根据权利要求2所述的内外扰动在线观测方法，其特征在于，所述前馈-反馈控制器的输出信号为反馈环节根据输出的信号；u
fb
为所述输出信号，k
p,pos
为位置环的比例增益，k
p,vel
为速度环的比例增益，k
i,vel
为速度环的积分增益，ε
*
(k)＝ε(k)+u
ff
(k)，ε为所述光刻机工件台位移的实际误差，u
ff
为前馈环节的前馈输出，v为所述光刻机工件台的移动速度，k为第k时刻。4.根据权利要求3所述的内外扰动在线观测方法，其特征在于，当所述光刻机工件台处于移动阶段时，所述前馈环节根据得到所述前馈输出；u
ff
为前馈环节的前馈输出，i为迭代次数，k为第k时刻，ε为所述光刻机工件台位移的实际误差，ξ为迭代开关因子，ρ是步长因子，β为惯性系数，λ为系数，为时变参数。5.根据权利要求1所述的内外扰动在线观测方法，其特征在于，当所述光刻机工件台处于整定阶段时，所述前馈环节将所述光刻机工件台的实际误差与预设增益相乘得到所述前馈输出。6.根据权利要求1所述的内外扰动在线观测方法，其特征在于，还包括：根据对所述光刻机工件台进行扫频试验得到的波特图曲线，确定所述二阶抽象模型的参数；所述参数包括阻尼与弹性系数。7.根据权利要求6所述的内外扰动在线观测方法，其特征在于，所述根据对所述光刻机工件台进行扫频试验得到的波特图曲线，确定所述二阶抽象模型的参数包括：采用支持向量回归模型对所述波特图曲线进行非线性拟合得到所述光刻机工件台的传递函数，并根据所述传递函数确定所述二阶抽象模型的参数。8.一种光刻机工件台的内外扰动在线观测装置，其特征在于，包括：确定模块，用于根据光刻机工件台的二阶抽象模型，确定非线性扰动观测器的数学模型；获取模块，用于获取所述光刻机工件台的实际位移与前馈-反馈控制器的输出信号；计算模块，用于根据所述数学模型、所述实际位移与所述输出信号，计算得到光刻机工
件台的总扰动估计值。9.一种光刻机工件台的内外扰动在线观测设备，其特征在于，包括：存储器，用于存储计算机程序；处理器，用于执行所述计算机程序时实现如权利要求1至7任一项所述的光刻机工件台的内外扰动在线观测方法的步骤。10.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现如权利要求1至7任一项所述的光刻机工件台的内外扰动在线观测方法的步骤。

技术总结
本申请公开了一种光刻机工件台的内外扰动在线观测方法，涉及光刻机技术领域，包括：根据光刻机工件台的二阶抽象模型，确定非线性扰动观测器的数学模型；获取所述光刻机工件台的实际位移与前馈-反馈控制器的输出信号；根据所述数学模型、所述实际位移与所述输出信号，计算得到光刻机工件台的总扰动估计值。该方法能够在线精确估计光刻机工件台的内外扰动。本申请还公开了一种光刻机工件台的内外扰动在线观测装置、设备以及计算机可读存储介质，均具有上述技术效果。具有上述技术效果。具有上述技术效果。


技术研发人员：章军辉 郭晓满 王静贤 陈明亮 董接莲 庄宝森 陈大鹏
受保护的技术使用者：无锡物联网创新中心有限公司
技术研发日：2023.06.29
技术公布日：2023/8/28