一种高纯锗谱仪样品支架的制作方法

1.本实用新型属于药品检测技术领域，具体涉及一种高纯锗谱仪样品支架。


背景技术：

2.高纯锗伽玛能谱仪，又称之为高纯锗(hpge)伽马γ能谱仪，它适用于衰变时发射出γ射线的放射性核素活度测量，可用于不同几何形状的固态和液态物质中40k、60co、137cs等核素识别及定量分析，不同核素衰变过程中发射出不同能量的γ射线，被高纯锗γ能谱仪探测并进行能量甄别，以能谱图的形式显示，通过分析能谱图，即可得知相应核素信息。
3.在定性分析的基础上，待检样品定量分析时除需与标准源样几何形状条件一致外，样品距离探头(圆柱状探头)顶端位置也应一致，理想状态下，样品应放置在探头顶端与柱状探测器保持同轴使其距离最短，获取最大探测效率，提高测量效率和结果准确度；
4.由于高纯锗γ能谱仪的探头是一个光滑的圆柱体结构，目前，检验人员在放置和调节待测样品位置时比较麻烦，特别容易放偏甚至会导致待测样品滑落，导致待测样品与探头无法同轴，且需要较长时间来调节二者的同轴度，短则半分钟，长则数分钟，在无支架固定情况下人工摆放待检样品引入的误差较大。
5.申请号为cn202221799125.1的中国专利公开了一种用于高纯锗γ能谱仪的样品定位支架，它包括用于套装在探头上的筒体，筒体内具体一挡部，挡部与筒体轴线垂直，套装在探头上的筒体内壁与探头呈小间隙配合，且探头顶壁抵靠在挡部下壁；筒体内部且位于探头上方的区域用于容纳待检样品，待检样品与筒体内壁呈小间隙配合，待检样品下端抵靠挡部上壁。本实用新型所述小间隙，是指间隙不大于1mm。
6.随着申请人的进一步研究，发现由于该技术方案中虽然能对样品进行基础性的探测分析，起辅助作用，但其定位支架为固定式，其放射点源与探头之间的垂直距离无法调节，探头在精度效验中，不能根据不同放射点源所要求的垂直距离而作调整，对此而产生不便，影响探头检测精度。


技术实现要素：

7.为了解决上述技术问题，本实用新型采用了如下技术方案：
8.一种高纯锗谱仪样品支架，包括向上开口的内筒，所述内筒底部设置有可套接于探头上的底座；
9.上下均开口的外筒，所述外筒中具有伸入所述内筒中的用于样品存放的容置腔；
10.凸起，位于所述容置腔与外筒之间，且所述凸起与外筒内壁相连接；
11.引导槽以及位于所述引导槽侧部的多组锁定槽，所述引导槽、锁定槽均开设有于所述内筒的周壁上，多组所述锁定槽沿引导槽竖直开设方向等间距分布。
12.进一步，所述内筒上端部开设有与所述凸起相配合的缺口。
13.进一步，所述凸起相对设置，在所述凸起位于引导槽内，且所述外筒与内筒发生相
对转动时，所述凸起进入锁定槽内。
14.进一步，所述容置腔呈向下隆起状。
15.进一步，所述锁定槽为三组。
16.进一步，所述底座内径不小于7.5cm。
17.本实用新型与现有技术相比，具有如下有益效果：
18.将样品放入容置腔内，通过本支架插装在探头上端，只需要很简单、轻松的操作步骤即可顺利地完成样品放置，方便将样品快速、准确地放置在探头上，相对于在无支架固定情况下人工摆放待检样品，对探头引入的误差较小，省去了繁琐地调节样品位置的工序，其结构简单，制造成本低；
19.外筒可套接在内筒的外周，通过向下移动外筒，使凸起沿引导槽设置方向移动，可使容置腔靠近探头处，达到调节支架高低的目的，进而使容置腔内放入的放射点源能与探头做校正工作要求相符合，其中，可通过转动外筒，以使凸起进入到锁定槽内，对支架长度、位置固定，多组锁定槽可对不同高度限定，以保证，符合不同放射点源与探头距离的需要。
附图说明
20.图1为本实用新型一种高纯锗谱仪样品支架实施例的立体结构示意图(视角一)；
21.图2为本实用新型一种高纯锗谱仪样品支架实施例的立体结构示意图(视角二)；
22.图3为本实用新型一种高纯锗谱仪样品支架实施例的剖视结构示意图；
23.图4为本实用新型实施例中内筒的立体结构示意图；
24.图5为本实用新型实施例中外筒的立体结构示意图；
25.说明书附图中的附图标记包括：
26.内筒1、引导槽10、锁定槽11、缺口12、底座13、外筒2、容置腔20、凸起21、探头3。
具体实施方式
27.为了使本领域的技术人员可以更好地理解本实用新型，下面结合附图和实施例对本实用新型技术方案进一步说明。
28.其中，附图仅用于示例性说明，表示的仅是示意图，而非实物图，不能理解为对本专利的限制；为了更好地说明本实用新型的实施例，附图某些部件会有省略、放大或缩小，并不代表实际产品的尺寸；对本领域技术人员来说，附图中某些公知结构及其说明可能省略是可以理解的，本实用新型实施例的附图中相同或相似的标号对应相同或相似的部件；在本实用新型的描述中，需要理解的是，若出现术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此附图中描述位置关系的用语仅用于示例性说明，不能理解为对本专利的限制，对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语的具体含义。
29.实施例：
30.如图1-图5所示，本实用新型的一种高纯锗谱仪样品支架，包括向上开口的内筒1，内筒1底部设置有可套接于探头3上的底座13；
31.上下均开口的外筒2，外筒2中具有伸入内筒1中的用于样品存放的容置腔20；
32.将样品放入容置腔20内，通过本支架插装在探头3上端，只需要很简单、轻松的操作步骤即可顺利地完成样品放置，方便将样品快速、准确地放置在探头3上，相对于在无支架固定情况下人工摆放待检样品，对探头3引入的误差较小，省去了繁琐地调节样品位置的工序，其结构简单，制造成本低；
33.凸起21，位于容置腔20与外筒2之间，且凸起21与外筒2内壁相连接；
34.引导槽10以及位于引导槽10侧部的多组锁定槽11，引导槽10、锁定槽11均开设有于内筒1的周壁上，多组锁定槽11沿引导槽10竖直开设方向等间距分布。
35.内筒1上端部开设有与凸起21相配合的缺口12，缺口12的设置以使凸起21进入引导槽10。
36.另外，凸起21可以为两个，需要相对设置，在凸起21位于引导槽10内，且外筒2与内筒1发生相对转动时，凸起21进入锁定槽11内，外筒2可套接在内筒1的外周，通过向下移动外筒2，使凸起21沿引导槽10设置方向移动，可使容置腔20靠近探头3处，达到调节支架高低的目的，进而使容置腔20内放入的放射点源能与探头3做校正工作要求相符合，其中，可通过转动外筒2，以使凸起21进入到锁定槽11内，对支架长度、位置固定，多组锁定槽11可对不同高度限定，以保证，符合不同放射点源与探头3距离的需要，其中，容置腔20呈向下隆起状，锁定槽11为三组，底座13内径不小于7.5cm。
37.以上的仅是本实用新型的实施例，方案中公知的具体结构及特性等常识在此未作过多描述，所属领域普通技术人员知晓申请日或者优先权日之前实用新型所属技术领域所有的普通技术知识，能够获知该领域中所有的现有技术，并且具有应用该日期之前常规实验手段的能力，所属领域普通技术人员可以在本技术给出的启示下，结合自身能力完善并实施本方案，一些典型的公知结构或者公知方法不应当成为所属领域普通技术人员实施本技术的障碍。应当指出，对于本领域的技术人员来说，在不脱离本实用新型结构的前提下，还可以作出若干变形和改进，这些也应该视为本实用新型的保护范围，这些都不会影响本实用新型实施的效果和专利的实用性。

技术特征：
1.一种高纯锗谱仪样品支架，其特征在于，包括：向上开口的内筒，所述内筒底部设置有可套接于探头上的底座；上下均开口的外筒，所述外筒中具有伸入所述内筒中的用于样品存放的容置腔；凸起，位于所述容置腔与外筒之间，且所述凸起与外筒内壁相连接；引导槽以及位于所述引导槽侧部的多组锁定槽，所述引导槽、锁定槽均开设有于所述内筒的周壁上，多组所述锁定槽沿引导槽竖直开设方向等间距分布。2.如权利要求1所述的一种高纯锗谱仪样品支架，其特征在于：所述内筒上端部开设有与所述凸起相配合的缺口。3.如权利要求1所述的一种高纯锗谱仪样品支架，其特征在于：所述凸起相对设置，在所述凸起位于引导槽内，且所述外筒与内筒发生相对转动时，所述凸起进入锁定槽内。4.如权利要求1所述的一种高纯锗谱仪样品支架，其特征在于：所述容置腔呈向下隆起状。5.如权利要求1所述的一种高纯锗谱仪样品支架，其特征在于：所述锁定槽为三组。6.如权利要求1-5中任一项所述的一种高纯锗谱仪样品支架，其特征在于：所述底座内径不小于7.5cm。

技术总结
本实用新型属于药品检测技术领域，具体涉及一种高纯锗谱仪样品支架，包括向上开口的内筒，所述内筒底部设置有可套接于探头上的底座；上下均开口的外筒，所述外筒中具有伸入所述内筒中的用于样品存放的容置腔；凸起，位于所述容置腔与外筒之间，且所述凸起与外筒内壁相连接；引导槽以及位于所述引导槽侧部的多组锁定槽，所述引导槽、锁定槽均开设有于所述内筒的周壁上，多组所述锁定槽沿引导槽竖直开设方向等间距分布，本实用新型解决了现有支架为固定式，其放射点源与探头之间的垂直距离无法调节，探头在精度效验中，不能根据不同放射点源所要求的垂直距离而作调整，对此而产生不便，影响探头检测精度的问题。影响探头检测精度的问题。影响探头检测精度的问题。


技术研发人员：邓洪
受保护的技术使用者：四川原子高通药业有限公司
技术研发日：2023.04.03
技术公布日：2023/8/26